「insulation technology」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a technology capable of accurately measuring and evaluating characteristics of an inter-wire insulation film.例文帳に追加

配線間絶縁膜の特性を正確に測定・評価できる技術を提供することである。 - 特許庁

To provide a new insulation/binding treatment solution and its treatment technology replacing a conductor treatment technology of the electric apparatus components by conventional varnish treatment.例文帳に追加

従来のワニス処理等による電気機器部品の導体処理技術に代わる新しい絶縁・結束処理液及びその処理技術を提案する。 - 特許庁

To provide an insulation technology for reducing the number of parts in a voltage monitoring system for a fuel cell.例文帳に追加

燃料電池の電圧監視システムにおいて、部品点数を低減できる絶縁技術を提供する。 - 特許庁

To provide a heat insulation device and a heat insulation method for an air conditioning duct arranged indoors remarkably improved in the attachment work of a heat insulation material in comparison with a conventional technology.例文帳に追加

屋内に配管される空調ダクトの保温装置及び保温方法であって、保温材の装着作業が従来技術に比べて格段に改善された保温装置及び保温方法を提供する。 - 特許庁

To provide technology for preventing deterioration of insulation resistance due to a cooling liquid when a fuel cell vehicle collides.例文帳に追加

燃料電池車両の衝突時の冷却液による絶縁抵抗低下を防止する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive and a polishing method which enable high speed polishing and a high planarizing in a CMP technology, which planarizes an interlayer insulation film, and a shallow trench isolating an insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、高速研磨と高平坦化を可能にする研磨剤および研磨法を提供する。 - 特許庁

The technology can similarly be applied even to semiconductor lasers each having an insulation film acting like a reflection film to a light stimulation face side, and an insulation film acting like a multilayer reflection film side at a non stimulation face side.例文帳に追加

また、光の発振面側に反射膜となる絶縁膜、非発振面側に多層反射膜となる絶縁膜同士を有する半導体レーザにも、同様に適用可能である。 - 特許庁

To provide a technology capable of reducing an influence of voltage fluctuation of a power source, in an insulation measuring circuit of a flying capacitor system.例文帳に追加

フライングキャパシタ方式の絶縁計測回路にあって、電源の電圧変動の影響を軽減する技術が求められている。 - 特許庁

To provide a technology for ensuring the detection accuracy, and reducing a measurement time in a flying capacitor type insulation measuring apparatus.例文帳に追加

フライングキャパシタ方式の絶縁計測装置にあって、検出精度を確保しつつ計測時間を短縮する技術を提供する。 - 特許庁

To provide technology for holding an insulating member used for insulation between coils stably at an appropriate position with improved assemblability.例文帳に追加

コイル間の絶縁に用いる絶縁部材を安定的に適切な位置に保持させ、かつ組付け性のよい技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of easily fixing an end portion of a stator winding wound in a concentrated system to an end portion insulation member.例文帳に追加

集中方式で巻かれている固定子巻線の端部を端部絶縁部材に容易に固定することができる技術を提供する。 - 特許庁

To deposit an insulation layer having an excellent gap filling property by using a deposit etching technology without clipping in a trench mask and circuit elements.例文帳に追加

堆積エッチング技術を使用し、トレンチマスク及び回路素子をクリツピング無しで優れたギヤツプ充填特性の絶縁層を堆積する。 - 特許庁

To provide technology capable of improving reliability of a semiconductor device including a semiconductor element having an insulation gate transistor.例文帳に追加

絶縁ゲート型トランジスタを有する半導体素子を備えた半導体装置の信頼性を向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁

Thus, the insulation film with good insulation can be formed even on the inner surface of the extremely minute through-hole formed at the silicon semiconductor substrate by using an electrodeposition technology.例文帳に追加

本発明によれば、シリコン半導体基板に設けられた非常に微細な貫通孔の内表面であっても、電着技術を用いることで絶縁性良好な絶縁膜を形成することができる。 - 特許庁

To provide a technology of enhancing at least either seal performance or insulation performance, in a seal member used for a fuel cell stack.例文帳に追加

燃料電池スタックに使用されるシール部材において、封止性能と絶縁性能の少なくとも一方を高める技術を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive and a polishing method, which enable the high speed polishing and a high flatness level in a CMP technology, which can plavarize an interlayer insulation film and a shallow trench isolating insulation film, without producing abrasive flaws.例文帳に追加

