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dielectric methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4150件
To provide a method of manufacturing a single or multiple gate field plate which can realize a device with a field plate, without a dry or wet etching process not doing much damage to a dielectric material.例文帳に追加
誘電性材料に与えるダメージの少ない乾式または湿式エッチングプロセスを用いることなく、フィールドプレートされたデバイスを実現できるシングルゲートまたはマルチゲートフィールドプレートの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory and its manufacturing method by which a contact between a dielectric film and an antidiffusion film, a reduction of an electrostatic capacity of a capacitor, and an increase of leakage current can be prevented.例文帳に追加
誘電膜と拡散防止膜との接触、キャパシタの静電容量の減少およびリーク電流の増加を防止することができる半導体メモリおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for preparing a surface emitting semiconductor laser capable of forming a dielectric bragg reflector having a desired shape by reducing deformation of a mask in lift-off.例文帳に追加
リフトオフの際のマスクの変形を低減することにより、所望の形状を有する誘電体ブラッグ反射器を形成することが可能な面発光半導体レーザを作製する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming an oxide dielectric film having superior adhesion and few interface defects on a metal film.例文帳に追加
酸化物誘電体膜の成膜方法に関し、金属膜上に、密着性に優れ、界面欠陥の少ない酸化物誘電体膜を形成しうる酸化物誘電体膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dielectric memory in a solid stacked capacitive element wherein both deterioration in an oxygen diffusion preventive layer and occurrence of a crack on an interlayer insulation film can be inhibited, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
立体スタック型の容量素子において、酸素拡散防止層の劣化と、層間絶縁膜でのクラックの発生とが共に抑えられた誘電体メモリ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of reducing interference capacitance between gates which adjoin to each other by forming a space between the gates with an air layer having a low dielectric ratio.例文帳に追加
ゲートとゲート間の空間を誘電率の低い空気層で形成し、お互い隣接したゲートとゲート間の干渉キャパシタンスを減少させるための半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a capacitor for which an attempt can be made to improve its capacitance density despite its compactness, to improve selectivity of electrode metal and dielectric material, and to simplify its manufacturing process, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
小型でありながら、容量密度の向上,電極金属及び誘電体材料の選択性の向上,製造プロセスの簡略化を図ることができるコンデンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an organic/inorganic composite which can form an insulating film having a low dielectric-constant, high mechanical strength and high flatness, to provide its manufacturing method, and to provide a semiconductor device using the composite.例文帳に追加
低誘電率でしかも機械的強度の高く、平坦性の高い絶縁膜を形成できる有機無機複合体、その製造方法およびその複合体を用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁
To decrease the dielectric constant of an interlayer insulating film in the semiconductor device having an embedding wiring embedded in an insulating film, and the manufacturing method thereof.例文帳に追加
絶縁膜に埋め込まれた埋め込み配線を有する半導体装置及びその製造方法に関し、層間絶縁膜の誘電率を低減しうる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a signal transmission circuit device and its manufacturing method which reduces the dielectric loss of a signal transmission circuit at a low cost to improve its electric reliability.例文帳に追加
低コストに信号伝送回路の誘電損失を軽減し、その電気的信頼性を向上させる信号伝送回路装置及びその信号伝送回路装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which uses a high dielectric insulating film and has a trench type capacitor where the formation of a depletion layer in a capacitor electrode is suppressed, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加
高誘電体絶縁膜を使用し、キャパシタ電極中の空乏層の形成を抑制したトレンチ型キャパシタを有する半導体記憶装置及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an electronic component capable of preparing a small-sized electronic component and effectively preventing defects such as deformation and crack from occurring in a conductor layer and a dielectric layer.例文帳に追加
小型の電子部品を製作することができ、しかも導体層や誘電体層に変形やクラック等の不具合が生じるのを有効に防止することができる電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a solution material for an organic metal chemical vapor deposition method having excellent film composition controllability and step coverage, and a composite oxide series dielectric thin film prepared using the material.例文帳に追加
