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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > diffusion areaの意味・解説 > diffusion areaに関連した英語例文

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diffusion areaの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 588



例文

To provide a means capable of excellent diffusion combustion by quickly changing EGR gas to a proper quantity, when an operation state transfers to a diffusion combustion area from a premixed combustion area, in a diesel engine for an automobile.例文帳に追加

自動車用のディーゼルエンジンにおいて、運転状態が予混合燃焼領域から拡散燃焼領域に移行したときに、速やかにEGRガスを適正量に変更して良好な拡散燃焼を行うことを可能にする手段を提供する。 - 特許庁

To make light diffused by a diffusion plate have a gently varying diffusion pattern in a prescribed area, to generate a natural image blurring during use as a focusing plate, and to make an image light as to a diffusion plate and an optical device such as a single-lens reflex camera using the diffusion plate.例文帳に追加

拡散板あるいはこの拡散板を用いる一眼レフカメラ等の光学装置で、拡散板による拡散光が所定領域において拡散パターンがなだらかに変化するようにし、また焦点板として使用したときに自然な像ぼけを発生するようにし、且つ像が明るくなるようにする。 - 特許庁

To provide an n type diffusion layer formation composition, a manufacturing method of an n type diffusion layer, and a manufacturing method of solar cells which form the n type diffusion layer in a desired form at a specific area without forming unnecessary n type diffusion layers in a manufacturing process of the solar cells using crystal silicon substrates.例文帳に追加

結晶シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、不要なn型拡散層を形成させることなく特定の部分にn型拡散層を、所望の形状に形成可能であるn型拡散層形成組成物、n型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

This nonvolatile semiconductor storage device is equipped with: a semiconductor area; a cell transistor formed in the semiconductor area and provided with first and second diffusion layers, a charge accumulating layer and a control gate electrode; a bit line connected to the first diffusion layer; a source line connected to the second diffusion layer; and a control circuit for controlling the semiconductor area, bit line and source line.例文帳に追加

本発明の例に係る不揮発性半導体記憶装置は、半導体領域と、半導体領域内に形成され、第1及び第2拡散層、電荷蓄積層及びコントロールゲート電極を有するセルトランジスタと、第1拡散層に接続されるビット線と、第2拡散層に接続されるソース線と、半導体領域、ビット線、及び、ソース線を制御する制御回路とを備える。 - 特許庁

例文

This moire elimination device is provided with an area selection means for selecting a target area and a diffusion processing part for replacing color difference components of a noticing pixel 37 with color difference components of other pixels in the selected target area.例文帳に追加

対象領域を選択するための領域選択手段と、選択された対象領域内で注目画素37の色差成分と他の画素の色差成分とを交換する拡散処理手段と、を備える。 - 特許庁


例文

It is preferable that the cross section of the projection of the thermal-conductive elastic body have an area larger than the opening of the diffusion sheet.例文帳に追加

熱伝導性弾性体の突出部の横断面は、拡散シートの開口より大きい面積を有することが好ましい。 - 特許庁

The demagnetizing field having such a distribution is applied to the magnet 31, so a diffusion area 32 is formed at a part of the surface 34.例文帳に追加

このような分布の反磁界が磁石31に加わるから、表面34の一部に拡散領域32を形成している。 - 特許庁

To provide a heat sink which increases the surface area of a fin and has high heat diffusion and to provide the manufacturing method.例文帳に追加

本発明の目的は、フィンの表面積を増加させ、高い熱放散を有するヒートシンクとその製造法を提供する。 - 特許庁

A P^+ diffusion layer (a P pocket) 7 is formed under the sensing area 6 in the sensitive film 4 within the silicon substrate 2.例文帳に追加

P^+拡散層(Pポケット)7は、シリコン基板2内における感応膜4のセンシング領域6の下方に形成されている。 - 特許庁

例文

To prevent the wire breaking of a diffusion layer in an active layer, and also to reduce the cell area.例文帳に追加

活性領域における拡散層の断線を防止できるようにすると共に、セル面積を低減することができるようにする。 - 特許庁

例文

A heatsink (1) has a thermal diffusion area which is enclosed by a material and surrounds all the edges of a mounting surface (3).例文帳に追加