層間絶縁膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、研磨傷を発生することなく高速研磨と高平坦化を可能にする研磨剤および研磨法を提供する。 - 特許庁

To enhance reliability of an element, while increasing the manufacturing yield by preventing an interlayer insulation film on a copper film from being stripped when copper interconnections are formed by a damascene interconnection technology.例文帳に追加

ダマシン法による銅配線の形成において、銅膜上の層間絶縁膜の剥離を防止して、歩留まりおよび素子の信頼性を向上させること。 - 特許庁

To provide heat insulation technology capable of using a blanket-shaped heat insulating material composed of inorganic fiber as the heat insulating material of a rotary incinerator (rotary kiln furnace).例文帳に追加

無機繊維からなるブランケット状の断熱材を回転式焼却炉（ロータリーキルン炉）の断熱材として使用できる断熱技術の提供にある。 - 特許庁

To provide a technology with which electrical insulation can be established between electrodes on the front and the rear surfaces of a wafer, without the need for removing mask material, in a method of manufacturing a solar cell.例文帳に追加

太陽電池の製造方法において、マスク材を除去する必要がなく、かつウエハの表面電極と裏面電極間を絶縁できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an insulated wire with higher partial discharge starting voltage as compared with a prior art, while securing adhesion between a conductor and an insulation coating equivalent to a conventional technology.例文帳に追加

導体と絶縁被覆との密着性を従来技術と同等に確保しながら従来よりも高い部分放電開始電圧を有する絶縁電線を提供する。 - 特許庁

To provide a wall using vacuum heat insulation technology introduced between the external and internal walls of a building leading to a reduction in electricity consumption and carbon dioxide in summer, winter or the like.例文帳に追加

夏場や冬場等の電気消費量、二酸化炭素の削減に繋がる様に、建築物の外壁と内壁の間に、真空断熱技術を利用した壁を提供する。 - 特許庁

To propose a improved technology enabling a stable power supply without heightening insulation of an electric catalyst-heating heater for warming up reforming catalyst.例文帳に追加

改質触媒を暖機するための電気触媒加熱ヒータの絶縁性を高めることなく安定した電源供給を行うことのできる改良技術を提案する。 - 特許庁

Thus, cold storage mode to desorb refrigerant adsorbed on an absorptive body 5 is maintained, and the sophisticate insulating technology is not required for insulation of the absorptive body 5 from atmosphere.例文帳に追加

これにより、吸収体５に吸着していた媒体を脱離させる畜冷モードを維持するために、吸収体５を雰囲気から高度に断熱する必要はない。 - 特許庁

To complete planarization of all insulation separation grooves formed on a substrate or steps generated at a wiring pattern formation, in a process for embedding an insulation material into the groove or wiring gap without using a CMP technology.例文帳に追加

基板上に形成された絶縁分離用溝もしくは配線パターン形成により生じた段差を、ＣＭＰ技術を用いることなく、溝もしくは配線間隙への絶縁材料埋め込み工程段階ですべて平坦化を完了させるようにする。 - 特許庁

However, now non fluorocarbon foam has been developed using carbon dioxide gas and water, and this technology is being eagerly promoted. In order to bring non fluorocarbon products into more general use, Japanese Industrial Standards, or JIS, has standardized non fluorocarbon thermal insulation. The government is taking the initiative in this project by requiring non fluorocarbon thermal insulation in standard specifications for public works and by introducing a Law on Promoting Green Purchasing to encourage the use of fluorocarbon free products.例文帳に追加

"ノンフロン品の普及のため、ＪＩＳによるノンフロン断熱材の規格の策定、公共工事の標準仕様書や、政府の率先行動を推進する「グリーン購入法」などでノンフロン断熱材を採用し、普及を進めています。" - 経済産業省

To provide the technology to reduce electrical resistance between a contact plug and an impurity region connected electrically to such a plug while insulation property is maintained between a gate electrode and the contact plug.例文帳に追加

ゲート電極とコンタクトプラグとの間の絶縁性を維持しつつ、コンタクトプラグと、それに電気的に接続される不純物領域との間の電気抵抗を低減する技術を提供する。 - 特許庁

An insulation layer on a Si substrate and an SiGe layer on another Si substrate are bonded, using the semiconductor laminating technology, and the Si substrate at the SiGe layer side is removed by polishing, etc.例文帳に追加

