「average height」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide toner which reduces pile height even in the case of a spherical toner and enables uniform transfer by specifying the relationship between the depths of creases in a toner surface and the frequency of heights, and specifying the relationship between particle diameter and average circularity.例文帳に追加

本発明は、トナー表面のシワの深さと頻度の関係を特定の範囲にし、かつ、粒径と平均円形度の関係を特定範囲とすることにより、真球状トナーであってもパイルハイトを低減し、かつ、均一な転写を可能とするトナーを提供することを課題とする。 - 特許庁

In the surface roughness of the metal foil having an excellent electric constant stability, the ratio of Ra/Sm between arithmetic average roughness height Ra obtained by measuring roughness in the direction where the mean spacing Sm of the ruggedness is the minimum and the mean spacing Sm of the ruggedness Sm, is to be not less than 0.001.例文帳に追加

表面粗さにおいて、凸凹の平均間隔Ｓｍが最小となる方向への粗さ測定により得られた、算術平均粗さＲａと凸凹の平均間隔Ｓｍの比率Ｒａ／Ｓｍが０．００１以上となることを特徴とする電気接点安定性に優れた金属箔。 - 特許庁

An ER effect can be effectively utilized by controlling the maximum height roughness (Rz), defined by JIS Z0601, of the surface of the electrode at a non-immobilized treatment side, to 1-0.001 mm, and the average length (RSm) of a rough curve element to 5-0.001 mm.例文帳に追加

また、非固定化処理がなされた側の電極の表面のＪＩＳ Ｚ０６０１に規定された最大高さ粗さ（Ｒｚ）が１〜０．００１ｍｍであって、粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）が５〜０．００１ｍｍであるとより効果的にＥＲ効果を利用することができる。 - 特許庁

The polishing projecting parts 14 form a three-dimensional structure having a substantially flat top face 20 having a fixed height which is more than twice as long as the average particle size of the abrasive grain 32, the bottom face 22 larger than the top face 20, and the curved face 24 for connecting the top face 20 and the bottom face 22.例文帳に追加

また、研磨凸部１４は、砥粒３２の平均粒径の２倍以上の一定の高さを有する略平坦な頂面２０と、その頂面２０よりも大きい底面２２と、それら頂面２０と底面２２とを接続する曲面２４とを有する三次元立体構造を成している。 - 特許庁

A molten thermoplastic resin is molded by using a mold wherein a heat insulating layer is provided at least at a part of the mold wall surface constituting a cavity and the center line average roughness (Ra) of the mirror surface part of the uppermost surface of the cavity is 0.1 μm or less and the maximum height (Rmax) thereof is 1.0 μm or less.例文帳に追加

キャビティを構成する型壁面の少なくとも一部に断熱層を有し、該キャビティ最表面の鏡面部分の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、最大高さ（Ｒｍａｘ）が１．０μｍ以下である金型を用いて、熱可塑性樹脂を溶融成形する。 - 特許庁

It is set so that the height position of the lower end of the bag member 14 when it is expanded and developed and in a state where the external force does not work comes to be 20cm to 35cm above a hip point HP when the hip point HP of the occupant J of the average figure is made a standard.例文帳に追加

平均体型の乗員ＪのヒップポイントＨＰを基準とした場合、膨張展開されたときでかつ外力が作用しない状態でのバッグ部材１４の下端の高さ位置が、ヒップポイントＨＰから２０ｃｍ〜３５ｃｍ上方となるように設定される。 - 特許庁

This block copy sheet for a lithographic printing plate is characterized in that the modulus of initial elasticity is 34×108 Pa or more and a center line average height Ra coming into contact with the back face of the lithographic printing plate is 2 μm or below and irregularities showing 0.05 or more Ra/Rz are formed on the surface.例文帳に追加

初期弾性率が３４×１０^8Ｐａ以上で、平版印刷版の裏面と接する面に中心線平均粗さＲａが２μｍ未満で、かつＲａ／Ｒｚが０．０５以上である凹凸を表面に設けたことを特徴とする平版印刷版用版下シート。 - 特許庁

The bag member 14 is set so that a height position of a lower end when it is expanded and developed and in a state where external force does not work comes to be on the upper side than a roughly lower end position R of a rib part of the occupant J of an average figure seated on the passenger seat 2.例文帳に追加

バッグ部材１４は、膨張展開されたときでかつ外力が作用しない状態での下端の高さ位置が、助手席２に着座された平均体型の乗員Ｊにおける肋骨部の略下端位置Ｒよりも上側となるように設定される。 - 特許庁