ヒートシンク(1)は、取り付け面(3)をすべてのエッジにおいて取り囲んでいる素材的に閉じた熱拡散領域を有している。 - 特許庁

The projected light is scattered at the light diffusion parts 10, and the sensor area which the finger is brought near or touches is made to emit light.例文帳に追加

投射光は光拡散部10で散乱され、手指を接近又は接触させた方のセンサー領域を発光させる。 - 特許庁

By this construction, a common diffusion area can be arranged in a region where the gate electrodes are opposed to each other.例文帳に追加

このような構造にすることで、ゲート電極同士が対向する領域に共通拡散領域を設けることが可能となる。 - 特許庁

The N well diffusion area of the P-channel MOS transistor 109 is electrically independent (floating) from other circuit portions.例文帳に追加

PチャネルMOSトランジスタ109のNウェル拡散領域は、他の回路部分から電気的に独立(フローティング)となっている。 - 特許庁

In each memory cell, an N-type first impurity diffusion area 3 is formed in a top layer of a semiconductor substrate 2.例文帳に追加

各メモリセルにおいて、半導体基板2の表層部には、N型の第1不純物拡散領域3が形成されている。 - 特許庁

The impact relieving section 9 is formed on the portion overlapping the drain pad 17 of the diffusion area 4.例文帳に追加

ここに、衝撃緩和部9は、n^+形ドレイン拡散領域4においてドレインパッド17に重複する部位上に形成されている。 - 特許庁

A display luminance calculation section 152 calculates display luminance of each area based on the LED data 33 and a luminance diffusion filter 155.例文帳に追加

表示輝度算出部152は、LEDデータ33と輝度拡散フィルタ155とに基づいて、各エリアの表示輝度を算出する。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging apparatus efficiently performing charge transfer from a photodiode to a floating impurity diffusion area.例文帳に追加

フォトダイオードから浮遊不純物拡散領域への電荷転送を効率良く行うことができる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

In another embodiment, the at least one metal is nickel, and the high-surface-area electrode is a nickel screen electrode or a carbon diffusion electrode.例文帳に追加

少なくとも一種の金属がニッケルを含み、高表面積電極がニッケルスクリーン電極又は炭素拡散電極である。 - 特許庁

To reduce resistance of a source diffusion layer, without having to increase the pattern area of a memory cell of a nonvolatile semiconductor memory device.例文帳に追加

不揮発性半導体記憶装置のメモリセルのパターン面積の増大を伴なうことなくソース拡散層の低抵抗化を行う。 - 特許庁

A DC power supply 15 applies a voltage between the N^+ diffusion layer 8 and the P^+ diffusion layer 9 so as to flow a drain current corresponding to the quantity of the to-be-detected object attached to the sensing area 6.例文帳に追加

直流電源15は、センシング領域6への検出対象の付着量に応じたドレイン電流を流すために、N^+拡散層8とP^+拡散層9との間に電圧を印加する。 - 特許庁

To achieve a dielectric memory device which secures the effective area of the greatest capacitor decided by the size of a diffusion prevention film, and also hardly causes the exfoliation of the diffusion prevention film during heat treatment.例文帳に追加

拡散防止膜の大きさによって決まる最大のキャパシタの実効面積を確保し且つ熱処理時における拡散防止膜の剥離が生じにくい誘電体メモリ装置を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a solar cell manufacturing method which forms an n-type diffusion layer in a specific area without forming unnecessary n-type diffusion layers in a manufacturing process of solar cells using silicon substrates.例文帳に追加

シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、不要なn型拡散層を形成させることなく特定の部分にn型拡散層を形成する太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

The identification signal generating device 2 includes a diffusion section 25c for performing diffusion processing using a C/A code of a GPS satellite with which a transmission radio wave does not reach the silent-mode area; and a modulation section 25d for modulating a signal after diffusion processing into a GPS form and outputting the signal.例文帳に追加