Ｓｉ基板上の絶縁層と、別のＳｉ基板上のＳｉＧｅ層とを、半導体張り合わせ技術を用いて接合し、ＳｉＧｅ層側のＳｉ基板を研磨等により除去する。 - 特許庁

To eliminate the risk of determining poor contact of a probe as good insulation by improving a technology for measuring the electric resistance by touching the probe to the pad (terminal) of a small electronic device.例文帳に追加

小形電子デバイスのパッド（端子）にプローブを接触させて電気抵抗を測定する技術を改良し、プローブの接触不良を絶縁良好と誤判定する虞れを無くする。 - 特許庁

To provide a technology for controlling erosion or thinning occurring in a process for removing an unnecessary tungsten film formed on an interlayer insulation film when a plug or buried wiring is formed by filling a trench formed on the interlayer insulation film with a tungsten film.例文帳に追加

層間絶縁膜に形成された溝にタングステン膜を埋め込むことによりプラグあるいは埋め込み配線を形成する際、層間絶縁膜上に形成された不要なタングステン膜を除去する工程で生ずるエロージョンあるいはシニングを抑制できる技術を提供する。 - 特許庁

To prevent the insulation of an input gate in an internal circuit from being destroyed by a voltage drop of a ground line caused by a surge current in an LSI adopting a ground line separation technology and a plurality of power sources thereto.例文帳に追加

接地線分離技術および複数電源を採用したＬＳＩにおいて、サージ電流による接地線の電圧降下に起因する内部回路の入力ゲートの絶縁破壊を防止する。 - 特許庁

To provide a mounting technology for aiming at downsizing of a mono-tank type X-ray generating device which seals in and mounts a high-voltage generating part and an X-ray tube in a high-voltage tank filled with the same insulation oil.例文帳に追加

高電圧発生部とX線管とを同一の絶縁油で満たされた高電圧タンクに封入実装するモノタンク型のX線発生装置の小型化を図るための実装技術を提供する。 - 特許庁

To provide a forming product which is lightweight, water tight, cold insulative and has heat insulation effect using a plastic foam as a core material, where this invention is that the spray coating technology of polyurethanes proposed so far is applied.例文帳に追加

この発明は、これまでに提案されてきたポリウレタンのスプレー塗装技術を応用するものであって、発泡プラスチックを芯材として、軽量、水密、保冷・保温効果のある成形体を提供する。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor memory device which cancels an insulation fault in the nonvolatile semiconductor memory device which carried out isolation formation with an STI technology, and to provide a method of manufacturing it.例文帳に追加

ＳＴＩ技術によって素子分離形成した不揮発性半導体記憶装置において絶縁不良を解消した不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for reducing size and weight of a fuel cell, as well as improving its insulation property, in a fuel cell equipped with a heating part for improving temperature distribution in the fuel cell under power generation.例文帳に追加

発電中の燃料電池における温度分布を改善するための加熱部を備える燃料電池において、燃料電池を小型化・軽量化するとともに、その絶縁性を向上する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a repair method of electric equipment which can recover and repair the insulation performance of the electric equipment without adding heat to the electric equipment and without the necessity for a technology of special skill.例文帳に追加

電気設備に熱を加えることなく、また特別の熟練技術を必要とすることなく、電気設備の絶縁性能の回復補修を行うことができる電気設備の補修方法を提供することである。 - 特許庁

To disclose a technology for enhancing retaining characteristics in a nano scale charge trap insulator memory and increasing a cell integration capacity by stacking a large number of charge trap insulator cell arrays in the vertical direction using a large number of cell insulation layers.例文帳に追加

ナノスケールチャージトラップインシュレータメモリ装置において維持特性を向上させ、多数のセル絶縁層を用いて多数のチャージトラップインシュレータセルアレイが垂直方向に積層してセル集積容量を高める技術を開示する。 - 特許庁

To provide an abrasive and a method of polishing a substrate, which can efficiently perform removal of an excessively formed film layer and planarization of a silicon oxide film and an embedded film of a metal or the like with high-level quality and with easy process control in a recess CMP technology such as for shallow trench isolation formation and for embedded metal wiring formation and in a planarization CMP technology for an interlayer insulation layer.例文帳に追加