The diamond coated electrode is the electrode composed of the substrate and the diamond layer coated on the substrate, in which the substrate is silicon, the maximum height Rmax of the surface roughness of the substrate is 0.1 to 10 μm and the average roughness Ra is ≥0.05 μm.例文帳に追加

基板および該基板に被覆したダイヤモンド層からなる電極において、基板がシリコンであり、基板の表面粗さの最大高さＲｍａｘが０．１〜１０μｍであり、平均粗さＲａが０．０５μｍ以上であることを特徴とするダイヤモンド被覆電極である。 - 特許庁

In the secondary battery wherein a negative electrode and a positive electrode for occluding and discharging lithium are faced with each other via a separator and a nonaqueous electrolyte including a nonaqueous solvent and lithium salt is prepared, either of arithmetic average roughness Ra, maximum height Ry, and ten-point average roughness Rz on the negative-electrode side surface and the positive-electrode side surface of the separator is different between both surfaces.例文帳に追加

リチウムを吸蔵・放出することが可能な負極及び正極がセパレータを介して対向させてなり、非水系溶媒及びリチウム塩を含有する非水系電解質を備えた二次電池であって、前記セパレータの負極側表面と正極側表面の算術平均粗さＲａ、最大高さＲｙ、十点平均粗さＲｚのうちのいずれかを両側表面間で異ならせていることを特徴とする非水系リチウム二次電池からなる。 - 特許庁

The structure is extended while including a peak part (11p) and a sink part (11d) by changing the height of the ridge line (11L) at positive and negative inclination slopes of a prescribed range equally, and includes the diffusion surface (12f) having the total average slope angle of ±10° or more on the surfaces at both sides of the ridge line (11L).例文帳に追加

構造体は、稜線（１１Ｌ）が正負均等に所定範囲の傾斜勾配にて高さが変化することでピーク部（１１ｐ）、並びに沈み部（１１ｄ）を有しながら伸びると共に、稜線（１１Ｌ）の両側の表面にそれぞれ、全体の平均勾配角度がプラスマイナス１０°以上の拡散面（１２ｆ）を有する。 - 特許庁

The mold structure comprises a disk substrate and a rugged pattern formed on one surface of the substrate by arranging a plurality of projections, wherein a ratio [(Rz/H)×100] of a ten-point average roughness at the top of the projection to the height H of the projection ranges from 10% to 50%.例文帳に追加

円板状の基板と、該基板の一方の表面に複数の凸部が配列されたことによって形成された凹凸部を有するモールド構造体であって、前記凸部における頂部の１０点平均粗さＲｚと、凸部の高さＨとの比率〔（Ｒｚ／Ｈ）×１００〕が１０％〜５０％であるモールド構造体である。 - 特許庁

In a water stop tape prepared by forming a water-absorbing layer 2 containing water-absorbing resin particles and a rubber type binder on the surface of a support 1 made of a nonwoven fabric, the ten-point average roughness (Rz) of the surface of the layer 2 is at most 75 μm, and the maximum height (Ry) is at most 100 μm.例文帳に追加

不織布からなる支持体１の表面に、吸水樹脂粒子とゴム系バインダーとを含む吸水層２が形成されてなる止水テープにおいて、前記吸水層２の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が７５μｍ以下であり、最大高さ（Ｒｙ）が１００μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The heights of respective points are obtained by using the single color light (B, G, R) of a plurality of wavelengths and performing adaptation to an interference fringe model from interference images obtained from a measurement object surface and a reference surface indicated by luminance of each wavelength number with an average luminance, an interference modulation degree and the height of the point as unknown parameters.例文帳に追加

複数の波長の単色光（Ｂ、Ｇ、Ｒ）を用いて、平均輝度、干渉変調度および点の高さを未知パラメータとして、波長番号ごとの輝度であらわされる測定対象面と参照面から得られる干渉画像から、干渉縞モデルと適合することにより各点の高さを求める。 - 特許庁

This invention provides the opto-electronic device which includes a first electrode deposited on a substrate, and a surface from which the first electrode is exposed, having square average roughness of at least 30 nm and height change amount of at least 200 nm, wherein the first electrode is transparent, and provides the method for manufacturing the device.例文帳に追加