識別信号発生装置2は、マナーエリアに送信電波が到達しないGPS衛星のC/Aコードを用いて拡散処理を行う拡散部25cと、拡散処理後の信号をGPS形式に変調して出力する変調部25dとを備える。 - 特許庁

When an anode side diffusion layer 122 and a cathode side diffusion layer 132 are pressed by the separators 140 and 150 toward proton exchange membrane 110, respective diffusion layers will have thicknesses different from their original shapes depending on area.例文帳に追加

このセパレータ140及び150によって、アノード電極側の拡散層122及びカソード電極側の拡散層132を夫々プロトン交換膜110に向って押圧すると、夫々の拡散層は、部位に応じて原形状と異なる厚みを有することとなる。 - 特許庁

A diffusion coefficient selection part 650 sets a diffusion coefficient set for diffusing a quantization error at the time of quantizing a pixel in the vicinity of the noticed picture element over the noticed picture element in accordance with a position of the noticed picture element in a current processing area of the error diffusion processing.例文帳に追加

拡散係数選択部650は、誤差拡散処理の現在の処理領域における注目画素の位置に応じて、注目画素の近傍の画素を量子化した際の量子化誤差を注目画素に拡散するための拡散係数セットを設定する。 - 特許庁

Concerning the compound semiconductor device with which a diffusing area containing a second electro-conductive impurity is cyclically located on the surface area of a first electro-conductive compound semiconductor, a diffusion blocking area containing a second electro-conductive impurity different from the impurity contained in the diffusing area is provided in the lateral periphery and/or on the bottom of the diffusion area.例文帳に追加

第1の電気伝導型の化合物半導体の表面領域に第2の電気伝導型の不純物を含む拡散領域が周期的に配列された化合物半導体素子において、前記拡散領域の、横方向周囲および/または底部に、前記拡散領域に含まれる不純物とは異なる第2の電気伝導型の不純物を含む拡散阻止領域が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a composite sheet for a direct methanol type fuel cell which is superior in methanol diffusion and can supply methanol to an anode at a large area with diffusion and penetration effect, even if a methanol solution feed section from a fuel cartridge has a comparatively small area.例文帳に追加

メタノール拡散性に優れ、燃料カートリッジからのメタノール水溶液送出部が比較的小さな面積であっても、拡散浸透効果によってアノードに大面積でメタノールを供給することが可能なダイレクトメタノール型燃料電池用複合シートを提供する。 - 特許庁

The screen for rear projection display 30 is composed by superposing a plurality of diffusing films 2 to diffuse incident light from a predetermined angle area within the predetermined angle area, and constituted so that the diffusion angle areas 7 of the laminated diffusion films may be superposed.例文帳に追加

特定の角度領域内からの入射光を特定の角度領域内に拡散させる拡散フィルム2を複数枚重ねてなり、積層する拡散フィルムの拡散角度領域7が重複することを特徴とするリアプロジェクションディスプレイ用スクリーン30である。 - 特許庁

The reflection screen may be a laminate composed of a louver sheet having a plurality of transparent areas (light transmissive area) partitioned by a plurality of louvers (dark color area) and the light diffusion reflection sheet.例文帳に追加

反射スクリーンは、複数のルーバー(暗色域)により隔てられた複数の透明域(透光域)を有するルーバーシートと、前記光拡散反射シートとの積層体であってもよい。 - 特許庁

A film 4 for preventing the diffusion of H_2O is formed at least between the multilayer wiring of the logic area and an element forming layer 1 of the logic area.例文帳に追加

少なくともロジック領域の多層配線層と、ロジック領域の素子形成層1との間に、ロジック領域内へのH_2Oの拡散を防止する拡散防止膜4が形成されている。 - 特許庁

An operation of one pixel is fundamentally a signal charge accumulation in a photodiode area 17, a transferring the signal charge accumulated in the photodiode 17 to the charge holding area 21, a holding the signal charge in the charge holding area 21, and a transferring the signal charge from the charge holding area 21 to the floating diffusion area 18.例文帳に追加

