「dry- process」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a drying method for a web, which can dry the web without leaving droplets by air jetted from an air knife and speedy without passing through a vain process, and an apparatus therefor.例文帳に追加

エアナイフから噴射されるエアによって液滴を残さず、かつ高速で無駄な工程を経ることなくウェブを乾燥することができるウェブの乾燥方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To make washing process smoothly operated and to efficiently perform cleaning treatment for mask members, when cleaning the mask members by combining dry cleaning and wet cleaning.例文帳に追加

ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。 - 特許庁

To improve adhesion between a polyimide film suited to flexible boards and a metal thin film formed thereon by a dry process and suppress curling, irrespective of the heat history.例文帳に追加

フレキシブル基板に適したポリイミドフィルムと、その上にドライプロセスにより形成される金属薄膜との間の密着性を向上させ、同時に熱履歴の内容によらずカールの発生を抑制する。 - 特許庁

The process for converting the gaseous alkanes to the liquid hydrocarbons is provided wherein a gaseous feed containing alkanes is reacted with a dry bromine vapor to form alkyl bromides and hydrobromic acid vapor.例文帳に追加

アルカンを含有するガス状原料を乾燥臭素気体と反応させて臭化アルキル及び臭化水素酸気体を形成するガス状アルカンを液状炭化水素に変換する方法。 - 特許庁

In the dry etching method using mixed gas of only CF_4 and Ar as process gas, O_2 gas is added to reduce the in-plane variance in etching rate.例文帳に追加

プロセスガスとしてＣＦ_4とＡｒのみの混合ガスを用いるドライエッチング方法において、Ｏ_2ガスを添加するようにしたことにより、エッチングレートの面内バラツキを低減させることができるようになる。 - 特許庁

In forming the crosslinked polyurethane resin layer 8b and the dry-process cured resin layer 8c, the moist heat-cured resin layer 8a formed on the surface of the polyester fibers 12 suppresses the deformation of the nonwoven fabric 2.例文帳に追加

架橋ポリウレタン樹脂層８ｂ、乾式硬化樹脂層８ｃの形成時に、ポリエステル繊維１２の表面に形成された湿熱硬化樹脂層８ａが不織布の変形を抑制する。 - 特許庁

A polyimide film 32 is formed by applying a polyimide on a PET sheet 33 and a hole 34 of a desired shape is formed by applying dry-etching process to the polyimide film 32 (Fig.3(A)).例文帳に追加

ＰＥＴシート３３上にポリイミドを塗布等して、ポリイミド膜３２を形成し、このポリイミド膜３２に対して、ドライエッチングして所望の形状の孔３４を形成する（図３（Ａ））。 - 特許庁

In one embodiment, a unitary dosage form made by a process comprising dry granulation of a composition comprising emtricitabine and tenofovir DF is provided.例文帳に追加

１つの実施形態において、本発明により、エムトリシタビンおよびテノフォビルＤＦを含む組成物の乾式造粒を含む方法により製造される一体型剤形が提供される。 - 特許庁

A process for forming an opening in an insulation layer 4 formed of a silicone ladder polymer to expose a carbon nanotube layer 3 is executed by using two kinds of dry etching having distinct conditions.例文帳に追加

シリコーンラダーポリマーからなる絶縁層４に開口部を形成し、カーボンナノチューブ層３を露出させる工程は、条件が異なる２種類のドライエッチングを用いて実行される。 - 特許庁

To establish a practical process for largely producing an oligopeptide of high glutamine content, which is expected the clinical application as a nutrient agent for intestinal administration, from porous dry glutene.例文帳に追加

経腸栄養剤としての臨床応用が期待される、グルタミン含有量の高いオリゴペプチドを、多孔質の乾燥グルテンから大量に生産する実用的工程を確立する。 - 特許庁

Either one of the dry air or the atmosphere is supplied to the air supply duct 62 in response to the opened and closed state of the control valves 130a, 130b, and the drying process of the substrate W is performed.例文帳に追加

