「dry- process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for easily and simply producing a tasty salted dried fish, having no need of using a saline solution or preparing a processing tank charged with the saline solution, and unnecessary for carrying out any forcible drying process such as sun dry, hot-air dry or cool-air dry.例文帳に追加

食塩水あるいはそれを収容した処理槽を使用する必要がなく、天日乾燥、熱風乾燥、冷風乾燥等の強制的な乾燥処理を実施しなくても済み、しかも美味である塩干物を容易かつ簡単に製造できる方法を提供すること。 - 特許庁

To enhance production efficiency by developing a process for improving etching accuracy and shortening manufacturing process, in the manufacturing of a stencil masking which aims at reducing the influence of microloading effect in a dry etching production process in the manufacturing process, and to enhance the dimensional accuracy of in a masking face.例文帳に追加

製造過程のドライエッチング工程におけるマイクロローディング効果の影響を低減し、マスク面内の寸法精度を向上させることを目的としたステンシルマスクの製造において、エッチング精度を向上するプロセス開発と製造工程の短縮化を行い、生産効率を高める。 - 特許庁

In the manufacturing process of the rear plate of a plasma display panel, a first heating process 24 in which the fluorescent substance layer is formed and then heated in the dry air and a second heating process 25 in which the fluorescent substance layer is heated in the nitrogen atmosphere at a temperature higher than the first heating process are provided.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの背面板の製造工程において、蛍光体層を形成した後に、乾燥空気中で加熱する第１の加熱工程２４と、窒素雰囲気中で第１の加熱工程よりも高い温度で加熱する第２の加熱工程２５とを設けたものである。 - 特許庁

The problems are resolved by a light emitting layer laminating process laminating a light emitting layer 4A like a buffer layer 2A or an organic fluorescent body layer 3A on a substrate 1 through an electrode, and a dry etching process obtaining a light emitting layer 4A' in a pattern shape by dry-etching the light emitting layer 4A through a mask 5A.例文帳に追加

基板１上に電極等を介し、バッファー層２Ａ、有機蛍光体層３Ａ等の発光層４Ａを積層する発光層積層工程、発光層４Ａをマスク５Ａを介しドライエッチングしてパターン状の発光層４Ａ’を得るドライエッチング工程とにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

The dry weight (EW) per one equivalent weight of ion exchange group is 250-940, while decrease in weight after boiling process for eight hours under water is 5 wt.% or less according to a dry weight reference before boiling process.例文帳に追加

イオン交換基１当量当たりの乾燥重量（ＥＷ）が２５０以上９４０以下であり、かつ水中８時間沸騰処理による重量減少が沸騰処理前の乾燥重量基準で５ｗｔ％以下である事を特徴とする、フッ素系イオン交換樹脂膜。 - 特許庁

Also the invention provides a method for aerosolizing the IL-4R dry powder compositions including a process of providing IL-4R compositions and a process of forming an aerosolized dry powder suitable for inhalation by dispersing the compositions in a gas flow.例文帳に追加

また、本発明は、ＩＬ−４Ｒ組成物を提供する工程および該組成物をガス流中に分散して、吸入のために適切なエアロゾル化乾燥粉末を形成する工程を包含するＩＬ−４Ｒ乾燥粉末組成物をエアロゾル化するための方法を提供する。 - 特許庁

A second coloring layer 60 is formed so as to be buried in an opening section 59 which is formed on the first coloring layer 56 with a dry etching process, and a third coloring layer 64 is formed so as to be buried in an opening section 63 which is formed on the first and second coloring layers 56, 60 with a dry etching process.例文帳に追加

第１の着色層５６にドライエッチング処理で形成した開口部５９に埋め込むように第２の着色層６０を形成し、第１及び第２の着色層５６，６０にドライエッチング処理で形成した開口部６３に埋め込むように第３の着色層６４を形成する。 - 特許庁

Next, a prescribed film is formed by a dry etching process on the through oxide film 5, after the dry etching process, an oxide film surface removing process removing the surface of the through oxide film 5 is performed, and thereafter, an impurity layer is effectively removed by injecting ions through the through oxide film 5 and the prescribed film downward of the films.例文帳に追加

次に、スルー酸化膜５上にドライエッチング工程によって所定の膜を形成し、ドライエッチング工程の後に、スルー酸化膜５の表面を除去する酸化膜表面除去工程を行い、その後、スルー酸化膜５および所定の膜を通してそれぞれの下方にイオン注入することことで、不純物層を効果的に取り除く。 - 特許庁

