「defect position」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The presence or absence of a defect in a wiring pattern is confirmed by visual observation, image processing, or the like; defect information on the position, coordinates, size, or the like is confirmed, and the type of the defect is determined; when the defect is detected; and a machining method and machining conditions are set according to the type and state of the defect (step S1).例文帳に追加

目視又は画像処理等により配線パターンの欠陥の有無を確認し、欠陥を検出した場合は、その位置、座標及び大きさ等の欠陥情報を確認すると共に欠陥の種類を判定し、欠陥の種類及び状態に応じて加工方法及び加工条件を設定する（ステップＳ１）。 - 特許庁

An evaluation part 81 evaluates the presence of the defect in the inspection portion of the infrared cut-off filter 10, based on a digital image obtained therein, and records a state of the defect such as a position and a size a shape of the defect, in an HDD 82, when the defect exists.例文帳に追加

このとき得られるデジタルな画像をもとに、評価部８１は赤外カットフィルタ１０の検査部分に欠陥があるか否かを評価し、欠陥がある場合には、その欠陥の位置、大きさ、形状などの欠陥の状態をＨＤＤ８２に記録する。 - 特許庁

To obtain a defective image even when a defect is present under an optically transparent film, in the case where the defect is observed by using an SEM based on defect position data outputted from a defect inspection device by an optical means.例文帳に追加

光学的手段による欠陥検査装置により出力された欠陥位置データに基づいてＳＥＭを用いて該欠陥を観察する場合において、該欠陥が光学的に透明な膜の下に存在する場合でも、欠陥画像の取得を行えるようにする。 - 特許庁

Accordingly, the defect correction method of the defective part is generated based on the position information, characteristic information, defect classification, and substrate design information of the defective part so as to make the defect correction by operating a defective correction mechanism 4 based on the generated defect correction method.例文帳に追加

そして、欠陥部位の位置情報、特徴情報、欠陥種別及び基板設計情報に基づいて欠陥部位の欠陥修正方法を生成し、生成された欠陥修正方法に基づき欠陥修正機構４を動作させて欠陥修正を行う。 - 特許庁

The high resistance region 40 includes a first crystal defect region D1 having a peak of a defect amount nearby an interface S1 of the anode region 50 and a second crystal defect region D2 having a peak of a defect amount nearby a thickness-directional intermediate position M.例文帳に追加

高抵抗領域４０は、アノード領域５０との界面Ｓ１近傍に欠陥量のピークを持つ第１結晶欠陥領域Ｄ１と、厚み方向の中間位置Ｍ近傍に欠陥量のピークを持つ第２結晶欠陥領域Ｄ２を有している。 - 特許庁

To detect a moving body by clearing verifying the presence and position of a defect without stopping the moving body.例文帳に追加

動体を停止させることなくその欠陥の存在及びその位置を明白に確認して検出する。 - 特許庁

Then a customer is shown that the latent defect of the material is detected at the specific coordinate position.例文帳に追加

次いで、潜在的な材料の欠陥が所定の座標位置において検出されたことをカスタマに示す。 - 特許庁

To reduce a position detection error arising from stain on a scale or a defect in a grating by simple calculation.例文帳に追加

簡単な計算で、スケールの汚れや格子の欠陥により発生する位置検出誤差を低減する。 - 特許庁

A movable element is then moved to a new measurement position (23) and the overall image defect is measured (21) once again.例文帳に追加

そして可動部材を新たな測定位置(23)に動かして、全体的結像収差を再度測定する(21)。 - 特許庁

The position of the defect in the mask can be found by scanning a smaller region in the pattern.例文帳に追加

マスクの欠陥の位置は、パターンのより小さい領域を走査することによって発見することができる。 - 特許庁

To improve defect detection position accuracy while suppressing the deflection of a substrate that is used for a flat panel.例文帳に追加

フラットパネルに用いられる基板の撓みを抑制しつつ欠陥検出位置精度を向上させる。 - 特許庁

In an image processing part 12 of this radiation image photographing apparatus 10, a defect detection part 24 detects a black defect of a radiation image, and makes a storage part 28 store a position of the black defect satisfying a prescribed condition.例文帳に追加

放射線画像撮影装置１０の画像処理部１２では、欠陥検出部２４が放射線画像の黒欠陥を検出し、所定の条件を満たした黒欠陥の位置を記憶部２８に記憶させる。 - 特許庁

To provide a defect detection method capable of acquiring accurately information of the form and the position of a defect from the outside in a layered product after laminating a metal layer, concerning the defect existing inside the layered product.例文帳に追加