基板上に蒸着された第１電極、少なくとも３０ｎｍの二乗平均粗さ及び少なくとも２００ｎｍの高さ変化量を有する第１電極の露出された表面を含み、第１電極は透明であるようなオプトエレクトロニックデバイス及びオプトエレクトロニックデバイスを作製する方法。 - 特許庁

This biaxially oriented polyester film having many fine protrusions formed on the ground surface portions, characterized in that the fine protrusions contain the protrusions having heights of 3 to 5 nm in the total protrusion number of 3,000,000 to 100,000,000 protrusions/mm2 and in that the average size of grains is 10 to 100 nm, when the height threshold value of the protrusions is 3 nm.例文帳に追加

表面の地肌部分に微細な突起が多数形成された二軸配向ポリエステルフィルムであって、該微細突起は、突起高さが３〜５ｎｍである突起の総突起個数が３００万〜１億個／ｍｍ^2であり、かつ、突起の高さのしきい値が３ｎｍの時のグレインサイズの平均値が１０〜１００ｎｍである。 - 特許庁

In the tool 1 surrounding the neck, a plurality of cushion materials 2, 3 are freely inserted into a part or to an average thickness and height from insertion ports K, K' depending on the purpose of use as a muffler or the pillow, the insertion ports K, K' are made inward 4, and the insertion ports are always made into naturally closed states during use.例文帳に追加

首回り用具１は、襟巻き、又は枕の使用目的によって、挿入口Ｋ、Ｋ′からクッション材２、３の複数枚を１部に、又は平均的な厚さ高さに自由に挿入して、使用中は、挿入口Ｋ、Ｋ′を内側４にして、常時、挿入口が自然に閉じられた状態にする。 - 特許庁

With a background in high quality iron ore production, Bilbao originally developed into a city of iron manufacturing in the late 19th century. Later it reached the height of its prosperity during the 1950s and 1960s, mainly in heavy industries including shipbuilding and petrochemical industry. The economic growth was such that its income level became as high as 40 percent above the national average.例文帳に追加

元は良質な鉄鉱石の産出を背景に19世紀後半から製鉄の町として発展したビルバオは、その後も造船、石油化学工業等の重工業を中心に、1950～1960年代にかけて最盛期を迎え、所得水準が国内平均を40％も上回るほどの経済成長を達成した。 - 経済産業省

In the magnetic substrate in which a macromolecular compound is imparted to the surface of a thin magnetic sheet metal, the ratio of the 10-point average height Rtm, measured on the basis of JIS B 0651, of the surface of the magnetic substrate to the Rtm of the surface of a macromolecular compound layer is adjusted to <1.0.例文帳に追加

磁性金属薄板の表面に高分子化合物が付与されている磁性基材において、ＪＩＳ Ｂ ０６５１に基づいて測定される１０点平均粗さＲｔｍについて、磁性基材表面のＲｔｍの高分子化合物層表面に対するＲｔｍの比が１．０未満であることを特徴とする磁性基材を用いる。 - 特許庁

The method for forming a light-receiving member includes forming a light-receiving layer made of an amorphous material essentially comprising silicon atoms as a mother material on the surface of a cylindrical substrate by a vapor phase growth method, wherein the arithmetic average height Ra of the outer surface of an assist substrate is 0.1 μm or more and less than 1.0 μm.例文帳に追加

気相成長法により、円筒状の基体の表面にケイ素原子を母材とする非晶質材料からなる光受容層を形成する光受容部材の形成方法において、補助基体の外面の算術平均高さＲａが、０．１μm以上、１．０μm未満であることを特徴とする光受容部材の形成方法。 - 特許庁

The antiglare film comprises a particle-containing protective layer deposited on the surface of a transparent film, wherein the protective layer is formed by curing a resin composition containing aggregated particles having an average particle size of 50 to 600 nm, and the layer surface has a maximum height roughness Ry of 1 to 3.2 μm and image clarity property of ≥18%.例文帳に追加

透明フィルム表面に粒子含有保護層が積層されて構成される防眩フィルムであって、保護層が、平均粒径５０〜６００ｎｍの凝集粒子を含む樹脂組成物を硬化させて得られる層であり、その表面において１〜３．２μｍの最大高さ粗さＲｙを有し、かつ１８％以上の写像性を有してなる防眩フィルム。 - 特許庁