To provide a method for treating a Cu_3Sb-containing substance such as Cu-removed dross and Sb-removed dross generated in a dry process such as lead smelting.例文帳に追加

鉛製錬の乾式プロセスから発生する脱Ｃuドロスや脱Ｓbドロスなどの、Ｃu_3Ｓb含有物質を低コストで処理する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image display device which is a dry process image display device formed by sealing particles between substrates and can display images having excellent stability.例文帳に追加

粒子を基板間に封入した乾式表示装置において、安定性に優れた画像を表示できる画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide fabrics that have good moisture-permeating, waterproofing properties, and excellent processability and can be suitably used for sportswear and winter wear through the dry process.例文帳に追加

良好な透湿防水性能を有し、かつ加工適性にすぐれたスポーツウエア、防寒衣等に好適な布帛を乾式法にて提供する。 - 特許庁

Consequently, elimination of the dry cleaning process itself and so on are achieved to efficiently recover the raw material itself and the metal contained in the raw material.例文帳に追加

これにより、ドライクリーニング処理自体をなくすなどして原料自体の回収や原料に含まれる金属の回収を効率的に行う。 - 特許庁

To provide a processing method of a substrate improved to structuralize the substrate without using a wet or dry chemical etching process.例文帳に追加

ウエット又はドライケミカルエッチングプロセスを用いることなくサブストレートを構造化することに対して、改善されたサブストレートの処理方法を提案する。 - 特許庁

The dry etching process can be executed under the condition that the aluminum film 103 remains on only the side wall of the hole 321, and a conductive layer 322 is able to be formed.例文帳に追加

このドライエッチングプロセスは、ホール３２１の側壁にのみアルミニウム膜１０３が残留し、導電層３２２を形成可能な条件下とする。 - 特許庁

That is, the control current is raised with the proviso that the horn current becomes the predetermined first current value in the dry mist process.例文帳に追加

つまり、ドライミスト課程では、ホーン電流が予め定められた第１の電流値となったことを条件として、制御周波数が上げられる。 - 特許庁

To discharge and dry a face cleaning liquid without leaving or splashing the face cleaning liquid in a head including a face cleaning process after shipping inspection during the manufacturing of the head.例文帳に追加

ヘッド製造時に出検後にフェイス洗浄工程を含むヘッドにおいて、フェイス面洗浄液の残留や飛散なく、排出乾燥する。 - 特許庁

To greatly improve the workability regarding a dry process fire limit wall installed under such a condition that work is extremely difficult form one side.例文帳に追加

一方の側からは極端に施工困難な条件に設置される乾式工法の防火区画壁に関し、その施工性を大幅に改善する。 - 特許庁

To provide a miniaturized or high-capacity capacitor, which absolute dry treatment process and hardly causes short-circuit trouble due to the permeation of metallic particles.例文帳に追加

絶乾処理工程に耐え、金属粒子の透過による短絡トラブルが起き難く、小型化ないし高容量化されたコンデンサーを提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing coke having a high cold strength and hot strength by agglomerating and dry distilling coal.例文帳に追加

冷間強度、熱間強度ともに高いコークスの得られる、石炭を塊成化して乾留するコークスの製造を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic head, which forms a mask for dry etching to be used in a manufacturing process of a magnetic head with high accuracy.例文帳に追加

磁気ヘッドの製造工程で用いられるドライエッチング用マスクを、高精度に形成することが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

TONER FOR DRY STATIC CHARGE DEVELOPMENT, DEVELOPER USING THE SAME, IMAGE FORMING METHOD USING THE DEVELOPER, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

乾式静電荷像現像用トナー、該トナーを用いた現像剤、該現像剤を用いる画像形成方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ - 特許庁

In a fourth process, the semiconductor substrate side surface 23 of the semiconductor apparatus 3 is dry-etched, and the semiconductor substrate is retreated to the thickness direction.例文帳に追加

第４工程では、半導体装置３の半導体基板側表面部２３をドライエッチングして、半導体基板を厚み方向に後退させる。 - 特許庁

In a following prescribed process, the left n-type amorphous silicon film and intrinsic amorphous silicon film are removed by dry etching.例文帳に追加

そこで、この後の所定の工程において、この残存されたｎ型アモルファスシリコン膜および真性アモルファスシリコン膜をドライエッチングにより除去する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a semiconductor device, after dry etching, the inside of a process chamber 11 is treated with the plasma of an inert gas 25, such as He or the like.例文帳に追加