積層体の内部に存在する欠陥を、金属層を積層した後の積層体において、その外部から欠陥の形態及び位置の情報を精度良く把握するという、欠陥の検出方法を提供する。 - 特許庁

In an image signal processing device, a defect detection circuit 12 compares the image signal of a target pixel with the image signal of surrounding pixels thereof to detect a pixel defect candidate, and stores the address information of the pixel defect candidate in a position memory circuit 13.例文帳に追加

欠陥検出回路１２で目標画素の画像信号を周辺画素の画像信号と対比して画素欠陥候補を検出し、画素欠陥候補のアドレス情報を位置メモリ回路１３に記憶する。 - 特許庁

A first redundant memory cell is used when first defective position information indicating a position of defect is programmed in a first redundant program part.例文帳に追加

第１冗長メモリセルは、不良の位置を示す第１不良位置情報が第１冗長プログラム部にプログラムされたときに使用される。 - 特許庁

A concentration distribution generation method and a process simulator perform a defect amount calculation procedure to calculate a defect amount Q_I per unit area of defects introduced to a semiconductor substrate by ion implantation and a defect position calculation procedure to calculate a position d_I to position by condensing a defect concentration distribution in an ion implantation concentration distribution by the ion implantation with a computer and treat the defect concentration distribution like a delta function.例文帳に追加

上記課題は、コンピュータが、イオン注入によって半導体基板に導入される欠陥の単位面積当たりの欠陥量Ｑ_Ｉを算出する欠陥量算出手順と、前記イオン注入によるイオン注入濃度分布において欠陥濃度分布を凝集させて位置付ける位置ｄ_Ｉを算出する欠陥位置算出手順とを実行し、前記欠陥濃度分布をデルタ関数的に扱うことにより達成される。 - 特許庁

When a plurality of defect candidates are detected by a first automatic inspection, the distance between the defect candidates is calculated, a defect candidate existing within a fixed distance determined by a visual field size and magnification are grouped as a group of defect candidates, and a visual field position is determined for performing a second inspection so that all defect candidates included one group of defect candidates enter one visual field.例文帳に追加

第１の自動検査により欠陥候補が複数検出された際に、欠陥候補間の距離を計算し、視野サイズや倍率から決められる一定距離以内に存在する欠陥候補をひとつの欠陥候補群としてグルーピングし、一の欠陥候補群に含まれる全ての欠陥候補が一視野に入るように視野位置を決めて第２の検査を行うようにする。 - 特許庁

A defect image in which the image of the wiring board to be inspected is picked up is collated with a reference image without any defect to detect the defects; the defect correcting method is read and selected from the database based on the position of the detected defect in the wiring board, and the defect is corrected based on the selected defect correcting method.例文帳に追加

そして、検査対象の配線基板を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出し、その検出された欠陥の配線基板内における位置に基づいて、データベースから欠陥修正手法を読み出して選定し、その選定された欠陥修正手法に基づき欠陥の修正を実行することを特徴とする。 - 特許庁

In the event of positional slippage, an area where no defect pixel data are present is estimated for the visible image from an area where detect pixel data are present, and this position is also taken as defect pixel data.例文帳に追加

位置ずれが生じ可視画像に対して欠陥画素データが存在しない領域を、存在する領域から推測し、その位置も欠陥画素データとする。 - 特許庁

In addition, a defect of the green sheet 14 does not expand beyond a sheet interface, thereby reducing possibility of a defect occurring on the same position on the green sheets 14 and 14.例文帳に追加

また、グリーンシート１４の欠陥がシート界面を超えて増長することはなく、グリーンシート１４，１４において同位置に欠陥が生じる確率も低く抑えられる。 - 特許庁

To provide an electron microscope capable of automatically detecting a defect and observing high resolution without requiring to specify a defect position by using an inspection device in advance.例文帳に追加

予め検査装置を用いて欠陥位置を特定する必要なく、欠陥の検出及び高分解能観察を自動的に行うことのできる電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide an optical device defect inspection method and an optical device defect inspecting apparatus which is not affected by the difference in the curvature or the position of optical device, and which is high-speed and low cost.例文帳に追加

曲率の違いや光学デバイスの位置に影響されない高速かつ安価な光学デバイス欠陥検査方法及び光学デバイス欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

If the position of the defect measured with the wafer inspection device agrees with a vacancy-rich region of the wafer, the kind of the defect is determined as being not particles.例文帳に追加