ひとつの画素の動作は、フォトダイオード領域17での信号電荷蓄積→フォトダイオード領域17に蓄積された信号電荷を電荷保持領域21に転送→電荷保持領域21における信号電荷の保持→電荷保持領域21からフローティングディフュージョン領域18への信号電荷転送、を基本としている。 - 特許庁

In the channel area between the impurity diffusion layers 20 and 21, charge densities of an area 51 which can be controlled by the selection gate 18 and an area 52 which can be controlled by the memory gate 17 are different from each other.例文帳に追加

不純物拡散層20,21の間に位置するチャネル領域のうち、選択ゲート18により制御され得る領域51とメモリゲート17により制御され得る領域52とにおける不純物の電荷密度が異なる。 - 特許庁

To obtain a riser pipe which can efficiently prevent the diffusion of polluted soil by discharging groundwater in a polluted soil area from the polluted soil area, when the polluted soil exists in the area with a formed groundwater discharge hole.例文帳に追加

本発明は地下水排出穴が形成された部位に汚染された土壌がある場合に、該汚染された土壌部位の地下水を該部より排水して、汚染された土壌の拡散を効率よく防止することができるライザーパイプを得るにある。 - 特許庁

The light-diffusion particulates 21 are to be agglomerates 210, with a ratio of a plane area occupied by the agglomerates 210 on a coated area of the light guide plate base material 1 to a coated area of the coating liquid 2 to be 0.1% or more and 70% or less.例文帳に追加

光拡散微粒子21は凝集体210とされ、導光板基材1の塗工面における凝集体210が占める平面積と塗布液2の塗布面積との比率は0.1%以上70%以下である。 - 特許庁

The signal charge storage part 7 stores the signal charge by a coupling capacitor CFD between the stray diffusion area 22 and the substrate 20.例文帳に追加

信号電荷蓄積部7は、浮遊拡散領域22と基板20との間の接合容量C_FDによって信号電荷を蓄積する。 - 特許庁

A N^+ diffusion layer 8 forms a P/N junction having a junction plane 50 facing the sensing area 6 between it and the P pocket 7.例文帳に追加

N^+拡散層8は、センシング領域6と対向する接合面50を有するP/N接合を、Pポケット7との間で形成する。 - 特許庁

The P-channel MOS transistor 109 is formed in an N well diffusion area formed on a substrate of a P conductivity type.例文帳に追加

このPチャネルMOSトランジスタ109は、P導電型の基板上に形成されたNウェル拡散領域内に形成されている。 - 特許庁

A ring-like n^+ diffusion region 1 is formed in the peripheral area of the surface region of a semiconductor substrate to surround a transistor cell.例文帳に追加

半導体基板の表面領域の外周領域にトランジスタセルを取り囲むようにリング状のn^+拡散領域1が形成される。 - 特許庁

This semiconductor device comprises two trench capacitors 2a and 2b formed inside a semiconductor substrate 1, a first diffusion area 12 formed on those two trench capacitors 2a and 2b, a gate electrode 13 formed on a portion of the first diffusion area 12 and a second diffusion area 16 formed in the periphery of a gate electrode 13 on the surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板1内部に形成された2つのトレンチキャパシタ2a,2bと、この2つのトレンチキャパシタ2a,2b上に形成された第1の拡散領域12と、この第1の拡散領域12上の一部に形成されたゲート電極13と、半導体基板1表面であってゲート電極13の周縁に形成された第2の拡散領域16とを備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁

A 2nd impurity diffusion area of the cell Tr is connected to an accumulation electrode of the capacitor and a gate electrode of the 1st search Tr.例文帳に追加

セルTrの第2の不純物拡散領域がキャパシタの蓄積電極及び第1サーチTrのゲート電極に接続される。 - 特許庁

The emitter diffusion area 23 is formed by self alignment by forming a side wall 14' together with the NPN transistor.例文帳に追加

NPNトランジスタと同時にサイドウォール14’を形成することにより、セルフアラインでエミッタ拡散領域23を形成するようなプロセスとする。 - 特許庁

To secure enough illuminance required of a diffusion area, with the use of light irradiated from an LED light source upward aslant.例文帳に追加