制御バルブ１３０ａ，１３０ｂの開閉状態に応じてドライエアおよび大気のいずれか一方が気体供給ダクト６２に供給され、基板Ｗの乾燥処理が行われる。 - 特許庁

To provide a nano crystal grain dispersion solution for providing the quality equal to that of an electronic device using the conventional sputtering process, vacuum deposition, and the like even in application or a dry technique.例文帳に追加

塗布、乾燥手法によっても、従来のスパッタリング法、蒸着法等を用いた電子デバイスと同様な品質を有することが可能なナノ結晶粒子の分散液を提供する。 - 特許庁

Next, a dry film is laminated on the metal thin film 2, and then subjected to exposure and development, thereby forming a plating resist 3 with the resist having a pattern opposite to a conductor pattern 4 in a later process.例文帳に追加

続いて、金属薄膜２上にドライフィルム等をラミネートし、露光および現像することにより、後工程で形成される導体パターン４とは逆パターンのめっきレジスト３を形成する。 - 特許庁

The method for producing the deodorated natural rubber composition comprises charging hydrotalcite to a dry pre-breaker after a drying step in a process for producing a natural rubber composition.例文帳に追加

本発明の消臭天然ゴム組成物の製造方法は、天然ゴムの製造工程において、乾燥工程後のドライプリブレイカーに、ハイドロタルサイトを投入することを特徴とする。 - 特許庁

At this time, the spectral analysis involves introduction of a semiconductor substrate into the process chamber, dry etching of the semiconductor substrate with a plasma, detection of the beam emitted from a viewpoint during dry etching, and turning of the beam into a spectrum, as well as sampling the spectrum per dry etching time zone, and aquisition of more than one specific wave strength.例文帳に追加

この時、スペクトル分析は、工程チェンバー内に半導体基板を投入する段階と、前記半導体基板をプラズマで乾式エッチングする段階と、乾式エッチングの間にビューポイントから投射された光を検出する段階と、前記光をスペクトル化することは勿論、スペクトルを乾式エッチング時間帯ごとに抽出して、一つ以上の特定波の強さを得る段階で構成される。 - 特許庁

In a resist film forming unit 23, which forms a resist film by a dry process with a substrate G, there are provided development process unit 24 which exposes the resist film formed on the substrate to a prescribed pattern before development in a drying process, and a transfer mechanism 32 for transferring the substrate G to the resist film forming unit 23 and the development process unit 24, which are configured as one body.例文帳に追加

基板Ｇに対してドライプロセスによりレジスト膜を形成するレジスト膜形成ユニット２３と、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光後、ドライプロセスにより現像する現像処理ユニット２４と、これらレジスト膜形成ユニット２３および現像処理ユニット２４に対する基板Ｇの搬送を行う搬送機構３２とを具備し、これらが一体的に構成されている。 - 特許庁

To provide a power supply for dry vacuum pumps that can stably supply a current capable of generating a large torque different from a torque in a rated operation from an inverter to a drive motor during a starting process by individually setting an overcurrent setting value for detecting an overload fault according to respective conditions during the rated operation and the starting process, and to provide a method of operating the power supply for dry vacuum pumps.例文帳に追加

過負荷異常を検出するための過電流設定値を定格運転中と起動工程中とで各々条件に合わせて個別に設定することで、起動工程中に定格運転とは異なる大トルクを発生できる電流をインバータから駆動電動機に安定して供給できるドライ真空ポンプ用電源装置、及びその運転方法を提供すること。 - 特許庁

The image display medium, which has two sheets 121 and 112 having light transparency, developer housing cells which are formed therebetween and circumferentially enclosed by partition walls and the dry process developer included in the respective cells and in which the developer contains triboelectrified dry process developing particles varying in electrostatic charge polarities from each other and varying in optical reflection density from each other, is prepared.例文帳に追加