優れた膜の組成制御性及び段差被覆性を有する有機金属化学蒸着法用溶液原料及び該原料を用いて作製された複合酸化物系誘電体薄膜を提供する。 - 特許庁
To provide a gate formation method of a flash memory device for preventing attacks from being generated in the active region of a semiconductor substrate by etching while adjusting a recipe when etching a dielectric film.例文帳に追加
誘電体膜エッチングに際して、レシピを調節してエッチングすることにより、半導体基板の活性領域に生じるアタックを防止するフラッシュメモリ素子のゲート形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for bonding a metallic room mirror base to a black ceramic-printed glass member using an epoxy adhesive through dielectric heating treatment, whereby generation of sparks is inhibited.例文帳に追加
黒色セラミックプリント付きガラス製部材に金属製ルームミラーベースを、エポキシ接着剤を用いて誘電加熱処理により接着する場合、スパークの発生を防止する接着方法を提供する。 - 特許庁
The silicon nitride film uses monosilane and ammonia as raw material gases and the catalytic CVD method, contains 1.0-1.1 parts of nitrogen and 0.1-0.15 parts of oxygen to 1 part of silicon, and has a relative dielectric constant of 6 or less.例文帳に追加
原料ガスとしてモノシランとアンモニアを用い、触媒CVD法を用い、シリコン1に対して窒素を1.0〜1.1、酸素を0.1〜0.15含有し、この膜の比誘電率が6以下であるシリコン窒化膜。 - 特許庁
To provide a method of forming a thin film capable of adjusting a composition ratio of a dielectric thin film with ease while improving its productivity, a thin film forming device, and a manufacturing device of a semiconductor device.例文帳に追加
誘電体薄膜の組成比を容易に調整でき、その生産性を向上させた薄膜形成方法、薄膜形成装置、及び半導体装置の製造装置を提供するものである。 - 特許庁
To remove the electrodes of a capacitor by trimming without cutting off the dielectric material so as to prevent the capacitor from deteriorating in relaibility and yield in a method of forming the capacitor used for a wiring board with a built-in part.例文帳に追加
部品内蔵配線基板用のコンデンサの形成方法において、コンデンサの電極を誘電体を切断せずにトリミングで除去し、信頼性の低下と収率の悪化を防ぐ方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for etching and removing an underlying dielectric film from a via bottom so that the decrease of an upper layer insulating film is eliminated, and no etching residue is left remained on the inner wall surface of the via.例文帳に追加
ビアボトムの下地誘電体膜を、上層絶縁膜の膜減りをなくし、また、ビアの内壁面にエッチング残さを残さないでエッチング除去する方法及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a flash memory device capable of not only improving a word line resistance but also improving the quality of a dielectric film and a gate oxide film of a peripheral circuit region.例文帳に追加
ワードライン抵抗を改善させるだけでなく、誘電体膜及び周辺回路領域のゲート酸化膜の膜質を改善させることが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The semiconductor device manufacturing method includes a modifying process of modifying the quality of a gate insulating film formed of a high-dielectric constant film of hafnium oxide, by subjecting the gate insulating film to a water vapor annealing treatment in a water vapor atmosphere.例文帳に追加
ハフニウム酸化物系の高誘電率膜からなるゲート絶縁膜を水蒸気の雰囲気にて水蒸気アニール処理することにより膜質を改質する改質処理工程を備える。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a barrier rib and lower panel for a plasma display panel capable of forming a barrier rib pattern of a desired shape with high accuracy, and easily determining a thickness of a dielectric layer.例文帳に追加
所望の形状の隔壁パターンを高精密度で形成し、誘電体層の厚さを容易に決定することが可能なプラズマディスプレイパネル用隔壁及び下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The method may also include an increase of a ratio of the silicon-containing precursor to the oxidizing gas flowing into the chamber as time passes, to alter a rate of deposition of the dielectric material.例文帳に追加
また、この方法は、時間の経過と共に、チャンバ内に流されるシリコン含有前駆物質と酸化ガスの比を増加させて、誘電体材料の堆積速度を変更するステップを含んでもよい。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for manufacturing an optical information recording medium with excellent productivity by forming the second dielectric layer of a low refractive index at a high speed, and the optical information recording medium.例文帳に追加
屈折率の低い第2の誘電体層を高速に成膜することで、光学的情報記録媒体を生産性よく製造する製造方法及び光学的情報記録媒体を提供する。 - 特許庁
The film-forming method can form the dielectric thin film having optical properties extremely close to a designed value, by surely forming a metallic plane to be an anode in the film-forming chamber 10 and stabilizing film-forming conditions.例文帳に追加
