「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming a photosensitive resin composition in which forming of an interlayer dielectric is relatively easy, and the formed interlayer dielectric excels in heat resistance property and resolution property, and a silica based coating using the composition.例文帳に追加

層間絶縁膜の形成が比較的容易であり、かつ形成される層間絶縁膜が耐熱性及び解像性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いるシリカ系被膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wiring board manufacturing method which is capable of easily manufacturing a wiring board of a laminated structure composed of a ceramic dielectric layer and a high-molecular material dielectric layer.例文帳に追加

セラミック誘電体層と高分子材料誘電体層とが複合積層された構造を有する配線基板において、層間の密着強度を高め、ひいてはリフロー処理時等における剥がれ等の問題も生じにくくする。 - 特許庁

To provide a simultaneous determination method of the film thickness and dielectric constant dispersion of a Langmuir-Blodgett film, improved so as to be able to determine simultaneously dielectric constant tensor and the film thickness of a transparent film or an absorption film deposited on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板上に堆積させた透明膜や吸収膜の誘電率テンソルと膜厚を同時に決定できるように改良したラングミュア・ブロジェット膜の膜厚と誘電率分散の同時決定方法を提供する。 - 特許庁

In the method of joining electrode of solid electrolytic capacitor, aluminum foil on which the dielectric coating film is formed and the copper- or palladium-plated anode terminal are piled up with the dielectric coating film in between and directly joined to each other by ultrasonic joining under a prescribed joining condition.例文帳に追加

誘電体皮膜が形成されたアルミニウム箔と、銅またはパラジウムメッキされた陽極端子とを、誘電体皮膜を挟んだ状態で重ね合わせ、所定の接合条件のもとで、超音波接合により直接接合する。 - 特許庁

To provide a low-temperature burned porcelain composition that is capable of being fired at a temperature of 1,000°C or lower and that has a low dielectric constant at a high frequency area of 17 GHz or more and a low dielectric loss, and to provide a method for manufacturing a low-temperature burned porcelain.例文帳に追加

1000℃以下で焼成可能であり、１７ＧＨｚ以上の高周波領域において低い比誘電率と、低い誘電損失を有する低温焼成磁器組成物及び低温焼成磁器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of measuring a dielectric constant of SNDM and SNDM capable of avoiding change of probe edge shape by detecting to bring a probe edge into contact with a sample in dielectric constant measurement of a minute region.例文帳に追加

微小領域の誘電率測定において、探針先端と試料とを接触することを検出することで、探針先端形状の変化を回避可能とするＳＮＤＭの誘電率の測定方法及びＳＮＤＭを提供する。 - 特許庁

To provide a solar battery in which manufacturing steps are simplified by random reflecting a light collided to a bottom of a dielectric isolation silicon island to enhance a power generating efficiency, and to provide a method for manufacturing the dielectric isolation wafer for the solar battery.例文帳に追加

誘電体分離シリコン島の底面に衝突した光を乱反射させて発電効率を高め、製造工程を簡略化する太陽電池および該電池用の誘電体分離ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board in which capacitors of high dielectric constant which correspond to electrostatic capacity of decoupling chip capacitor are included by forming a dielectric layer by using a ceramic material having high electrostatic capacity, and a method for manufacturing the printed circuit board.例文帳に追加

高静電容量を有するセラミック材料で誘電層を形成することにより、減結合チップキャパシタの静電容量に相応する高誘電率のキャパシタを内蔵したプリント基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generating device which increases an amount of generating active species and also hardly causes dew condensation and moisture deposition on a dielectric film or removes dew condensation or moisture deposited on the dielectric film, and to provide a plasma generating method.例文帳に追加

活性種の生成量を増やすとともに、誘電体膜に結露や水分付着が起こりにくくする又は誘電体膜に結露又は付着した水分を除去するプラズマ発生装置及びプラズマ発生方法を提供する。 - 特許庁

To provide an absorption type multilayer film ND filter in which an absorption type multilayer film is composed of oxide dielectric films and metal films and a sticking force between the oxide dielectric film and the metal film is improved, and to provide a method of manufacturing the absorption type multilayer film ND filter.例文帳に追加

