「laser evaporation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming device which irradiates a flying droplet with a laser beam to dry it and suppresses the positional deviation of impact position without reducing the evaporation amount of evaporation components.例文帳に追加

飛行中の液滴にレーザ光を照射して該液滴を乾燥させるパターン形成装置において、蒸発成分の蒸発量を損なうことなく着弾位置の位置ずれを抑制するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

Also, the method for producing the photocatalytic titanium dioxide may comprise forming TiO_2 by laser evaporation at a substrate temperature of 400-600°C in oxygen-containing atmosphere and then depositing Ti_2O_3 by vacuum evaporation.例文帳に追加

また、本発明は、基板温度４００〜６００℃において、レーザ蒸着法により酸素を含む雰囲気下でＴｉＯ_２を成膜し真空下でＴｉ_２Ｏ_３を蒸着する、上記方法を課題解決手段とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing an evaporation donor substrate, a first substrate which is an evaporation donor substrate is irradiated with first light (laser light) through a second substrate which is a mask substrate, whereby a material layer over the first substrate is patterned.例文帳に追加

蒸着用基板である第１の基板に、マスク基板である第２の基板を介して第１の光（レーザ光）を照射することにより、第１の基板上の材料層をパターン形成する蒸着用基板の作製方法である。 - 特許庁

Because steam 7, resulting from the evaporation, flies to the side of the laser beam 5, the turbine vanes 1 are moved more rapidly in the direction to light incidence as a reactionary movement.例文帳に追加

その蒸発による蒸気７はレーザー光５側に飛んで行くので、この反作用としてタービン羽根１は光の入射方向に加速される。 - 特許庁

To provide a solder resist pattern formation method wherein the conventional solder resist printing process is replaced by a laser evaporation process.例文帳に追加

従来のソルダーレジスト印刷工程に取って代わるレーザ蒸着加工によるソルダーレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To operate a laser while avoiding the damaging of a coated cavity optical system related to the sudden evaporation of vapor or moisture.例文帳に追加

急激な、蒸気または水分の蒸発に関連するコーティングされたキャビティ光学系の損傷を避けて、レーザを操作する。 - 特許庁

The vapor, which is produced when the evaporation chamber 18 is internally heated by the heater 17, is irradiated with the laser beam 5.例文帳に追加

ヒータ１７によって蒸発室１８内を加温したときに発生する蒸気にレーザ光５が照射される。 - 特許庁

In the laser beam machining method, heating, melting, and evaporation of a material are possible, with little heat transfer into the material, and with less likelihood of thermal deformation.例文帳に追加

材料の加熱・溶融・蒸発が可能かつ、材料内部への熱伝達はほとんどなく、熱歪みも生じにくい。 - 特許庁

To provide a laser welding method which is free from problem such as explosion due to the evaporation of a coating material and burn-through.例文帳に追加

被覆材の蒸発に起因する爆飛などの問題や溶け落ちなどの問題を生じさせないレーザ溶接方法を提供する。 - 特許庁

For the thin film formation method, a sputtering method, a vacuum evaporation method, a CVD method, a laser ablation method, or the like may be used.例文帳に追加

薄膜形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、レーザアブレーション法などの方法を用いることができる。 - 特許庁

In laser beam cutting of a steel material using an assist gas, by synthesizing a pulse of a pulse oscillated laser beam to a laser beam of a continuous oscillated laser beam and by irradiating/cutting a material to be cut with the synthesized laser beam, the dross left adhered on a rear face is forcedly removed by evaporation reaction force.例文帳に追加

アシストガスを用いた鋼材のレーザ切断において、連続発振レーザのレーザビームにパルス発振レーザのパルスビームを合成して被切断材料に照射して切断し、蒸発反力によって裏面に残留し、付着するドロスを強制的に排除する。 - 特許庁

To suppress evaporation of a target material for generation of a laser plasma X-ray, maintain a diameter of the target material needed up to a sufficiently separate laser condensing point, and enable continuous supply of the material at a high speed and with stability.例文帳に追加

レーザプラズマＸ線発生用ターゲット物質の蒸発を抑制し、且つターゲット物質を十分に離れたレーザ集光点まで必要とされる直径を維持し、高速で、安定した連続供給を可能とする。 - 特許庁

Subsequently, the surface of the core, i.e., the metal film, is irradiated with laser light of a specified output and the part of the metal film irradiated with laser light is fused and removed by evaporation.例文帳に追加