成膜室10内にアノードとなる金属面を確保して成膜条件を安定させることで、設計値に極めて近い光学特性を有する誘電体薄膜を成膜することができる。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of shortening a tact time of pattern forming, calcining a pattern layer and a dielectric layer in a lump, and totally lowering the cost of pattern formation.例文帳に追加
パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for recovering and reducing relative dielectric constant of an interlayer insulating film which has been deteriorated and raised, being influenced by preceding etching, ashing or the like treatment, with a comparatively simplified arrangement.例文帳に追加
先行するエッチング、アッシング処理等の影響で劣化上昇した層間絶縁膜の比誘電率を比較的簡易な構成で回復低下させる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a material for forming an insulation film which has excellent mechanical strength and can form a porous insulation film having a low dielectric constant and the insulation film, and to provide a method of forming the insulation film and a semiconductor device.例文帳に追加
機械的強度に優れ、かつ低誘電率の多孔質絶縁膜を形成し得る絶縁膜形成用材料、絶縁膜及びその形成方法並びに半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a forming method of a dielectric DBR mirror comprising an Si composition material that can be applied to a surface emitting laser to which a high temperature/high speed operation is requested for an ultra high-speed computer.例文帳に追加
超高速計算機向けの高温・高速動作が要求される面発光レーザに適用できるSiを構成材料として含む誘電体DBRミラーの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma display panel for simplifying a manufacturing process, and having a transparent dielectric having insulation resistance of a practically sufficient level, its manufacturing method, a manufacturing device, and novel paste used for manufacturing the plasma display panel.例文帳に追加
製造工程が簡略化できるとともに、実用上充分なレベルの絶縁耐性を有する透明誘電体を有するプラズマディスプレイパネルとその製造方法、ならびに製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for optimizing a dielectric circuit substrate material in order to increase the degree of freedom in design of an RF (radio frequency) circuit, and more specifically, to improve the performance in a resonant line.例文帳に追加
RF回路の設計自由度を増加し、より具体的には、共振線路における性能を向上する為に誘電体回路基板材料を最適化する方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming an insulation film and a structure capable of suppressing the increase of the dielectric constant of an interlayer insulation film accompanying change of Si-CnH2n+1 combination to Si-OH combination in the film.例文帳に追加
膜中のSi−C_nH_2n+1結合がSi−OH結合へと変化することに伴う層間絶縁膜の誘電率の上昇を抑制し得る、絶縁膜の形成方法及び構造を得る。 - 特許庁
The dielectric film deposition method to the optical fiber end face comprises starting deposition after preheating the inside of a hermetic space where the deposition to the fiber end face is performed to a prescribed temperature.例文帳に追加
本発明の光ファイバ端面への誘電体膜成膜方法は、ファイバ端面への成膜が行われる密閉空間内を所定温度に予備加熱してから成膜を開始するものである。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a capacitor device which can form a capacitor on a substrate without causing any nonconformity even in the case of forming a dielectric layer by using a roller coater and the like.例文帳に追加
ローラコータなどを使用して誘電体層を形成する場合においても、何ら不具合が発生することなく、基板上にキャパシタを形成できるキャパシタ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a glass ceramic board incorporating a capacitor in which a high permittivity is sustained even when a lead based perovskite-type composite material is employed in a dielectric layer without increasing the production step.例文帳に追加
誘電体層として鉛系ペロブスカイト型複合材料を用いても高誘電率を保持し、かつ製造工程の増加のないコンデンサー内蔵ガラスセラミック基板の製造法の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a molding body which has a small thermal expansion coefficient and is excellent in moldability, heat resistance and dielectric properties, and to provide a method for producing the molding body.例文帳に追加
本発明の目的は、熱膨張係数が小さく、かつ、成形性、耐熱性および誘電特性に優れる成形体を提供すること、また、かかる成形体の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a light emitting device, its manufacturing method, and an electronic apparatus which can ensure high reliability even when dielectric multilayer films are formed between layers of substrates and spontaneous light emission elements.例文帳に追加
基板と自発光素子との層間に誘電体多層膜を形成した場合でも、高い信頼性を確保することのできる発光装置、発光装置の製造方法、および電子機器を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for preparing a monoterpene as a porogen for a porous oxidized silicon dielectric membrane-piled material in an electronic device by separating oxygen-containing impurity compounds from the monoterpene.例文帳に追加