ドライエッチング後に、プロセスチャンバー１１内をＨｅ等の不活性ガス２５のプラズマによって処理する、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide an image display device which can display images having excellent stability with a dry process display device formed by sealing the particles between substrates.例文帳に追加

粒子を基板間に封入した乾式表示装置において、安定性に優れた画像を表示できる画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a drying method for a casting mold which can quickly and efficiently dry and process the casting mold composed by hardening molding sand with organic self-hardening binder.例文帳に追加

鋳物砂を有機自硬性バインダで固めて成る鋳型を短時間で効率的に乾燥処理することのできる乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing white blast furnace slag particles by a dry granulation process having non of a complex step such as that comprising mixing secondary materials.例文帳に追加

副原料の混合など複雑な工程を必要としない乾式造粒法による白色高炉スラグ粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve durability to a dry process while increase of contact resistance of a lead terminal is restrained by improving durability to oxidation suffered in a process, regarding a lead head element and its manufacturing method.例文帳に追加

リードヘッド素子及びその製造方法に関し、プロセス中で受ける酸化に対する耐性を向上してリード端子の接触抵抗の増大を抑制するとともに、ドライプロセスに対する耐性も向上する。 - 特許庁

Moreover, it is preferable to roughen the silicone rubber layer surface by a dry etching process, thereby performing plate inspection without a dyeing process.例文帳に追加

またシリコーンゴム層表面をドライエッチング処理により粗面化することが好ましく、それにより染色工程を必要とせずに検版が可能である水なし平版印刷版原版を提供することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an oxide thin film transistor element, wherein an etching process condition is optimized by using specific etching gas through a helicon plasma dry etching process and etching selectivity is improved.例文帳に追加

特定エッチングガスを使用してヘリコンプラズマ乾式エッチング工程を通じてエッチング工程条件を最適化し、エッチング選択性を向上させた酸化物薄膜トランジスタ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for working a substrate where a projection shape can be stably and inexpensively formed by a simple process, and the tip of the projection can be held to a clean state by a dry process.例文帳に追加

突起形状を簡便な方法で、安定して安価に形成することができ、ドライプロセスにより突起先端を清浄な状態に保つことが可能となる基板の加工方法を提供する。 - 特許庁

The tongue shape part 32 is erected when the rotary tub 12 is rotated in a low speed in a drying process and is fallen down when the rotary tub 12 is rotated at a high speed in a spin dry process.例文帳に追加

舌状部３２は乾燥行程時に回転槽１２が低速度で回転されるときは起立し、脱水行程時に回転槽１２が高速度で回転されると遠心力によって倒れる。 - 特許庁

Thereby, cleaning liquid in the case of the cleaning process of the package 19 and dry air in the case of a drying process respectively flow into the surrounding of the package 19 through the notched parts 18 and easily flow out.例文帳に追加

これにより、パッケージ１９の洗浄工程では洗浄液が、乾燥工程ではドライエアが、それぞれ切り欠き１８を経由して、パッケージ１９の周囲に流入し、かつ流出しやすくなる。 - 特許庁

The organic EL device 10 has luminous layers 5R, 5G, 5B formed by a wet process, and metal oxide film layers 6 and 7 formed by a dry process between a positive electrode 3 and a negative electrode 4.例文帳に追加

ウェットプロセスで形成した発光層５Ｒ、５Ｇ、５Ｂと陽極３および陰極４の間に、ドライプロセスで形成した金属酸化物薄膜層６および７を備えてなる有機ＥＬ装置１０である。 - 特許庁

The method for treating the film includes a process for applying an organic polymer on a substrate to dry and a process for carrying out the liquid treatment without removing an organic polymer film from the substrate.例文帳に追加

本発明に係るフィルムの処理方法は、有機ポリマーを基材上に塗布し乾燥する工程、および有機ポリマーフィルムを基材から剥離せずに液処理する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To solve problems such that a complex wet process is necessary in conventional direct production of a printing plate, or a printing plate pro duced by a simple dry process has a short service life and is low in printing quality.例文帳に追加

従来のダイレクト刷版の作製では、複雑な湿式プロセスが必要であるか、または簡便に乾式プロセスで作製したものは印刷に供した場合の使用寿命が短く、印刷品質が劣る。 - 特許庁

To provide a lead frame for semiconductor device by which Pb liberalization, dry process making, a suppression in natural erosion are realized simultaneously without changing conventional production equipment in an assembling process.例文帳に追加