吸収型多層膜が酸化物誘電体膜と金属膜とで構成され、酸化物誘電体膜と金属膜との付着力が改善された吸収型多層膜ＮＤフィルターとその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the developing roll 12 used for the developing device, a dielectric part 15 is formed by having a conductive substrate 16 formed in a cylinder state or in a hollow cylinder state, having the surface made smooth and coating with dielectric ink by the printing method.例文帳に追加

現像装置に用いる現像ローラ１２は、導電性基体１６を円柱状または円筒状に成形し、表面を滑らかにし、その上に印刷手法により誘電体インクを塗布して誘電体部１５を形成する。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of film forming the low dielectric constant interlayer insulating film having the source of the hole on a semiconductor substrate, and plasma processing to remove the source of the hole from the low dielectric constant interlayer insulating film by the plasma processing.例文帳に追加

半導体基板上に空孔源を有する低誘電率層間絶縁膜を成膜する成膜工程と、プラズマ処理により低誘電率層間絶縁膜中から空孔源を除去するプラズマ処理工程とを有する。 - 特許庁

The dielectric filter 11 is structured such that a surface electrode 13 of an Ag conductor is formed on both sides of a low temperature sintered ceramic dielectric body 12 made of a Ba-Nd-Ti-Bi-Pb-glass additive group or the like by the thick film method.例文帳に追加

誘電体フィルタ１１は、Ｂａ−Ｎｄ−Ｔｉ−Ｂｉ−Ｐｂ−ガラス添加物系等の低温焼成セラミック誘電体１２の表面に厚膜法でＡｇ導体の表面電極１３を形成した構造となっている。 - 特許庁

To provide a barium tantalate based target material capable of stably sputter-film depositing a dielectric layer film of high quality by increasing the density of a sputtering target material for forming a dielectric layer of a thin film EL (electro luminescence) element, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

薄膜ＥＬ素子の誘電体層形成用のスパッタリングターゲット材を高密度化し、高品質の誘電体層膜を安定してスパッタリング成膜できるタンタル酸バリウム系ターゲット材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can avoid dielectric breakdown caused by a charged dummy pad while eliminating the need of the provision of a protection circuit or avoiding the collection of electric noise to an integrated circuit, and also to provide a method of preventing the dielectric breakdown of the semiconductor device.例文帳に追加

保護回路を設けたりかつ集積回路に電気的ノイズをのせたりすること無く、ダミーパッドの帯電による絶縁破壊が発生しない半導体装置と半導体装置の絶縁破壊防止方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a dielectric ceramic composition used as a dielectric layer of a laminated ceramic capacitor, composed of fine particles and having good electric and temperature characteristics even when the capacitor is laminated from thin layers.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサの誘電体層として使用し、微細な粒子から構成され、かつコンデンサを薄層化した場合においても、良好な電気特性や温度特性を有する誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming an insulating film, by which a film suitable for use as an interlayer dielectric in a semiconductor element device or the like and excellent in characteristics, such as a dielectric constant, can be efficiently manufactured.例文帳に追加

本発明は半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、誘電率などの特性に優れた膜を効率よく製造することができる絶縁膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor, wherein a conductive polymer formed on a dielectric oxide film adheres to the dielectric oxide film well, and impedance in a high-frequency region is sufficiently low.例文帳に追加

誘電体酸化皮膜上に形成された導電性高分子が誘電体酸化皮膜に良好に密着し、高周波領域でのインピーダンスが十分に低い個体電解コンデンサの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of easily and accurately estimating a dielectric breakdown lifetime even when a semiconductor element having an insulating film of a laminate structure including a high-dielectric-constant film is small in physical film thickness or electrically equivalent film thickness.例文帳に追加

高誘電率膜を含む積層構造の絶縁膜を有する半導体素子において、物理膜厚又は換算膜厚が薄い場合においても、簡便且つ正確に絶縁破壊寿命を推定できる方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor component, the semiconductor component is provided with a step for forming a dielectric layer 620 on a part of a protective film ledge 640 in an emitter layer 280, and layering base contacts 660 on the dielectric layer 620.例文帳に追加