モノテルペンから酸素含有不純物化合物を分離することにより、電子デバイスにおける多孔質酸化ケイ素誘電体膜堆積物のためのポロゲンとしてモノテルペンを調製する方法を提供する。 - 特許庁
To generate a high-density plasma by suppressing the intrusion of impurities in making thin films of dielectric substances and semiconductors by an ion plating method which performs a pressure gradient type arc discharge.例文帳に追加
圧力勾配型アーク放電を行うイオンプレーティング法により誘電体や半導体の薄膜を作製する際に、不純物の混入を抑制できるようにし、高密度のプラズマの発生を可能にする。 - 特許庁
To provide dielectric ceramics hardly contaminated by impurities in a combustion synthesis reaction with easy control of adiabatic flame temperature in a combustion synthesis process, and a method for producing the same.例文帳に追加
燃焼合成法において、断熱火炎温度の制御が容易であり、燃焼合成反応における不純物の混入等が少ない誘電体セラミックスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a versatile method for manufacturing an integrated circuit by a flexible film formed by an extremely thin stress reducing dielectric material such as silicon dioxide and silicon nitride and a semiconductor layer.例文帳に追加
二酸化ケイ素や窒化ケイ素など非常に薄い低応力誘電体材料と半導体層とで形成された可とう性の膜で集積回路(24、26、28、...30)を製造する汎用手法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor downsized and having a higher capacity with internal electrodes printed on a dielectric sheet and thinned by means of an adsorbing material.例文帳に追加
本発明は誘電体シート上に印刷された内部電極を吸着部材を通して薄層化し、より高容量を有しより小型化された積層セラミックキャパシタを製造できる方法に関するものである。 - 特許庁
To provide a dielectric resonator and its frequency setting method where the setting of the frequency is changed without changing an internal structure and its shape and without much reducing the impedance.例文帳に追加
内部構造や形状を変更することなく、かつインピーダンスをそれほど低下させることなく、周波数の設定変更が行える誘電体共振器とその周波数設定方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for an insulating film using a double organic siloxane precursor that has a low dielectric constant and thermal stability in addition to excellent mechanical and physical properties such as elastic modulus and hardness.例文帳に追加
低い誘電率を有し、弾性係数、硬度などの機械的物性にも優れるうえ、熱的安定性もある、二重有機シロキサン前駆体を用いた絶縁膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method which places no restraints on layout of a lower interconnection located below copper wiring and can reduce the variation in effective dielectric constant, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加
銅配線の下方に位置する下部配線がレイアウト上の制約を受けず、しかも、実効誘電率のばらつきが低減される半導体装置の製造方法と半導体装置を提供する。 - 特許庁
A temperature control method of an insulating substrate 10 and an insulating substrate attracting electrostatic chuck is disclosed, wherein a shape and physical properties of a dielectric, and the shape of an electrode 7 constituting the electrostatic chuck 1 are defined.例文帳に追加
絶縁性基板10の温度制御方法、静電チャック1を構成する誘電体の形状、物性、電極7の形状を規定し絶縁性基板吸着用静電チャックを開示した。 - 特許庁
To provide a dielectric ceramic obtained by combustion synthesis for a short time without producing by-products necessary to be separated and having excellent sintered compact characteristics and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
分離を必要とする副生成物を発生させずに燃焼合成により短時間で得られるとともに、優れた焼結体特性を有する誘電体セラミックスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a highly reliable coaxial waveguide structure and a method for manufacturing this capable of preventing the destruction of a dielectric air-tight window or the air-tightness when connecting the coaxial waveguides to each other.例文帳に追加
同軸導波管どうしを接続する場合などに、誘電体気密窓あるいはその気密性の破壊を防止し、信頼性の高い同軸導波管構体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an NRD guide capable of realizing mass production, price reduction, miniaturization and performance improvement and easily including various kinds of materials within a dielectric line, manufacturing method and utilization thereof.例文帳に追加
量産化、低価格化、小型化、高性能化が可能なNRDガイド、各種材料を誘電体線路内に容易に内包させることが可能なNRDガイド、およびの製造方法および利用を提供する。 - 特許庁
After removing both the films 15 and 16, a p-type layer is grown on the laminated guide layer 5 with an Mg as a dopant and an ammonia and an hydrazine dielectric as a nitrogen-supplying source by the MOCVD method.例文帳に追加
両膜15,16の除去後、積層されたガイド層5上に、MOCVD法により、Mgをドーパントとし且つアンモニア及びヒトラジン誘電体を窒素供給源として、p型層を成長させる。 - 特許庁
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