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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > dry- processの意味・解説 > dry- processに関連した英語例文

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dry- processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1082



例文

To provide a waste liquid treatment method which is excellent in treatment efficiency and controls the discharge of secondary byproducts such as chlorine gas by introducing a solvent separation process in a series of processes for decomposing chlorine-containing organic solvents in waste liquid, a waste liquid treatment apparatus for the method, and a cleaning apparatus using the treatment apparatus or dry cleaning apparatus and to automate a series of the processes.例文帳に追加

廃液中の塩素系有機溶剤を分解処理する一連の過程において、溶剤分離過程を導入し、処理効率に優れ、塩素系ガスなどの2次副産物の排出を抑制した廃液処理方法およびそれに用いる廃液処理装置およびこれを用いた洗浄装置またはドライクリーニング装置を提供し、これら一連の過程を自動化する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a process of subjecting an inter-layer insulating layer 61 to dry etching using a mask having a plurality of first openings and a plurality of second openings arranged more closely than the first openings, and forming first holes reaching a ground layer 10 below the first openings and second holes 41 reaching the ground layer 10 below the second openings.例文帳に追加

実施形態によれば、半導体装置の製造方法は、複数の第1の開口と第1の開口よりも密に並んだ複数の第2の開口とを有するマスクを用いて層間絶縁層61をドライエッチングし、第1の開口の下で下地層10に達する第1のホールと、第2の開口の下で下地層10に達する第2のホール41とを同時に形成する工程を備えている。 - 特許庁

To provide a cleaning method of easily removing residues generated at dry-etching carried out for etching an a-Si semiconductor layer or a polysilicon semiconductor layer and very efficiently cleaning a semiconductor substrate without corroding a silicon wafer, a board of glass, plastic or the like, and a-Si, polysilicon, and wiring materials used for a thin film circuit at all in a semiconductor substrate manufacturing process.例文帳に追加

半導体基板を製造する工程で、半導体層であるa−Siやポリシリコン等のドライエッチング時に発生する残渣物を容易に除去でき、さらにガラス、シリコンウェハー、プラスチック等の基板や薄膜回路に使用されるa−Si、ポリシリコンや配線材料を全く腐食することなく極めて効率良く半導体基板を洗浄する方法を提供する。 - 特許庁

The method for regenerating a carrier for a two-component electrostatic charge image dry developer aims to regenerate the carrier having resin coated on the surface of a core material, and is characterized in that a used two-component developer or a resin coated carrier obtained by separating a toner component by a toner removing process on the used developer is subjected to carbonization and then to decarbonization followed by characteristic processing.例文帳に追加

芯材の表面を樹脂被覆したキャリアの再生処理方法であって、使用済み二成分系現像剤又は該現像剤を脱トナー処理によりトナー成分を分離して得られた樹脂被覆キャリアを炭化処理した後、脱炭処理を行い、次いで特性処理を施すことを特徴とする二成分系静電荷像乾式現像剤用キャリアの再生方法を採用する。 - 特許庁

例文

To provide a dry crushed product of crude copper phthalocyanine which is very effective in productivity and cost, and a direct process for production of a printing ink using the crushed product producing a base ink and the lithographic printing ink preventing increased viscosity, red tinge color tone caused by residual α-type crystals and declined fluidity and increased viscosity by deterioration of dispersibility.例文帳に追加

生産性やコストの面で非常に有効な手段である、粗製銅フタロシアニンの乾式粉砕した摩砕物および該摩砕物を用い直接印刷インキを製造する方法において、高粘度化が防止されたベースインキや、α型結晶残存による色相の赤味化や分散性劣化に起因する流動性の劣化・高粘度化が防止された平版印刷インキを提供することである。 - 特許庁


例文

To provide a method for recovering high purity monomer which produces an acrylic resin product with extremely reduced impurity and high transparency, without decomposition of the monomer gas produced by pyrolysis in a recovery process recovering the monomer from an acrylic resin waste or the like mainly comprising methyl methacrylate monomer in dry distillation using a heating vessel with an agitator.例文帳に追加

メチルメタクリレート単位を主成分とするアクリル系樹脂廃材等からモノマーを回収するに際して、攪拌装置を有する加熱釜を用いた乾留方式において、加熱分解で生じたモノマーガスがさらに分解変化をすることなく、不純物の少ない極めて高度な透明性を有するアクリル樹脂製品の製造が可能な高純度なモノマーを回収する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an alkaline dry battery capable of enhancing discharge performance, by increasing filling on a zinc negative electrode by improving a process to isolated a positive electrode can from the zinc negative electrode, and by preventing an area facing the positive electrode binder and the zinc negative electrode from decreasing by hot melt resin creeping up to the inner surface of a separator.例文帳に追加