前記ウェーハ検査装置によって測定された前記欠陥の位置が前記ウェーハのベイカンシ−リッチ領域に該当するなら、前記欠陥の種類がパーチクルでないと判定する。 - 特許庁

Namely, the crystal defect layer 25 in the active region 20 is formed at a shallower position from a surface than the crystal defect layer 25 in the non-active region 40.例文帳に追加

すなわち、活性領域２０における結晶欠陥層２５は、非活性領域４０における結晶欠陥層２５よりも表面からみて浅い位置に形成されている。 - 特許庁

To provide a dressed building plate capable of not making a defect position conspicuous and easily repairing it even if the defect is generated on a design pattern formed by ink jet coating.例文帳に追加

インクジェット塗装により形成された意匠模様に欠陥が生じてもこの欠陥箇所を目立たず容易に補修することが可能な化粧建築板を提供する。 - 特許庁

Further, if the colored coating film 2 is provided on the coating defect position 4, the design pattern at the defect position is made unclear and inconspicuous and an observer extremely hardly recognizes that repairing is performed.例文帳に追加

また、塗装欠陥箇所４に着色塗膜２を設ければ、欠陥箇所における意匠模様を不鮮明化して目立たなくすると共に補修を行ったことを看者が認識することは著しく困難となる。 - 特許庁

To measure the position of a defect by a device of a simple structure dispensing with the positioning of two cameras or calibration when measuring the thickness-wise position of the defect in a transparent plate-like body.例文帳に追加

透明性を有する板状体中の欠陥の、板状体の厚さ方向の位置を測定する際、２台のカメラの位置合わせやキャリブレーションを必要としない、簡易な構成の装置で欠陥の位置を測定する。 - 特許庁

The method includes a step to electronically access position data specifying a place of defect on a composite structure, and a step to make the material stationing machine automatically returning to the place of defect specified by the position data.例文帳に追加

方法は、複合構造上の欠陥の場所を規定する位置データに電子的にアクセスするステップと、材料配置機械が位置データによって規定された欠陥の場所に自動的に戻るようにさせるステップとを含む。 - 特許庁

To shorten the access processing time when a defect region exists between a current position of a pickup and a target position, by omitting a process resetting from defocusing and tracking drift in the defect region.例文帳に追加

ピックアップ現在位置と目標位置の間にディフェクト領域が存在した場合、ディフェクト領域におけるフォーカス外れおよびトラッキング流れからの復帰処理を省略することにより、アクセス処理時間を短縮すること。 - 特許庁

In the determining section 34 determines the existence of defects in panel images P1-P3 obtained by imaging are detected, its position is detected and the defect position information is stored, being associated with the panel images P1-P3 which have detected the defect.例文帳に追加

判定部３４では、撮像により得られたパネル画像Ｐ１〜Ｐ３における欠陥の有無及びその位置を検出し、その欠陥位置情報を検出したパネル画像Ｐ１〜Ｐ３に対応付けて記憶する。 - 特許庁

To provide a defect marking device for a film and a defect marking method capable of reducing man-hours for visual inspection without lowering yield by improving greatly marking accuracy on a defect position in comparison with a conventional technology, and by marking on a fine defect itself.例文帳に追加

従来技術に比べて欠陥位置へのマーキング精度を飛躍的に向上することで歩留りを下げることなく、かつ、微小欠陥そのものにマーキングすることで目視検査の工数を削減できるフィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect detection apparatus and a defect detection method for detecting the defect of an object to be inspected reliably by applying light for detecting defects to the site of the object to be detected whose position is regulated reliably, and for miniaturizing the entire defect detection apparatus.例文帳に追加

位置が確実に規制される検査対象物の部位に欠陥検出用の光を照射して、検査対象物の欠陥を確実に検出することができ、しかも欠陥検出装置全体の小型化を図ることができる欠陥検出装置および欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

For example, the bevel defect is correlated with the other surface defects 103a-103d and the reverse surface defect 104, by projecting a position of the bevel defect in projection points 105a-105f, in the composition image 100.例文帳に追加

例えば、合成画像１００では、ベベル欠陥と他の表面欠陥１０３ａ〜１０３ｄおよび裏面欠陥１０４との関連付けは、ベベル欠陥の位置を投影点１０５ａ〜１０５ｆに投影することによりなされている。 - 特許庁