このコアの表面、即ち、金属膜に所定の出力のレーザ光を照射し、レーザ光の照射した部分の金属膜を溶融および蒸発により除去する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the photoelectric conversion element which carries out photoelectric conversion, the photoelectric conversion element contains at least one transparent electrode film fabricated by a plasma-free EB evaporation or pulse laser evaporation apparatus.例文帳に追加

光電変換を行う光電変換素子の製造方法であって、前記光電変換素子が少なくとも１つの透明電極膜を有しており、前記透明電極膜をＥＢ蒸着装置またはパルスレーザー蒸着装置によってプラズマフリーで作製する。 - 特許庁

The trench 32 is formed by laser beam irradiation through ablation processing for cutting a molecular bond at some portion in the substrate, and performing photolysis and evaporation.例文帳に追加

ここでレーザビーム照射による溝３２は、基板中のある部分の分子結合を切断し、光分解し、気化して蒸発させるアブレーション加工で形成する。 - 特許庁

The laser beam is focused on the precursor target, which affords for the evaporation of the precursor material and subsequent formation and growth of the nanowires on the collection substrate.例文帳に追加

レーザービームは前駆体標的に焦点を合わされ、これにより、前駆体材料の蒸発、続いての収集基材上のナノワイヤーの形成および成長を可能とする。 - 特許庁

The entire range finally surrounded by a weld bead 22 is scanned by the laser beam L1 so as to be heated above the evaporation temperature of the plating before completing the annular welding.例文帳に追加

溶融ビード２２で最終的に囲まれる範囲全域が、環状の溶接が終了する前にメッキの蒸発温度以上に加熱されるように、レーザＬ１を走査する。 - 特許庁

The slide mechanism 15a moves the analyzing cell 2 and the calibrating reference substance cell 16, and selectively makes one of the gaseous medium flow channel 2a and the evaporation chamber 18 cross the laser beam 5.例文帳に追加

スライド機構１５ａは、分析セル２および較正用標準物質セル１６を移動可能で、気体媒体流路２ａおよび蒸発室１８のうち一方を選択的にレーザ光５と交差させる。 - 特許庁

The convergence laser beam 24 is charged into diamond 15 and absorbed by solid solution nitrogen contained in diamond 15; and thermal energy processing of the diamond 15 is carried out by ablation and evaporation.例文帳に追加

収束レーザ光２４はダイヤモンド１５に入射され、ダイヤモンド１５に含有されている固溶窒素に吸収されて、ダイヤモンド１５はアブレーションや蒸発によって熱エネルギー加工される。 - 特許庁

The light absorbing layer 103 absorbs the energy of the laser beam 105, and thus, one part thereof is physically dissociated based on emission of a gas in the light absorbing layer 103 and sublimation or evaporation of the light absorbing layer 103.例文帳に追加

光吸収層１０３がレーザビーム１０５のエネルギーを吸収することで、光吸収層１０３内における気体の放出、光吸収層１０３の昇華または蒸発等により、一部が物理的に解離する。 - 特許庁

The laser beam L is irradiated at an incident angle θ_B at which a reflection factor on a surface of the evaporation material stuck to the shadow mask 10 becomes minimum.例文帳に追加

この場合、レーザ光Ｌはシャドーマスク１０に付着した蒸着物質表面での反射率が最小となる入射角θ_Ｂで照射される。 - 特許庁

A light source 106 irradiating the shadow mask 10 with a laser beam and removing an evaporation material, a condenser lens 107, and a galvanometer mirror 108 are arranged below the mask holding tool 102.例文帳に追加

マスク保持具１０２の下方には、シャドーマスク１０にレーザ光を照射して蒸着物質を除去するための光源１０６，集光レンズ１０７およびガルバノミラー１０８が設けられている。 - 特許庁

The welding of 2≥ steel sheets (1 and 2) having the protective layers at least one of which consists of material of a low evaporation temperature is carried out by directing a laser beam (L) toward the two overlapped flanges (1a and 2a) of the sheets (1 and 2).例文帳に追加

少なくとも１つが低蒸発温度の材料からなる保護層を有する２つ以上の鋼シート（１，２）の溶接は、前記シート（１，２）の２つの重ねられたフランジ（１ａ，２ａ）にレーザビーム（Ｌ）を向けることによって行われる。 - 特許庁