正極缶と亜鉛負極とを隔離する工程を改善することにより、亜鉛負極の充填量を増加させることができるともに、ホットメルト樹脂のセパレータの内面への這い上がりによる正極合剤と亜鉛負極との対向面積の減少を防止することができ、その結果放電性能の向上を図ることができるアルカリ乾電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

The silver salt photothermographic dry imaging material contains a non-photosensitive organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent for silver ions and a binder, wherein at least one of the constituent layers of the imaging material contains a compound capable of forming a dye represented by formula (D1) in a heat developing process.例文帳に追加

非感光性有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、銀イオン還元剤、及びバインダーを含有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、当該イメージング材料の構成層の少なくとも1層が、下記一般式(D1)で表される色素を熱現像過程において形成し得る化合物を含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 - 特許庁

To obtain a polyolefin fiber treatment agent in the dry process for producing polyolefin nonwoven fabrics that shows excellent card passage, as the occurrence of scum and/or fly is suppressed at the card web production step, by formulating a specific polyether and a specific organic phosphoric ester salt to the fiber treatment agent.例文帳に追加

乾式法による不織布製造用ポリオレフィン系繊維にそのウエッブ製造工程におけるスカムやフライの発生を抑えて優れたカード通過性を付与し、同時に得られるカードウェッブに優れた地合の均一性、透水性、耐久親水性及びウェットバック防止性を付与することができる、乾式法による不織布製造用ポリオレフィン系繊維の処理剤及び処理方法を提供する。 - 特許庁

例文

The dry etching process comprises a step of disposing a semiconductor substrate where the photoresist pattern is formed on an etched membranous object in a reactor, a step of selectively depositing polymer on an upper section of the photoresist pattern by supplying the CO gas into the reactor to form a polymer layer, and a step of etching the etched membranous object with the photoresist pattern and polymer layer as the masks.例文帳に追加

乾式エッチング方法は、被エッチング膜質上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板を反応器内に配置する段階と、反応器内にCOガスを供給してフォトレジストパターンの上部にポリマーを選択的に蒸着してポリマー層を形成する段階と、フォトレジストパターン及びポリマー層をマスクとして被エッチング膜質をエッチングする段階と、を含む。 - 特許庁

例文

A dry etcher having a lower electrode housed in a vacuum vessel for holding a wafer 10 to be processed by introducing an etching gas and applying high-frequency power to generate a discharge plasma, comprises an electrostatic chuck mechanism housed in the vacuum vessel for fixing the wafer and a cover ring 13 housed in a process chamber for covering the upper side of the periphery of the wafer or above it.例文帳に追加

真空容器内に被処理ウェハ10を保持する下部電極を収容し、エッチングガスが導入され、高周波電力が印加されることによって放電プラズマを発生するドライエッチング装置において、真空容器内に収容され、ウェハを固定するための静電チャック機構と、処理容器内に収容され、ウェハの周辺部の上面あるいは上方を覆うカバーリング13とを具備する。 - 特許庁

In addition to a method of manufacturing the FBAR element, there is provided a method of manufacturing the FBAR element, which is capable preventing structural drawbacks occurring in an air gap forming process due to normal wet etching, by forming a sacrificial layer 53 with a polysilicon and forming an air gap (A3) by dry etching, and which is capable of freely adjusting locations and the number of via holes.例文帳に追加

さらに、本発明は、かかるFBAR素子の製造方法ばかりでなく、犠牲層53をポリシリコンから構成しドライエッチングによりエアギャップ(A3)を形成することで通常のウェットエッチングによるエアギャップ形成工程において生じる構造的欠陥を防止できると同時に、バイアホールの形成位置及び数を自在に調節できるFBAR素子の製造方法も提供する。 - 特許庁

In the solid-state imaging apparatus 10 whereon a plurality of photodiodes in an imaging region and each MOS transistor in its peripheral circuit region are loaded together, a reflection preventing film 7 of a photodiode surface and a sidewall 9 provided to a side wall of a gate electrode 3 of the MOS transistor are formed simultaneously in the same process, by photolithograpy and dry etching by laminating three layers of insulating films 4 to 6.例文帳に追加

撮像領域の複数のフォトダイオードとその周辺回路領域の各MOSトランジスタが混載された固体撮像装置10において、フォトダイオード表面の反射防止膜7と、MOSトランジスタのゲート電極3の側壁に設けられるサイドウォール9とを、3層の絶縁膜4〜6を積層してフォトリソグラフィーとドライエッチングにより同時に同一工程で形成する。 - 特許庁