半導体部品を製造する方法と、その半導体部品とは、エミッタ層２８０内の保護膜レッジ６４０の部分上に誘電層６２０を形成し、ベース・コンタクト６６０を誘電層６２０上に重ねる段階を備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric porcelain composition capable of controlling independently among other things only a temperature coefficient of a resonance frequency among dielectric characteristics and capable of producing the same without applying a heat treatment after a firing.例文帳に追加

誘電特性のなかでとりわけ共振周波数の温度係数がのみを独立して制御することができる誘電体磁器組成物を，焼成後の熱処理を施さなくても作成できる製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for greatly contributing to the reliability of a device, in which the TDDB (Time Dependent Dielectric Breakdown) of a PMOS is improved, and a gate leak current is effectively suppressed, by including a substance which can include charges infinitely in a conventional PMD.例文帳に追加

従来のPMDにチャージを無限に含むことができる物質を包含させることで、PMOSのTDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown)向上またはゲート漏えい電流を效果的に抑制することができて、素子の信頼性に大きく寄与する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant porous silica film suited to layer insulation films which stably reveals a low dielectric constant and has a mechanical strength durable against the latest high degree integration process, including the CMP method and various chemicals resistances.例文帳に追加

低誘電率を安定的に示すと共に、ＣＭＰ法をはじめとする最新の高集積化プロセスに耐えうる機械的強度と各種の耐薬品性を兼ね備えた層間絶縁膜に適した多孔質シリカ質膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated ceramic electronic component in which occurrence of scratches on dielectric green sheet layers can be prevented, thicknesses of dielectric layers can be reduced, and, in addition, the occurrence of short circuits between internal electrode layers can also be prevented.例文帳に追加

誘電体グリーンシート層のスクラッチ発生を防止するとともに、誘電体層の薄層化を可能とし、かつ、内部電極層間のショートを防止することができる積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low dielectric insulating material and a method for producing it which can be molded by transfer molding, press-in molding, and injection molding, has a dielectric constant of 2.9 or less, and is excellent in adhesiveness with metal, drilling workability, sliding properties, and heat resistance.例文帳に追加

トランスファー成形、圧入成形、射出成形が可能な、誘電率が２．９以下で、金属との接着性、ドリル加工性、摺動性、耐熱性の良好な低誘電性絶縁材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing agent in which even if a polishing surface contains an interlayer dielectric of a low dielectric constant, the polishing surface having a high flatness is obtained, and further polishing scratches after polished can be suppressed; and a chemimechanical polishing method using the same.例文帳に追加

被研磨面に低誘電率の層間絶縁膜が含まれていても平坦性が高い被研磨面が得られ、さらに研磨後の研磨キズを抑制できる研磨液、及びそれを用いて化学機械研磨する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composite material which is useful for forming a reactive element directly on the surface or in the inside of a printed-circuit board and has a high dielectric constant, a low dielectric dissipation factor, and a high volume resistivity, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

受動素子を直接、プリント配線板の表面あるいは内部に形成するために有用であり、高誘電率、低誘電正接および高体積抵抗率を呈する、複合材料とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

On the surface of the first film which is made hydrophilic, a second film (21) is formed which is the insulating film formed of the low dielectric constant insulating material whose dielectric constant is ≤2.7 or the insulating film formed by a coating method.例文帳に追加

親水化された第１の膜の表面上に、比誘電率が２．７以下の低誘電率絶縁材料で形成されている絶縁膜であるか、または塗布法により形成される絶縁膜である第２の膜（２１）を形成する。 - 特許庁

To provide a ceramic electronic component and a method of manufacturing the ceramic electronic component, such that even when the ceramic electronic component is formed by laminating dielectric layers of different materials, the occurrence of peeling between the laminated dielectric layers is suppressed.例文帳に追加

異なる材料の誘電体層を積層して形成しても積層された誘電体層同士の間で剥離が生じるのを抑制することができるセラミック電子部品及びセラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing agent in which even if a surface to be polished contains an interlayer dielectric of a low dielectric constant, the surface to be polished having a high flatness is obtained, and further polishing scratches after polished can be suppressed; and to provide a chemimechanical polishing method using the same.例文帳に追加