シャロー・トレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のリセスＣＭＰ技術及び層間絶縁膜の平坦化ＣＭＰ技術において、酸化珪素膜、金属等の埋め込み膜の余分な成膜層の除去及び平坦化を効率的、高レベルに、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To establish a technology of easily forming a silicon nitride film from generally available raw material gases which is used as a layer insulation film, has a low dielectric constant, is preferable for combination with copper (Cu) wirings and suited to fine and ultra-high integration devices.例文帳に追加

層間絶縁膜として用いて低誘電率でありまた銅（Ｃｕ）系配線と組合せるに好ましい、微細・超高集積デバイスに好適なシリコン窒化膜を、汎用される原料ガスから容易に成膜できる技術の確立が課題である。 - 特許庁

Since the pad electrode 14 of the defective chip 11 is not electrically connected with the lead-out electrode 13 because of the first insulation layer 15, the burn-in of wafer level can be applied without a step for covering the defective chip in the conventional technology.例文帳に追加

第１絶縁層１５によって不良チップ１１のパッド電極１４と取り出し電極１３とが電気的に接続されないので、従来技術の不良チップ被覆工程を行わずに、ウェハレベルバーンインを実行することが可能となる。 - 特許庁

To provide a polishing agent and a polishing method allowing efficient and uniform polishing at high speed without scratch and also allowing easy process management in the CMP technology of smoothening an interlayer dielectric film, BPSG film, and insulation film for shallow trench isolation.例文帳に追加

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、研磨を研磨傷なく、効率的、高速、均一にかつ研磨プロセス管理も容易に、行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase plate of an electron microscope which minimizes shielding of an electron wave and prevents effect of charge of an insulation film without using an advanced manufacturing technology, and provide a phase difference electron microscope which does not require significant change and addition of an optical element.例文帳に追加

電子波の遮蔽を極小化し、かつ絶縁膜の帯電の影響を回避できる電子顕微鏡の位相板を高度な製造技術を利用せずに提供し、光学要素を大幅に変更・追加必要としない位相差電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a CMP polishing agent capable of efficient and high-speed polishing with reduced influence of pattern density dependency and easy polishing process management without polishing scratches, with respect to CMP technology for smoothening an interlayer dielectric film, a BPSG film, and a shallow-trench-isolation insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、パターン密度依存の影響を少なく、効率的、高速に、研磨傷なく、かつ研磨プロセス管理も容易に、研磨できるＣＭＰ研磨剤を提供する。 - 特許庁

By forming the carbonizing chamber for the dry distillation of the coal with the heat insulation material instead of conventional silica bricks, since the high oven construction technology becomes not required and the outer surface temperature of the carbonizing chamber decreases, economical efficiency, workability or environmental dealing capacity are improved.例文帳に追加

石炭を乾留するための炭化室を従来の珪石煉瓦に替えて断熱材料で形成することにより、高度な築炉技術が不要になりまた炭化室外表面温度が低下するので経済性、作業性あるいは環境対応力が改善する。 - 特許庁

A connection hole 17 and a U-shaped wiring groove 21 which reach the adjacent area are formed on the surface 2S of the lower insulation layer 2 from the exposed surface of the silicon oxide film, by using photolithographic technology, so as to form a porous silica layer 3, an HSQ film 4 and a silicon oxide film 5.例文帳に追加

そして、フォトリソグラフィ技術を用いて、上記シリコン酸化膜の露出している表面から下部絶縁層２の表面２Ｓの内で接続孔１７及びその近傍の領域に至るＵ字型配線溝２１を形成することによって、ポーラスシリカ層３，ＨＳＱ膜４及びシリコン酸化膜５を形成する。 - 特許庁

The apparatus is manufactured using semiconductor micromachining technology and comprises two liquid reservoirs separated by an insulation film having pores, two electrodes disposed in two liquid reservoirs, respectively, and a device for measuring a metal ion current passing through the pores when a voltage is applied between the two electrodes.例文帳に追加

半導体微細加工技術を用いて装置を作製し、小孔を持つ絶縁膜に分離された二つの液溜めと、二つの液溜めのそれぞれに設置された二つの電極と、二つの液溜めに金属イオンを含む溶液が満たされ、前記二つの電極間に電圧を加えて小孔を通過する金属イオンによる電流を計測できる装置を備える。 - 特許庁