After the replacement with the IPA liquid, the IPA liquid is removed from the substrate surface Wf to dry the surface Wf, in such a case, the water absorption by the IPA liquid is suppressed, so that remaining of water in the IPA liquid on the substrate surface Wf is securely suppressed through the drying process to effectively suppress the occurrence of the watermark and pattern destruction.例文帳に追加

そして、IPA液への置換後に、基板表面WfからIPA液が除去されて基板表面Wfが乾燥されるが、上記したようにIPA液への水分吸湿が抑制されていることから、当該乾燥処理によりIPA液中の水分が基板表面Wfに残留するのが確実に抑えられてウォーターマークやパターン倒壊を効果的に抑制している。 - 特許庁

The ferromagnetic iron alloy powder is obtained by reacting the metal powder consisting of the acicular particles essentially consisting of the iron and having the mean major axis diameter of20 to80 nm with pure water under conditions under which oxygen does not substantially exist to form metal oxide films on the particle surfaces and reacting the metal powder with a weak oxidizing gas by a wet or dry process when needed.例文帳に追加

この強磁性鉄合金粉末は,鉄を主成分とし且つ平均長軸長が20nm以上で80nm以下の針状の粒子からなるメタル粉を実質上酸素が存在しない条件下純水と反応させて粒子表面に金属酸化膜を形成し,必要に応じて弱酸化性ガスと湿式または乾式で反応させることによって得られる。 - 特許庁

To provide a method for producing pounded rice cake which has chewy differentiated texture compared to the conventional production method, and capable of maximizing productivity, needless to say through automating each process to perform continuous processes, and capable of bringing the effect of cost reduction and reducing environmental pollution using a dry type flour milling method.例文帳に追加

本発明によれば、各工程を自動化することによって連続的な工程遂行をできるようにして生産性を極大化することができることは勿論、乾式製粉法を用いて費用節減の効果と環境汚染を減らすことができるし、従来の製造方法に比べてしこしこした差別化された食感を持つ搗餅を製造する方法を提供することを発明の目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the dried ceramic molded object includes a process for holding a ceramic molded object, which is composed of an unbaked or backed ceramic substrate formed of a ceramic raw material and the coating layer, which comprises a coating material containing a ceramic powder, formed on the outer periphery of the ceramic substrate, to 80°C in its surface temperature to dry the same to obtain the dried ceramic molded object.例文帳に追加

セラミック原料によって形成された未焼成又は焼成済のセラミック基体と、セラミック基体の外周上に形成された、セラミック粉末を含有するコート材からなるコート層とを備えたセラミック成形体を、その表面温度を80℃以上に保持して乾燥させ、乾燥セラミック成形体を得ることを含む乾燥セラミック成形体の製造方法である。 - 特許庁

The immobilization agent adopted in an immobilization process is prepared by dehumidifying the inside of the Pu immobilization device 4 filled with a parent metal UO_2 for the immobilization agent inside by a vacuum pump 5, and by circulating, in the dehumidified inside, fluorine which is a reaction fluid for preparing the parent metal into the immobilization agent through a flow rate controller 3 into the inside thereof in a dehumidified dry environment.例文帳に追加

前記固定化する過程で採用される固定化剤は、内部に固定化剤の母材UO_2 を充填したPu固定化装置4のその内部を真空ポンプ5で引いて除湿し、除湿したその内部にて、母材を固定化剤に調製するための反応流体であるフッ素を流量コントローラ3を通じてその内部に流して除湿乾燥環境下で調製される。 - 特許庁

The device for developing a conductive material precursor after exposure having at least one layer of silver halide emulsion includes a washing unit comprising at least three washing tanks and a rinsing tank, and a drying unit to consecutively dry the photosensitive layer, wherein a process liquid draining means is provided at the entrance and exit of each washing tank and at the entrance of the rinsing tank.例文帳に追加

少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を露光後、現像処理する装置において、水洗部が少なくとも3槽の水洗槽とリンス槽、続いて該感光層を乾燥する乾燥部から構成され、該各水洗槽の入口と出口、及び該リンス槽の入口に処理液切り手段を設けたことを特徴とする導電性材料前駆体の現像処理装置。 - 特許庁

This method of manufacturing the sub master mold 20 from a master pattern mold 30 for imprint having grooves corresponding to the minute pattern includes a minute pattern dimension fluctuation process of performing dry etching using oxygen gas with respect to a resist layer 4 which is formed on a hard mask layer formed on a substrate 1 for the sub master mold and to which the minute pattern of the master pattern mold 30 is transferred.例文帳に追加