被研磨面に低誘電率の層間絶縁膜が含まれていても平坦性が高い被研磨面が得られ、さらに研磨後の研磨キズを抑制できる研磨液、及びそれを用いて化学機械研磨する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical recording medium, wherein adhesion between a transparent resin substrate and a transparent dielectric layer is high, the C/N ratio is increased because of the transparent dielectric layer of a high refractive index, and the danger of firing or the like during film formation by a sputtering method is eliminated.例文帳に追加

透明樹脂基板と透明誘電体層との密着性が高く、高屈折率の透明誘電体層となるためＣ／Ｎ比が向上し、またスパッタリング法によって成膜する際に発火等の危険がないものとする。 - 特許庁

DIELECTRIC WAVEGUIDE DEVICE, PHASE SHIFTER INCLUDING THE SAME, HIGH-FREQUENCY SWITCH, ATTENUATOR, HIGH FREQUENCY TRANSMITTER, HIGH FREQUENCY RECEIVER, HIGH FREQUENCY TRANSCEIVER, RADAR DEVICE, ARRAY ANTENNA DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DIELECTRIC WAVEGUIDE DEVICE例文帳に追加

誘電体導波路デバイス、これを備える移相器、高周波スイッチおよび減衰器、ならびに高周波送信器、高周波受信器、高周波送受信器およびレーダ装置、アレイアンテナ装置、誘電体導波路デバイスの製造方法 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a dielectric precursor layer transcribing film for a plasma display panel without any apprehension of environmental pollution caused by the dielectric precursor layer transcribing film itself or the plasma display panel obtained from the panel.例文帳に追加

当該誘電体前駆層転写用フィルム自体及びこのフィルムから得られるプラズマディスプレイパネルが環境を汚染する恐れが無いプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写フィルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

RESIN CONTAINING DIELECTRIC FILLER FOR FORMING BUILT-IN CAPACITOR LAYER OF PRINTED CIRCUIT BOARD, DOUBLE-SIDE COPPER CLAD LAMINATED BOARD HAVING DIELECTRIC LAYER FORMED BY USING THE RESIN, AND METHOD FOR PRODUCING THE LAMINATED BOARD例文帳に追加

プリント配線板の内蔵キャパシタ層形成用の誘電体フィラー含有樹脂及びその誘電体フィラー含有樹脂を用いて誘電体層を形成した両面銅張積層板並びにその両面銅張積層板の製造方法 - 特許庁

In the vacuum sputtering mode type manufacturing method of a laminated ceramic capacitor (MLCC) comprising dielectric ceramic layers and inner-electrode layers, its dielectric ceramic layers and its inner-electrode layers are manufactured by a vacuum sputtering mode.例文帳に追加

本発明に係わる真空スパッタリング方式による誘電セラミック層及び内部電極層の積層セラミックコンデンサ（ＭＬＣＣ）の製造法は、その誘電セラミック層及び内部電極層が真空スパッタリング方式で製造される。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel includes a step forming an electrode material on a dielectric sheet and a step transferring the dielectric sheet and the electrode material on a substrate simultaneously.例文帳に追加

誘電体シート上に電極材料を形成する段階と、前記誘電体シートと電極材料を基板上に同時に転写する段階と、を含んでなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method in which damage of a low k dielectric film caused by plasma treatment is repaired, the form of a dielectric film structure is maintained, later plasma treatment is made possible, and a resultant certain property can be selected.例文帳に追加

低ｋ誘電体フイルムのプラズマ処理による損傷を補修し、誘電体フイルム構造体の形状を維持し、後のプラズマ処理を可能にし、得られる或る性質を選択することができるようにする方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrically insulating thin film forming resin composition for forming an electrically insulating thin film of low dielectric constant and a method of efficiently forming the electrically insulating thin film of a low dielectric constant on a surface of an electronic device.例文帳に追加