光透過性を有する２枚のシート１２１、１２２と、その間に形成され、周囲を仕切り壁で囲まれた現像剤収容セルと、各セルに内包された乾式現像剤とを有しており、現像剤は、互いに帯電極性の異なる、且つ、互いに光学的反射濃度の異なる、摩擦帯電した乾式現像粒子を含んでいる画像表示媒体を準備する。 - 特許庁

To provide dry solid feed or to obtain a dry solid feed additive for culturing fish and shellfish having function of prevention or reduction of fish disease damage through maintaining and improving an anti-disease property in the production process of cultured fish and shellfish, and enabling differentiating the value of a product through making the product fine in appearance, safe and relieved in the sale process.例文帳に追加

本発明は、養殖魚介類の生産過程では抗病性を維持・向上させることによる魚病被害の予防又は軽減の機能を持ち、その販売過程では外見が美しく、安全・安心で、生産物の価値を差別化できるような魚介類養殖用の乾燥固形飼料又は乾燥固形飼料用の添加剤を開発することを課題とする。 - 特許庁

In a dry etching process for forming a gate, a conventional etching process is performed using gas including HBr, Cl_2 and O_2 as a general plasma gas, till a point when at least part of the oxide film of the gate is exposed (gate oxide film exposure time).例文帳に追加

ゲートを形成するためのドライエッチング工程において、ゲート酸化膜の少なくとも一部分が露出する時点（ゲート酸化膜露出時点）までは一般的なプラズマガスとしてＨＢｒ、Ｃｌ_２及びＯ_２を含むものを用いて従来のエッチング工程を行う。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a purified liquid (B) obtained by a purification process for a vacuum dry distillate of tea leaves (A) through adsorption/desorption using an adsorbent and a production process therefor, and to provide external agents such as antiperspirants containing the purified liquid.例文帳に追加

茶葉の減圧乾留液(A) から吸着剤を用いて吸脱着することにより精製処理した精製液(B) およびその製造法を提供すること、さらにはその精製液を含有させた制汗剤などの外用剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

To form an oxide film exhibiting "durability against etching liquid sufficient for protecting silicon films against etching" in dry process and having "such a film quality that impurities can migrate through the oxide film during a heating process for gettering so that the gettering is carried out without problems".例文帳に追加

ドライプロセスで「エッチングに十分耐えシリコン膜を保護することができる、エッチング液に対する耐性」及び「ゲッタリング処理を問題なく行うために、ゲッタリングのための加熱処理の際に、酸化膜中を不純物が移動できる膜質」を有する酸化膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing film carrier in which a resist pattern is stably formed using a batch type vacuum laminator for adhesion of dry film and a batch type vacuum ashing device for the ashing process and plating failure and adhesion failure in the mounting process are never generated.例文帳に追加

ドライフィルムの貼り合わせにバッチ式の真空ラミネータ装置、アッシングにバッチ式の真空アッシング装置を用いて、レジストのパターンを安定して形成し、まためっき不良や実装時の密着不良を発生させないフィルムキャリアの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since an IPA water vapor can be supplied in the chamber 5 or the chamber 5 can be decompressed, ozone treatment, surface treatment with a process liquid, and a dry process are carried out in a single chamber 5, resulting in a smaller footprint of the substrate processing equipment 1.例文帳に追加

さらに、チャンバ５内へのＩＰＡ蒸気供給やチャンバ５内の減圧を行うこともできるため、オゾン処理、処理液による表面処理、乾燥処理を一つのチャンバ５内にて行うことができ、基板処理装置１のフットプリントを小さくすることができる。 - 特許庁

The length of the short sides of the vibrating plate is formed 150μm or less and the clearance 7 is formed by the sacrificing layer process performing dry etching using sacrificing layer removal holes provided along the long sides.例文帳に追加

振動板の短辺長は１５０μｍ以下に形成され、空隙７は振動板の長辺に沿って設けられた犠牲層除去孔を用いてドライエッチングを行う犠牲層プロセスによって形成される。 - 特許庁