組立工程において従来の生産設備を変更することなく、Ｐｂフリー化、ドライプロセス化及び自然腐食の抑制を同時に実現することが可能な半導体装置用リードフレームを提供する。 - 特許庁

To obtain a polyvinyl alcohol fiber having high wet-heat resistance and high tenacity by applying a dialdehyde (derivative) to a polyvinyl alcohol fiber in spinning process, crosslinking the dialdehyde after dry-heat drawing of the fiber and applying a transition metal to the fiber in either step of fiber- making process.例文帳に追加

オートクレーブ養生セメントの補強材のように、高温湿潤状態での使用に最適な耐高温湿潤性の優れたポリビニルアルコール繊維を、安価に、低コストで製造する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device which reduces the variety of a removing amount in removing process such as dry etching process or the like, and to provide a semiconductor manufacturing system for realizing the method.例文帳に追加

ドライエッチングプロセス等の除去プロセスにおいて除去量のばらつきを減少することができる半導体装置の製造方法及びその方法を実現する半導体製造システムを提供する。 - 特許庁

A film forming process of supplying a processing gas into a vacuum processing chamber 2, generating decomposition seeds through a heating catalyst 6, and depositing a deposit on a board 5, an etching process of dry- etching a thin film, and a cleaning process of cleaning the inside of the chamber are carried out.例文帳に追加

真空のプロセスチェンバー２内にプロセスガスを供給し、加熱触媒体６により分解種を生成して、基板５上に堆積物を堆積する成膜プロセス、薄膜をドライエッチングするプロセス又はチェンバー内をクリーニングするプロセスを実施する。 - 特許庁

The method for producing an enzyme-containing granule has a process (A) for drying an enzyme-containing solution to give a powdery enzyme preparation and a process (B) for dry-granulating the powdery enzyme preparation obtained by the process (A).例文帳に追加

次に示す（Ａ）、（Ｂ）の工程を有する酵素含有造粒物の製造方法であって、（Ａ）及び／又は（Ｂ）の工程を、アミノ酸及びその塩から選択される１種又は２種以上の存在下にて行う酵素含有造粒物の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing method of the optical waveguide for forming the optical waveguide in an oxide compound substrate includes first process of forming the optical waveguide in the oxide compound substrate by dry etching process, and a second process of re-coupling the oxygen damaged by the dry etching process by applying heat treatment to the oxide compound substrate having the optical waveguide in an oxygen atmosphere.例文帳に追加

酸化物化合物基板に光導波路を形成する光導波路の製造方法において、ドライエッチングプロセスにより、前記酸化物化合物基板に光導波路を形成する第１の工程と、前記光導波路が形成された前記酸化物化合物基板を、酸素雰囲気中で熱処理を行うことにより、前記ドライエッチングプロセスで欠損した酸素を再結合させる第２の工程とを備えた。 - 特許庁

The etching method includes a process (a) of etching the material containing silicon using the gas plasma containing halogen atoms other than fluorine, a process (b) of dry cleaning the interior of the reaction chamber using the gas plasma containing fluorine after the above process (a), and a process (c) of generating oxygen plasma within the above reaction chamber and performing plasma treatment immediately after the above process (b).例文帳に追加

エッチング方法は、（ａ）反応室内で、シリコンを含む材料を弗素以外のハロゲン元素を含むガスプラズマを用いてエッチングする工程と、（ｂ）前記工程（ａ）の後、前記反応室内を弗素を含むガスプラズマを用いてドライクリーニングする工程と、（ｃ）前記工程（ｂ）の直後に、前記反応室内で酸素プラズマを発生させ、プラズマ処理する工程とを含む。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device including a process for dry etching a silicon nitride film, a mixed gas obtained by doping methanol gas with a prescribed density for a total gas flow rate to fluorocarbon gas is used for the dry etching of a silicon nitride film 15.例文帳に追加

シリコン窒化膜をドライエッチングする工程を含む半導体装置の製造方法において、シリコン窒化膜１５のドライエッチングに、フロロカーボンガスと、総ガス流量に対し所定の濃度のメタノールガスとを添加した混合ガスを用いる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a negative electrode collector for an alkaline dry battery having less liquid leakage or breakage when mounted in the alkaline dry battery and excellent working efficiency by reducing manufacturing processes to one process.例文帳に追加

アルカリ乾電池内に装着した際に、漏液や破損が少なく、さらに、製造工程数を一工程とすることにより作業効率のよいアルカリ乾電池における負極集電体の製造方法を開発することにある。 - 特許庁