低誘電率の電気絶縁性薄膜を形成する電気絶縁性薄膜形成性樹脂組成物、および電子デバイス表面に低誘電率の電気絶縁性薄膜を効率良く形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a back face plate for a plasma display panel in which the eluted content of the barrier layer does not enter into the dielectric layer and the dielectric layer and the barrier layer can be fired at the same time, and a plasma display panel and their manufacturing method.例文帳に追加

焼成時に障壁層の溶出成分が誘電体層に混入しない、誘電体層と障壁層との同時焼成を可能とするプラズマディスプレイパネル用背面板、プラズマディスプレイパネル、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film dielectric, a multilayered printed circuit board using it, and its manufacturing method wherein dielectric constant is 25 or more and a film thickness is 1.5 μm or less and an inorganic filler is dispersed in an organic resin.例文帳に追加

誘電率が２５以上で膜厚が１.５μｍ 以下であることを特徴とする、有機樹脂に無機充填剤が分散してなることを特徴とする薄膜誘電体、それを用いた多層配線板とその製造方法に関する。 - 特許庁

To provide: a method for designing a dielectric barrier discharge lamp which can design the dielectric barrier discharge lamp so as for a pin hole not to occur in a glass of an electrode portion; a method for manufacturing a lighting apparatus, which manufactures the lighting apparatus on the basis of such a design concept; and a lighting apparatus manufactured by it.例文帳に追加

電極部分のガラスにピンホールを発生させない設計ができる誘電体バリア放電ランプの設計方法、またそのような設計思想に基づいて製造する照明装置の製造方法及びそれによって製造された照明装置を提供する。 - 特許庁

DIELECTRIC MATERIAL, INTERCONNECT STRUCTURE, ELECTRONIC STRUCTURE, ELECTRONIC SENSING STRUCTURE AND ITS MAKING METHOD (SiCOH DIELECTRIC MATERIAL WITH IMPROVED TOUGHNESS AND IMPROVED Si-C BONDING, SEMICONDUCTOR DEVICE CONTAINING THE SAME, AND METHOD TO MAKE THE SAME)例文帳に追加

誘電体材料、相互接続構造、電子構造、電子センシング構造および該製作方法（改良された靭性および改良されたＳｉ−Ｃ結合を有するＳｉＣＯＨ誘電体材料、該誘電体材料を含む半導体デバイスおよび該誘電体材料の製作方法） - 特許庁

The operation of the memory array is thereby programmed by a method for injecting holes generated by the avalanche phenomenon into multi-dielectric layers of respective memory cells and performed by a method for injecting electrons existing in channels through F-N tunneling into the multi-dielectric layers of respective cells at the time of erasing.例文帳に追加

従って、メモリアレイの動作は、前記アバランシュ現象により生成されたホールを各メモリセルの多重誘電層に注入させる方式でプログラムし、イレース時にはＦ−Ｎトンネルリングによりチャンネルにある電子を前記各セルの多重誘電層に注入させる方式で行うことになる。 - 特許庁

To provide an uniform and reliable thin film EL element and its manufacturing method without increasing its cost by restraining defects generated at a dielectric layer, especially, generation of cracks in burning the dielectric layer formed by a solution-coating burning method, and improving insulating pressure resistance.例文帳に追加

誘電体層に生じる欠陥、特に溶液塗布焼成法を用いて形成された誘電体層の焼成時のクラックの発生を抑制し、絶縁耐圧を向上させ、均一かつ信頼性の高い薄膜ＥＬ素子とその製造方法を高コスト化することなく提供する。 - 特許庁

The method has a step of forming a high dielectric film using an organic metal material on a substrate 1 at ≤350°C using an ALD or CVD method, and a step of irradiating the high dielectric film with an ultraviolet ray in a low-pressure oxygen-containing atmosphere to desorb the hydrogen in the film.例文帳に追加

基板１上に有機金属原料を用いて３５０℃以下の温度でＡＬＤまたはＣＶＤにより高誘電体膜を成膜する工程と、低圧の酸素含有雰囲気で高誘電体膜に紫外線を照射して膜中の水素を脱離させる工程とを有する。 - 特許庁