Namely, liquid 4 is supplied to the surface of the turbine vanes 1, composed of metal pieces, based on a centrifugal force produced by the revolution of the turbine vanes 1, so when laser beam 5 is directly radiated onto the turbine vanes 1, which retain the liquid 4, from the laser beam radiation device 6, evaporation occurs as a result.例文帳に追加

すなわち、レーザー光を金属片からなるタービン羽根１の表面にタービン羽根１の回転による遠心力により液体４を供給しておき、レーザー光照射装置６から液体４を有するタービン羽根１に直接レーザー光５を照射すると蒸発が起こる。 - 特許庁

An inlet of an evaporation pipe 52 is provided behind an ion transport pipe 17 which attracts ions from an atomizing chamber 13 and feeds them to a mass spectrometer 40, and a laser beam source part 50 and a light scattering detection unit 56 of an ELSD 4 are disposed outside a light incoming window 53 and a light outgoing window 54 formed in the evaporation pipe 52.例文帳に追加

また、霧化室１３内からイオンを引き込んで質量分析部４０へと送るイオン輸送管１７よりも後方に蒸発管５２の入口開口を設け、蒸発管５２に形成した光入射窓５３と光出射窓５４の外側にＥＬＳＤ４のレーザ光源部５０と光散乱検出部５６とを配置する。 - 特許庁

Subsequently the cholesteric film 13 is patterned by irradiating the cholesteric film 13 with a laser beam 20 with a wavelength outside the selective reflection wavelength band of the cholesteric film 13 and removing a part of the cholesteric film 13 by partial evaporation.例文帳に追加

次に、コレステリック膜１３に対して当該コレステリック膜１３の選択反射波長帯域外の波長を有するレーザ光２０を照射し、当該コレステリック膜１３の一部を部分的に蒸散させて取り除くことにより、コレステリック膜１３のパターニングを行う。 - 特許庁

The method for arranging the titanium dioxide particles periodically on sapphire comprises forming a titanium dioxide film having the thickness of 20 nm or less, on sapphire by a method for forming a film through laser evaporation, and producing the titanium dioxide having a periodical arrangement through the heat treatment of the film.例文帳に追加

本発明では、レーザー蒸着成膜法により、サファイア上に２０ｎｍ以下の厚さの二酸化チタンを成膜し、この膜を熱処理することによって周期配列をもった二酸化チタンを作製する方法を解決手段とする。 - 特許庁

To provide a laser ablation film deposition apparatus capable of forming a thin film with a good film quality, by suppressing evaporation of a liquefied material when using an arbitrary solid material and suppressing production of particulates in solid target ablation.例文帳に追加

任意の固体材料に関して、液体化した材料の蒸発による成分および固体ターゲットアブレーションにおける微粒子の発生を抑えることにより、良好な膜質の薄膜を形成することができるレーザアブレーション成膜装置の提供。 - 特許庁

Under an ultra-high vacuum, a high electric field is formed at a to-be-worked part of the sample having a sample multi-layer film structure, and the to-be-worked part is irradiated with a laser beam 13 to perform photoexcitation field evaporation, thereby performing microprocessing without damaging an atomic structure of the sample.例文帳に追加

超高真空下において、試料多層膜構造を有する試料の被加工部に、高電界を形成すると共に、レーザー光１３を照射して、光励起電界蒸発を行わせることによりその原子構造に損傷を与えることなく微細加工する。 - 特許庁

A head unit 30 mounted with a liquid droplet ejection head 32 is provided with a suction port 33 for sucking the "evaporation component Ev" from the liquid droplets Fb and a photosensor 35 for detecting the optical characteristics (light quantity) of the laser beam B (reflected diffuse light Br) from the landed liquid droplets Fb.例文帳に追加

液滴吐出ヘッド３２を搭載したヘッドユニット３０に、液滴Ｆｂからの「蒸発成分Ｅｖ」を吸引する吸引ポート３３と、着弾した液滴Ｆｂからのレーザ光Ｂ（反射散乱光Ｂｒ）の光学特性（光量）を検出するフォトセンサ３５と、を設けた。 - 特許庁

When forming a superconducting oxide layer on a metal tape by using a vapor deposition method like a laser evaporation method (PLD method), if the tape is conveyed with a speed of not less than 5m/h, and a distance between the tape and a target on which the oxide is to be formed is 100 mm or less, a large critical current density can be obtained.例文帳に追加