The suppor for the magnetic recording medium has a layer (layer M) containing a metal based inorganic compound, formed on at least one surface of a polyester film, wherein the layer M has 50 to 200 nm thickness, at least the one layer M has 15 to 40 nm arithmetic average roughness Ra and 150 to 300 nm maximum sectional height Rt.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属系無機化合物を含む層（Ｍ層）が設けられ、Ｍ層の厚みが５０〜２００ｎｍである磁気記録媒体用支持体であって、少なくとも一方のＭ層の算術平均粗さＲａが１５〜４０ｎｍであり、最大断面高さＲｔが１５０〜３００ｎｍである磁気記録媒体用支持体とする。 - 特許庁

The antiglare film is formed by laminating the particle-containing protective layer on the surface of the transparent film, wherein the protective layer is obtained by curing a resin composition containing a floc with an average particle diameter of 50-600 nm, and has a maximum height roughness Ry of 1-3.2 μm on the surface and an image clarity of 18% or more.例文帳に追加

透明フィルム表面に粒子含有保護層が積層されて構成される防眩フィルムであって、保護層が、平均粒径５０〜６００ｎｍの凝集粒子を含む樹脂組成物を硬化させて得られる層であり、その表面において１〜３．２μｍの最大高さ粗さＲｙを有し、かつ１８％以上の写像性を有してなる防眩フィルム。 - 特許庁

Difference in height in the ruggedness of the friction surface 6 is constituted so that the ruggedness of the friction surface 6 is remained at a state that a toner is fixed on the friction surface 6 by setting average diameter of particles of the urethane beads to 5 μm to 80 μm larger than 0.1 μm to 1 μm in wet toner particles and 2 to 5 μm in dry toner particles.例文帳に追加

ウレタンビーズの平均粒子径を、湿式のトナー粒子の粒径０．１μｍ〜１μｍ、及び乾式のトナー粒子の粒径２〜５μｍ以上の５μｍ〜８０μｍに設定し、摩擦面６の凹凸における高低差が、当該摩擦面６にトナーが定着された状態で、摩擦面６の凹凸を残存させるように構成する。 - 特許庁

In the process for manufacturing an armature, an armature core having a plurality of coils arranged circumferentially is constituted and coils are formed by winding a wire on the opposite side faces on the coil side on teeth having a surface substantially parallel with the coil side boundary surface and a level difference of a height substantially equal to an integer times of the average thickness of each layer of the coil.例文帳に追加

コイルを円周状に複数配列した電機子のコアを構成し、コイルサイド側の両側面に、コイルサイド境界面と略平行な面、及びコイルの各層の平均の厚みの整数倍と略等しい高さの段差を有するティース上に、電線を巻回してコイルを形成することを特徴とする電機子の製造方法。 - 特許庁

In this printed wiring board on which a conductive circuit is formed by utilizing the electrophotographic method, the center-line average height of the surface of a used laminate is adjusted to ≤0.30 μm, and the heights of abnormal projections on the surface are suppressed to ≤0.7 of the thickness of the photosensitive layer.例文帳に追加

電子写真法を利用して導電性回路が形成されるプリント配線板に於いて、使用される積層板の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３０μｍ以下であり、該積層板表面上の異常突起の高さが感光層の膜厚の０．７倍以下の高さであることを特徴とするプリント配線板の製造方法 - 特許庁

Simultaneously, the center line average height of roughness (Ra) of the sheet surface is made to 0.05 to 0.5 μm.例文帳に追加

効率的な製造方法として、板表面の平均粗さを冷間圧延あるいは加熱焼鈍後のスキンパス圧延や矯正などの加工によって上記範囲に制御するとともに、冷間圧延板を洗浄した後に窒素ガス中にて７５０〜８３５℃で１〜６０秒加熱することによって式（１）の値が４〜１０の表面窒化に制御すると同時に焼鈍を成し得る。 - 特許庁

The crime prevention method comprises installing the markers 100 which have spacings in a vertical direction and are constituted as a plurality of separate bodies stated with numerical values indicating the heights corresponding to respective height positions within the average heights of adults on a wall or door of a building or the surface of the building.例文帳に追加

本発明の防犯方法は、建物の壁或いはドアその他の建具の表面上における成人の平均身長を含む高さ範囲に、上下方向に間隔を有して、各々その高さ位置に対応する身長を表す数値が記載されている複数の別体に構成された標識体１００を設置することを特徴とする。 - 特許庁

An arithmetical means irregularity Ra on at least one surface of the alloy plate is 0.08-0.2 μm, an average space Sm between irregularities is 25-60 μm, a ten point height of irregularities Rz is 0.3-1.0 μm and an average space between local peaks is 10-20 μm.例文帳に追加