To improve throughput without increasing the time required for wafer alignment when the data concerning defect position obtained from a plurality of defect inspection devices with different offsets of stage coordinate are used to sense an enlarged image of defect.例文帳に追加

ステージ座標のオフセット量が異なる複数の欠陥検査装置からの欠陥位置データを用いて欠陥の拡大像を撮像する場合に、ウェーハのアライメントに要する時間を増大させることなくスループットを向上させる。 - 特許庁

The open box having the lowest frequency in generation of defect among the selected open boxes or combination thereof is replaced in the piling position of the open box, wherein the defect is generated, to reduce the defect generation ratio.例文帳に追加

選択された無蓋ボックスあるいはその組合せの内、最も不具合発生頻度の低いものと不具合の発生した無蓋ボックスとの積付位置を入れ替えることによって、次回からの不具合発生率を減少させることができる。 - 特許庁

In this case, the image data for inspection is converted in correspondence with the image state of the image for defect detection, and thus it is discriminated whether the abnormal position detected from the image for defect detection is a true defect or not.例文帳に追加

その際、検査用画像データを欠陥検出用画像の画像状態に対応させて変換することにより、欠陥検出用画像から検出される異常個所が、真の欠陥であるか否かを判定することができる。 - 特許庁

To provide a mail server network that reduces time for identifying and defining defect and delay position.例文帳に追加

故障・遅延箇所の特定・切り分けに要する時間を短縮することが可能なメールサーバ網を提供する。 - 特許庁

First, the position of at least one defect on the upper surface of the wafer edge is determined and is stored.例文帳に追加

そのため、最初にウエハ縁端部の上部表面の少なくとも１つの欠陥の位置を決定し、記憶する。 - 特許庁

If there is any defect on the surface of the optical disk 9, the photodetection position of the PSD 10 varies with the detect.例文帳に追加

光ディスク９の表面に欠陥があれば、その欠陥に応じてＰＳＤ１０の受光位置が変動する。 - 特許庁

To image a defect appearing on an optional position on the press formed article surface from the optimum direction.例文帳に追加

プレス成形品表面上の任意の位置に顕れる欠陥を最適な方向から撮像できるようにする。 - 特許庁

The use of a signal obtained at the position of the defect section region differing from the measurement position of the measurement raw signal as a reference signal is also effective.例文帳に追加

参照信号として、計測生信号の計測位置とは異なる欠陥部領域の位置で得られる信号を用いることも有効である。 - 特許庁

The position of a defect such as chipping, cracking, etc., occurring to the outer peripheral portion of the semiconductor wafer is detected, and position information thereupon is stored in a memory device etc., in a controller.例文帳に追加

半導体ウエハの外周部に発生した欠けや割れなどの欠陥の位置を検出し、その位置情報をコントローラ内のメモリなど記憶する。 - 特許庁

The black defect correction technique of the mask comprises recognizing the position of a black defect section of the mask by an atomic force microscope (AFM), moving the probe of the AFM upward of the black defect position, and removing the black defect by electrochemical reaction in the state of interposing an electrolyte between the probe and the black defect section as both electrodes and further comprises confirming the removal of the black defect by the AFM.例文帳に追加

本発明のマスク黒欠陥修正手法は、原子間力顕微鏡によってマスクの黒欠陥部位置を把握し、前記黒欠陥位置上方に前記原子間力顕微鏡の探針を移動させ、前記探針と前記マスク黒欠陥部を両電極とし電解液を介在させた状態で電気化学的反応により前記黒欠陥を除去するものであって、更に前記原子間力顕微鏡によって前記黒欠陥の除去を確認するものである。 - 特許庁

The solar battery inspection apparatus includes a defect position identifying means which applies a search window 43 to a cell image, representing an energized solar battery cell to identify the position of a strip-shaped defect in the solar battery cell.例文帳に追加

本発明の太陽電池の検査装置は、通電された状態の太陽電池セルを表すセル画像に探索窓４３を適用して、太陽電池セル内の帯状の欠陥の位置を特定する欠陥位置特定手段を備える。 - 特許庁

To provide an inspection method for a ceramic structure, capable of not only knowing a position and a size of an internal defect of the ceramic structure but also grasping an accurate position, shape and size of the internal defect, nondestructively and easily in a short time.例文帳に追加

非破壊、簡便且つ短時間で、セラミック構造体の内部欠陥の位置や大きさが分かるだけでなく、内部欠陥の正確な位置や形状及び大きさも把握することができるセラミック構造体の検査方法を提供する。 - 特許庁