To suppress the variation in grain size of silicon nano clusters in the shape of a dot by a simple method by a dry process which does not use gas irradiation, and to further reduce the grain size and increase the number density of the silicon nano clusters.例文帳に追加

ガス照射を利用しないドライプロセスによる簡素な方法により、ドット状のシリコンナノクラスタにおける粒径バラツキを抑えるとともに、さらなる粒径の縮小化及び高数密度化を図る。 - 特許庁

The method for manufacturing the polarizing film is characterized in that a polyvinyl alcohol film, in which foreign matters of 20 μm or larger on the surface are not more than ten pieces per one square meter, is stretched by a dry process.例文帳に追加

フィルム表面に存在する２０μｍ以上の大きさの異物が１平方ｍ当たり１０個以下のポリビニルアルコールフィルムを乾式法で延伸することを特徴とする偏光フィルムの製造法。 - 特許庁

To provide a dry etching method which can prevent side etching of resist from occurring and can process a base film into a desired shape in an excellent way, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加

レジストのサイドエッチングの発生が抑制され、下地膜を所望の形状に良好に加工することが可能なドライエッチング方法、及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

At the crystallization process, temperature of the wet film 38 is adjusted to 85 to ≤100°C by supplying dry wind to the wet film 38 having residual solvent amount ZY of 10 to ≤15 wt.%.例文帳に追加

結晶化工程では、残留溶媒量ＺＹが１０〜１５重量以下の湿潤フィルム３８に、乾燥風をあてて、湿潤フィルム３８の温度が８５〜１００℃以下となるように調節する。 - 特許庁

To provide a dry toner capable of balancing the image concentration and image fog, exerting no adverse influence on a developing sleeve, a photoreceptor drum and an intermediate transfer body and being applied to an electrophotographic process to a high degree.例文帳に追加

画像濃度と画像カブリのバランスがとれ、現像スリーブや感光体ドラム、中間転写体等に悪影響を及ぼさない、電子写真プロセスに高度に適用した乾式トナーを提供することにある。 - 特許庁

A p-type InP buffer layer 2, an active layer 3, and an n-type InP clad layer 4 formed on a p-type InP substrate 1 are processed through a first dry etching process for the formation of a ridge 6.例文帳に追加

ｐ型ＩｎＰ基板１の上に形成された、ｐ型ＩｎＰバッファ層２、活性層３およびｎ型ＩｎＰクラッド層４を第１のドライエッチングにより加工して、リッジ部６を形成する。 - 特許庁

To form a dry surface treatment coating film on the surface of a galvanized steel sheet, which contains no chromium compound, prevents occurrence of black stains in a deep drawing process, and has good corrosion resistance and oil repelling property.例文帳に追加

クロム化合物を含有せず、深絞り加工時の黒ずみ発生を防止でき、耐食性が良好で、油弾き性が良好な乾燥表面処理皮膜を亜鉛系めっき鋼板表面に形成する。 - 特許庁

This manufacturing method of the polarizing film is characterized in that polyvinyl alcohol film having a thickness of 10-50 μm and a width of 2-3.5 m is drawn by a dry process using a drawing roll at 80-140°C.例文帳に追加

厚みが１０〜５０μｍ、フィルム幅が２〜３．５ｍであるポリビニルアルコールフィルムを８０〜１４０℃の延伸ロールを用いて乾式法で延伸することを特徴とする偏光フィルムの製造法。 - 特許庁

To provide a method of forming a bit contact which settles an issue of insufficient separation margin on resist pattern exposure as well as local variations in dry-etching process to suppress increase in the number of steps and laboriousness.例文帳に追加

レジストパターン露光時の分離マージン不足の解消と同時にドライエッチング加工の局所ばらつきを解消し、工程数の増大及び煩雑化を抑えたビットコンタクトの形成方法を提供する。 - 特許庁