Ｃｒ １５〜３０質量％、Ａｌ ０．０３〜０．４質量％、Ｓｉ０．０１〜０．５質量％、Ｔｉ ０．０１〜０．６質量％、Ｎ ０．０２質量％未満およびＣ ０．０４質量％未満を含み、残部が実質的にＦｅからなる合金板であって、前記合金板の少なくとも一方の表面における算術平均粗さＲａが０．０８〜０．２μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが２５〜６０μｍ、十点平均粗さＲｚが０．３〜１．０μｍかつ局部山頂の平均間隔Ｓが１０〜２０μｍであるもの。 - 特許庁

The method of manufacturing a glass substrate for magnetic disk having the touch-down-height of ≤6 nm, including polishing the surface by a plurality of polishing processes, is designed to use a diamond pellet to polish the surface of te glass substrate, to obtain the glass substrate whose average maximum microwaviness is ≤3.5 nm and the maximum surface roughness is ≤6 nm.例文帳に追加

複数のポリッシング工程により表面を研磨する処理を含むタッチダウンハイトが６ｎｍ以下とされる磁気ディスク用の結晶化ガラス基板の製造方法であって、ダイヤモンドペレットを使用して、ガラス基板の表面をポリッシングすることにより、微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であるガラス表面を得ることを特徴とする。 - 特許庁

The surface of the amorphous alumina film 2 formed on a Al2O3-TiC based ceramic substrate 1 is subjected to polishing treatment using a polyester based polishing pad 11 by CMP while supplying cerium oxide slurry to the surface to smooth the surface roughness of the amorphous alumina film 2 to be <1 Å arithmetic average roughness (Ra) and <20 Å maximum height (Ry).例文帳に追加

Ａｌ_2Ｏ_3−ＴｉＣ系セラミック基板１上に成膜したアモルファスアルミナ膜２の表面を酸化セリウムスラリーを供給しながらポリエステル系の研磨パッド１１を用いてＣＭＰによって研磨加工することにで、アモルファスアルミナ膜２の表面粗度を算術平均粗さ（Ｒａ）で１Å未満、最大高さ（Ｒｙ）で２０Å未満と非常に平滑にする。 - 特許庁

In a substrate for a solar battery, the square average value Ra of roughness height on a surface coming into contact with a photoelectric conversion layer is ≤70 nm, especially an active layer of at least one photoelectric conversion element consists of non-monocrystal silicon or non-monocrystal silicon alloy and the photoelectric conversion layer is formed by laminating a plurality of unit cells.例文帳に追加

光電変換層に接する表面の凹凸高さの二乗平均値Ｒａが７０ｎｍ以下である太陽電池用基板、特にそのうち、少なくとも１つの光電変換素子における活性層が非単結晶シリコンもしくは非単結晶シリコン合金であるとか、光電変換層が単位セルを複数個積層して形成された太陽電池用基板などを提供する。 - 特許庁

The porous film made of polyolefin comprises a polyolefin having <300,000 viscosity average molecular weight (Mv), a polyolefin having ≥500,000 Mv and electrochemically inert particles larger than film thickness as essential components and satisfies the formula 0<A/B×100<25 between a height A (μm) of a part in which the particles are protruded from a film surface and a film thickness B (μm).例文帳に追加

粘度平均分子量（Ｍｖ）が３０万未満であるポリオレフィンと、Ｍｖが５０万以上であるポリオレフィン及び、膜厚より大きい電気化学的不活性粒子を必須成分とし、前記粒子が膜表面から突出した部分の高さＡ（μｍ）と、膜厚Ｂ（μｍ）との間に、０＜Ａ／Ｂ×１００＜２５が成り立つことを特徴とする、ポリオレフィン製微多孔膜。 - 特許庁

Subsequently, electronic components are successively be mounted, and the CPU calculates an average value of the height level of three measuring points measured and stored in a RAM before mounting the components, the descending distance of the suction nozzle is calculated on the basis of a result of calculation, and a holder rotating motor is controlled so that the distance is lowered to mount the electronic component on a mounting point.例文帳に追加

次いで、順次電子部品の実装が開始されるが、部品装着前に３点の測定点の測定されてＲＡＭに格納されている高さレベルの平均値をＣＰＵが算出し、この算出結果に基づいて吸着ノズルの下降距離を算出し、その距離を下降させるようにホルダ回転モータを制御して装着点に電子部品を装着する。 - 特許庁