LED光源から斜め上方へ出射する光を用いて拡散領域に要求される照度を十分に確保することができる。 - 特許庁

When the conductivity type of the diffusion layer of a dummy cell region 22 is made opposite to that of the diffusion layers of adjacent memory cells, the diffusion layer formed in the dummy cell region 22 can also the used as a well potential supplying diffusion layer and the increase of the chip area caused by the increase of the split number of a memory cell array section can be suppressed.例文帳に追加

ダミーセル領域22の拡散層の導電型をそれと隣接するメモリセルのセルの拡散層と逆にすれば、ダミーセル領域22に形成される拡散層をウェル電位供給用拡散層として兼用することができ、メモリセルアレイ部の分割数が増大することによるチップ面積の増大を抑制することができる。 - 特許庁

A error diffusion processing part 630 quantizes the noticed picture element to which the quantization error is added in accordance with the diffusion coefficient set, and stores the quantization error of the noticed picture element in a quantization error memory 640 for referring to the quantization error in the error diffusion processing of the current processing area.例文帳に追加

誤差拡散処理部630は、拡散係数セットに応じて量子化誤差を加算した注目画素を量子化し、現在の処理領域の誤差拡散処理において量子化誤差を参照するために注目画素の量子化誤差を量子化誤差メモリ640に格納する。 - 特許庁

A substrate contact diffusion area 13a is formed in a varactor active area by doping an n-well region 12 with comparatively high-concentration N-type impurities, but an extension area (or LDD area), such as the varactor of a usual semiconductor device is not formed.例文帳に追加

バラクタ用の活性領域には、Nウェル領域12に比較的高濃度のN型不純物をドープしてなる基板コンタクト用拡散領域13aが形成されているが、従来の半導体装置のバラクタのようなエクステンション領域(又はLDD領域)は形成されていない。 - 特許庁

The pigment, having the above-described water surface diffusion area, ratio of water surface diffusion area to average particle size, and leafing value, is prepared by controlling the shape of an aluminum powder before grinding or milling, the conditions of grinding or milling, and the like.例文帳に追加

なお、水面拡散面積と、平均粒子径に対する水面拡散面積の比と、リーフィング値と、がそれぞれ上記の範囲にある、アルミニウム顔料は、粉砕、磨砕前のアルミニウム粉末の形状、粉砕条件または磨砕条件などを制御することにより得ることができる。 - 特許庁

To allow indirect observation under the condition where a desired voltage is impressed to a diffusion area of a sample surface part observed actually, without affected by sample structure, when a state of a local depletion layer in the diffusion area of a semiconductor sample is observed by an SCM.例文帳に追加

半導体試料の拡散領域の局所的な空乏層の状態をSCM により観察する際、試料構造の影響を受けることなく、実際に観察している試料表面部の拡散領域に所望の電圧を印加した状態で間接的に観察することを可能にする。 - 特許庁

The He ions are given so that the depth of the p^+ diffusion area 23 may be the irradiation half-value width of the He ion or more, the peak position of the He ion may be deeper than the irradiation half-value width of the He ion, and the peak position may range 80-120% of the depth of the p^+ diffusion area 23.例文帳に追加

Heイオンの照射時には、p^+拡散領域23の深さがHeイオンの照射半値幅以上となり、Heイオンのピーク位置がHeイオンの照射半値幅よりも深く、かつp^+拡散領域23の深さの80〜120%の範囲になるようにする。 - 特許庁

例文

Then, the sum of diffusion coefficients by which quantization errors to be diffused to a direction opposite to the scanning direction of the band area 310 are to be multiplied is made smaller than the sum of diffusion coefficients by which quantization errors to be diffused to the same direction as the scanning direction of the band area 310 are to be multiplied.例文帳に追加

そして、バンド領域310の走査方向とは逆方向へ伝搬させる量子化誤差に乗ぜられる拡散係数の和を、バンド領域310の走査方向と同じ方向へ伝搬する量子化誤差に乗ぜられる拡散係数の和よりも小さくする。 - 特許庁




  
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