微細パターンに対応する溝が設けられたインプリント用の元型モールド30からサブマスターモールド20を製造する方法において、前記サブマスターモールド用の基板1上にはハードマスク層が形成され、前記ハードマスク層上に形成され且つ元型モールドの微細パターンが転写されたレジスト層4に対して、酸素ガスを用いたドライエッチングを行う微細パターン寸法変動工程を有する。 - 特許庁

To provide a disperse dye ink used for inkjet printers having sublimation fastness, dry-heat fastness more favorable than dye sublimation inks by refining a disperse dye which forms a color at high temperature of 200-240°C, improving a solvent, improving the head of the inkjet printer and improving heating and other process conditions during a color forming step; and to provide a dyeing method using the same.例文帳に追加

本発明は、摂氏200度から240度の高温で発色する分散染料を精製し、溶媒を改良し、インクジェットプリンターのヘッドを改良し、発色工程での加熱等の条件を改良して、昇華堅牢度、乾熱堅牢度が、昇華染料インクと比較して、より良好なインクジェットプリンター用分散染料インク及び該インクを用いた染色方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a purification method wherein a gas containing noxious compounds such as trimethylgallium discharged from a manufacturing process of gallium nitride compound semiconductors is purified efficiently and with improved purification capacity, without reducing efficiency of removing a noxious component, and without generating anew another noxious component such as a nitogen oxide, even though the treatment objective noxious gas is dry and contains ammonia.例文帳に追加

窒化ガリウム系化合物半導体の製造工程等から排出されるトリメチルガリウム等の有害成分を含むガスを、その処理対象の有害ガスが乾燥した場合であっても、アンモニアを含んでいる場合であっても、有害成分の除去率を低下させることなく、新たに窒素酸化物等の有害成分を生成させることなく、効率よく優れた浄化能力で浄化できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a trunk door adhering work device and an adhering work method for an elevator capable of improving working efficiency, and capable of shortening the whole work time without the need to dry by applying pressure by, for example, weight, when drying a trunk door, while reducing a work process number when performing adhering work of a reinforcing material to a plurality of trunk doors.例文帳に追加

複数のトランク扉への補強材の接着作業を行うにあたり作業工程数を減少させることができ、さらに、トランク扉の乾燥を行う際に例えば重りにより圧力をかけて乾燥を行う必要がなくなるので作業性を向上させることができ、全体の作業時間を短縮することができるエレベータ用トランク扉接着作業装置および接着作業方法を提供する。 - 特許庁

At the time of generation stoppage processing in a scavenging process at generation stop of a fuel cell system 10, dry oxidizer gas is made to flow in reversed direction in an oxidizer gas passage 46 using an oxidizer gas flow-direction reversing mechanism 200, thereby, moisture in the oxidizer gas passage 46 is discharged and the residual moisture on the surface of the electrolyte membrane 20b can be uniformly distributed.例文帳に追加

発電停止処理時に、燃料電池システム10の発電停止時における掃気工程において、酸化剤ガスの通流方向逆転機構200を用いて、酸化剤ガス流路46に乾燥した酸化剤ガスを流す方向を逆転させて流すようにしているので、酸化剤ガス流路46における水分が排出され、かつ電解質膜20b面内の残留水分を均一に分布させることできる。 - 特許庁

To provide a method for returning wear resistance and durability of a semiconductor manufacturing device, especially various semiconductor manufacturing devices used in a dry process and a movable part member of constituent members thereof to their initial state or further improving them, by repairing and recovering a surface thereof readily when they wear because of corrosion and erosion wear due to halogen and halogenated compound gas.例文帳に追加

本発明の目的は、半導体製造装置、とくにドライプロセスにおいて使用されている各種の半導体製造装置およびその構成部材のうち可動部部材が、ハロゲンやハロゲン化合物のガスによる腐食とエロージョン摩耗によって減肉した場合に、その表面を簡便に補修して復元させることにより、これらの耐摩耗性、耐久性を初期状態に戻すかさらに向上させるための方法を提案する。 - 特許庁

The method for recovering high-concentration hydrogen gas from coke oven gas generated in the process of producing coke by dry distillation of coal blend in a coke oven comprises continuously measuring at least the hydrogen concentration of the coke oven gas and, at a point when the measurement of the hydrogen concentration comes to 60% or higher or 90% or higher, recovering the coke oven gas.例文帳に追加