The optical fiber production apparatus is characterized in that the first, second, and swing guide rollers 7, 9, and 8 around which a primary coated optical fiber 6 passes have surface states satisfying the arithmetic mean roughness Ra≤0.5 μm, the maximum height Ry≤2.7 μm, and the ten-point average roughness Rz≤1.4 μm.例文帳に追加

光ファイバ線引き工程で、被覆材をガラス転移温度以上の温度で第１、第２固定ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８を通過させる光ファイバの製造方法であって、光ファイバ素線６が通過する第１、第２ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８の表面状態は、算術平均粗さＲａ≦０．５μｍ、かつ、最大高さＲｙ≦２．７μｍ、かつ、十点平均粗さＲｚ≦１．４μｍの条件を満たす光ファイバの製造方法。 - 特許庁

At least the surface of the actual working part of the member is covered with a hard film, and when the average film thickness of the hard anodic oxide coating in the actual working part is Tave, and the maximum height from the substrate surface to the projecting surface is Tmax, Tmax/Tave is 1 to 1.3.例文帳に追加

硬質皮膜被覆小径部材の基体は、ＷＣの平均結晶粒径が０．９μｍ以下、Ｃｏ含有量が２〜１３質量％、該Ｃｏ中にＣｒがＣｏの１．５〜１２質量％含有されているＷＣ基超硬合金であり、前記部材の少なくとも実作用部の表面に硬質皮膜が被覆され、該実作用部における該硬質皮膜の平均膜厚をＴａｖｅ、基体表面から突起表面までの最大高さをＴｍａｘとした時、Ｔｍａｘ／Ｔａｖｅが１〜１．３であることを特徴とする硬質皮膜被覆小径部材である。 - 特許庁

Further, the Ni is preferred to have convex parts of an average height within the range of 0.5 to 25% of a grain size of the base material particulates for making the outermost Au layer protrude, and the anisotropic conductive material uses the conductive particulates.例文帳に追加

球状の基材微粒子の表面にＮｉ層が形成され、更に最外層にＡｕ層が形成されてなる導電性微粒子であって、上記Ｎｉ層中にＡｇ、Ｃｕ及びＣｏから選ばれる少なくとも１種の金属（Ｍ）を含有してなる導電性微粒子、好ましくは上記Ｎｉ層中の金属（Ｍ）は、Ｎｉ層を海成分、金属（Ｍ）を島成分とする海島構造として存在するものである導電性微粒子、好ましくは上記Ｎｉ層は、基材微粒子の粒子直径に対し０．５〜２５％の範囲内に収まる平均高さの、最外層のＡｕ層を突出させる凸部を有し、上記凸部に金属（Ｍ）を含有してなるものである導電性微粒子、該導電性微粒子を用いてなる異方性導電材料。 - 特許庁

3) 100 microvolts per meter at a point on a glide path (refers to a virtual straight line obtained by taking the average of selected loci that are closest to the runway centerline or its extended line among the loci of points of which DDM based on the horizontal polarization wave of a radio wave transmitted by a glide slope on a vertical plane including a runway; hereafter the same shall apply) and a point on a straight line connecting a point at a height of 6 meters above the horizontal plane including a runway approach end and a point vertically 4 meters above a touch-down point (which refers to appoint 300 meters above the runway centerline from a runway approach end to runway end (which refers to the end of a runway on the opposite direction of a runway approach end; the same shall apply in this Article); the same shall apply in this Article), and a point above vertically 4 meters from a point on the runway centerline from the touch-down point to the center point of runway end. 例文帳に追加

（三）　グライドパス（滑走路の中心線を含む鉛直面においてグライドスロープ装置が発射する電波の水平偏波によるＤＤＭが零となる点の軌跡のうち滑走路の中心線又はその延長線に最も近接したものを平均化し、直線とみなしたものをいう。以下同じ。）上の点であつて滑走路進入端を含む水平面から六メートルの高さにある点と接地点（滑走路進入端から滑走路終端（滑走路進入端と反対側の滑走路末端をいう。以下この条において同じ。）の側に滑走路の中心線上三〇〇メートルの点。以下この条において同じ。）の垂直上方四メートルの点を結ぶ直線上の点及び接地点から滑走路終端の中心点までの滑走路の中心線上の点の垂直上方四メートルの点において、毎メートル一〇〇マイクロボルト - 日本法令外国語訳データベースシステム