A method has an etching process wherein a specimen 21 with a resist pattern 30 formed on its top surface is subjected to plasma-aided dry etching for the formation of a layer with its cross section having protrusions.例文帳に追加

上面にレジストパターン３０が形成された試料２１に対して、プラズマによるドライエッチングを行なうことにより、試料２１の上部に断面凸状部を形成するエッチング工程を有している。 - 特許庁

The microporous membrane is made by a dry-stretch process and has substantially round shaped pores and a ratio of lengthwise direction tensile strength to transverse direction tensile strength in the range of 0.5 to 5.0.例文帳に追加

乾燥−延伸法によって製造され、ほぼ丸い形状の孔を有し、横方向の引張り強度に対する縦方向に対する引張り強度の比は０．５〜５．０の範囲を有する微細多孔質膜。 - 特許庁

To enhance image quality by improving the reproducibility of a line width and dot diameter as well as image density of a digital image forming device using a dry process two-component developer for which an iron powder carrier is used.例文帳に追加

鉄粉系キャリアを用いた乾式２成分系現像剤を使用したデジタル画像形成装置において、ライン幅およびドット径の再現性、ならびに画像濃度を向上して高画質化を図る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an information display panel in which a satisfactory production efficiency can be obtained by performing a short-circuit removal process of removing inter-electrode short-circuit of a completed dry information display panel.例文帳に追加

完成した乾式の情報表示用パネルの電極間ショートを除去するショート除去工程を行うことにより、生産効率の良い情報表示用パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process, a granulating liquid is sprayed to particles while the particles are affected by quick revolving and rising flows in a vertical pipe 7 to bring the particles into contact with one another and dry them.例文帳に追加

この工程においては、造粒される粒子が、垂直管７の中で急速旋回上昇ガス流の影響を受けながら、造粒液を噴霧され、相互に接触させられ、乾燥される。 - 特許庁

To provide a method with which undersize powder from dry-pellet and pellet exhausted to out of the system can be treated without circulating to a granulating process, in order to reduce a producing cost of a reduced metal.例文帳に追加

還元金属の製造コストを低減すべく、乾燥造粒物由来の篩下粉および系外排出造粒物を造粒工程に循環することなく処理できる方法を提供する。 - 特許庁

At the orientation maintaining process, temperature of the wet film 38 is adjusted to 30 to ≤40°C by supplying dry wind to the wet film 38 having residual solvent amount ZY of 70 to ≤100 wt.%.例文帳に追加

配向維持工程では、残留溶媒量ＺＹが７０〜１００重量以下の湿潤フィルム３８に乾燥風をあてて、湿潤フィルム３８の温度が３０〜４０℃以下となるように調節する。 - 特許庁

Furthermore, a smooth production of tablets can be carried out by a rotary tableting machine even if the ratio of an essential lubricant is 0.125 wt.% in dry tableting process such as magnesium stearate.例文帳に追加

また、乾式の打錠工程において不可欠な滑沢剤（例えばステアリン酸マグネシウム）の割合が０．１２５重量％（外割）であっても、ロータリー打錠機においてスムーズな生産を行うことができた。 - 特許庁

To provide a dry etching method which allows low taper angle by employing an inclined structure of two steps or more in the etching sidewall, and simplification of the peeling process after etching.例文帳に追加

本発明は、エッチング側壁を２段以上の傾斜構造にしてテーパー角を低角度にするとともに、エッチング後の剥離工程を簡素化できるドライエッチング方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

Thus, the stencil mask and its manufacturing method can be provided, which can improve the size precision in the stencil mask substrate surface by reducing the influence of microloading effect in the dry etching process.例文帳に追加

したがって、ドライエッチング工程におけるマイクロローディング効果の影響を低減させて、ステンシルマスク基板面内の寸法精度を向上させるステンシルマスクおよび製造方法を提供することができる。 - 特許庁