配合炭をコークス炉で乾留しコークスを製造する過程で発生したコークス炉ガスから高濃度水素ガスを回収する方法において、前記コークスを製造する過程で発生するコークス炉ガス中の少なくとも水素濃度を連続的に測定し、該水素濃度の測定値が60%以上、または90%以上となった時点で、前記コークス炉ガスを回収するコークス炉ガスからの高濃度水素ガスの回収方法。 - 特許庁

The production process is composed of at least processes of fusion and kneading, dry pulverization and wet dispersion in a dispersing medium to give the ink composition at least containing the charged particles containing the coloring material and the covering agent, and fusing and kneading at temperatures satisfying the dynamic modulus of elasticity G' of the covering agent of10^4 to10^2 Pa.例文帳に追加

少なくとも溶融混練する工程、乾式粉砕する工程、および分散媒中で湿式分散する工程を含む製造方法により、少なくとも色材及び被覆剤を含む荷電粒子を含有するインク組成物を製造する方法であって、用いる被覆剤の動的弾性率G’が5×10^4〜1×10^2Paを満足する温度にて溶融混練することを特徴とするインク組成物の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a halftone phase shift mask includes steps of forming the MoSi halftone phase shift film having a film thickness giving the phase difference of135° on the quartz glass substrate by reactive sputtering and etching the quartz glass substrate using a chromium film as a mask by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma with addition of a gas having an effect of protecting a side wall to the process gas.例文帳に追加

また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりMoSi系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が135°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 - 特許庁

In the manufacturing method of the biaxially stretched polyester film for treating a polyester film during a film manufacturing process by a heat treatment apparatus having a dry electric precipitator, the air in the heat treatment apparatus accompanying floating particles is led out to the outside by a duct and, after the floating particles in the air are collected and removed, the air containing no floating particles is preferably returned to the heat treatment apparatus.例文帳に追加

乾式電気集塵機を有する加熱処理装置によって、フィルム製造工程内のフィルムを処理することを特徴とする二軸延伸ポリエステルフィルムの製造方法であり、浮遊する粒子を同伴する加熱処理装置内部の空気を装置外部にダクトで導き出し、当該空気中に浮遊する粒子を集塵除去した後に、加熱処理装置内に還流することが好ましい。 - 特許庁

This method for safety control of drying cycle in the dry cleaning device using hydrocarbon solvent comprises a process for passing drying air to an additional separator and heat exchanger 11 having a large heat capacity prior to the circulation to the drum 2 in the starting period of the drying cycle where the temperature of a heating air-solvent mixture in the discharge port of a purification drum 2 reaches a value higher than a prescribed safe value.例文帳に追加

炭化水素溶媒利用のドライクリーニング装置の乾燥サイクルの安全制御のための方法であって、清浄化ドラム(2)の排出口における加熱空気・溶媒混合物の温度が所定の安全値よりも高い値に達した乾燥サイクル始期に、乾燥用空気をドラム(2)への環流の前に熱容量の大きい追加の分離器・熱交換器(11)を通過させる過程を含むことを特徴とする安全制御方法。 - 特許庁

To provide a magnetoresistance effect element that can prevent a reduction in MR ratio to keep performance as a magnetoresistance effect element high even when an oxide layer is formed as an outermost surface layer of a protection layer in an oxidation step inevitably included in a manufacturing process by laminating a mask material used for microfabrication double without specially altering the manufacturing step of microfabrication of dry etching carried out under a vacuum.例文帳に追加

真空中で行われるドライエッチングの微細加工の製造工程に特別な変更を加えることなく微細加工時に使用されるマスク材を二重に重ねて積層することで、製造工程中必然的に含まれる酸化過程により保護層の最表層に酸化層が形成されたとしても、MR比の低下を防止し、磁気抵抗効果素子としての性能を高く保持することができる磁気抵抗効果素子を提供する。 - 特許庁

例文

Disclosed is the method for producing the cellulose particles, in which a grinding aid selected from a higher alcohol, a higher fatty acid, a higher fatty acid salt, a higher fatty acid ester, and a polyether is added to a low crystallinity cellulose raw material represented by formula described below with the crystallinity of cellulose I type of 33% or less, and the mixture is processed with a grinder in a dry process.例文帳に追加

下記式で示されるセルロースI型結晶化度が33%以下の低結晶性セルロース原料に、高級アルコール、高級脂肪酸、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸エステル及びポリエーテルから選ばれる粉砕助剤を添加し、乾式で粉砕機により処理してセルロース粒子を製造する方法であって、(1)〔セルロース粒子の平均粒子径/低結晶性セルロース原料の平均粒子径〕が0.7以下である、セルロース粒子の製造方法、及び(2)セルロース粒子の平均粒子径が50μm以下である、セルロース粒子の製造方法である。 - 特許庁




  
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