レーザー蒸着法（ＰＬＤ法）等の気相法を用いて、金属テープに酸化物超電導層を製造する時に、前記テープの搬送速度が、５ｍ／ｈ以上であり、該テープと酸化物作成用ターゲットとの距離が、１００ｍｍ以下であると、大きい臨界電流密度を得られる。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the monolayer carbon nanotube by laser evaporation is characteristically provided with at least a reaction vessel, a carbon target substance installed in the reaction vessel, a gas introduction means for introducing an inert gas into the reaction vessel, and a laser oscillation means for continuously oscillating lasers with which the carbon target substance is irradiated.例文帳に追加

レーザー蒸発による単層カーボンナノチューブの製造装置であって、少なくとも、反応容器と、反応容器内に設置される炭素ターゲット物質と、反応容器内に不活性ガスを導入するためのガス導入手段と、炭素ターゲット物質に照射するレーザを連続発振させるレーザ発振手段とを備えることを特徴とする単層カーボンナノチューブの製造装置とする。 - 特許庁

When a target material is instantaneously evaporated by irradiating a target 2 in a chamber 1 with pulse laser beams 4, and a thin film of an evaporation material is deposited on a substrate 3 facing the target, the size and the shape of the plume 5 generated when irradiating the target 2 with the laser beams 4 are acquired in a matrix form as digital information of the light intensity.例文帳に追加

チャンバー１内のターゲット２にパルスレーザ光４を照射することでターゲット材料を瞬間的に蒸発させ、相対する基板３上に蒸発材料の薄膜を成長させる際に、ターゲット２にレーザ光４を照射した時に発生するプルーム５の大きさおよび形状を、光強度のデジタル情報としてマトリックス状に取得する。 - 特許庁

The cluster deposition apparatus includes: a laser device for radiating a laser beam on an evaporation surface of a target so as to generate the cluster by evaporating the target T; a cluster generation body 12 having a cluster generation chamber 31 for trapping the generated cluster; and a holder 13 for holding the substrate S so that a deposition surface of the substrate faces the inside of the cluster generation chamber.例文帳に追加

クラスター成膜装置は、ターゲットＴを蒸発させてクラスターを生成するようにターゲットの蒸発面にレーザを照射するレーザ手段と、生成したクラスターを閉込めるクラスター生成室３１を有するクラスター生成本体１２と、基板Ｓをその成膜面がクラスター生成室内に臨ませられるように保持するホルダ１３とよりなる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the radiation image conversion panel including a stimulable phosphor layer containing stimulable phosphors on a support, the method is characterized in that a protective layer containing coloring matter and polyurea absorbing excitation laser beam is formed through evaporation on the stimulable phosphor layer after forming it by a gas phase method (or a vapor phase deposition).例文帳に追加

支持体上に、輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルの製造方法において、該輝尽性蛍光体層を気相法（気相堆積法ともいう）により形成した後、輝尽性蛍光体層上に、励起レーザー光を吸収する色素とポリ尿素を含有する保護層を蒸着により形成することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

Subsequently the cholesteric film 13 is patterned by irradiating the cholesteric film 13 with a laser beam 20 consisting essentially of a circularly polarized light component in an optical rotatory direction reverse to that of light selectively reflected by the cholesteric film 13 and removing a part of the cholesteric film 13 by partial evaporation.例文帳に追加

次に、コレステリック膜１３に対して当該コレステリック膜１３が選択的に反射する旋光方向とは逆方向の円偏光成分を主成分として含むレーザ光２０を照射し、当該コレステリック膜１３の一部を部分的に蒸散させて取り除くことにより、コレステリック膜１３のパターニングを行う。 - 特許庁

Because the irradiation of a laser beam onto the upper edges and side surfaces of the semiconductor chips 25-1, 25-2, 25-3, etc.after the dicing process for dividing the semiconductor wafer causes fusion or evaporation of the cut sections entailing elimination of the strain and chipping originated from the cut streaks, it is enabled to enhance the deflecting strength of a semiconductor chip.例文帳に追加

半導体ウェーハを分割するためのダイシング工程の後に、半導体チップ２５−１，２５−２，２５−３，…の上辺及び側面に対してレーザー光線を照射することによって、切断面を溶融または気化して切削条痕による歪みやチッピングを除去するので、半導体チップの抗折強度を強くできる。 - 特許庁

A conductive paste 26 kneaded with carbon nanotubes generated by using catalytic reduction of carbon dioxide, arc discharge method, laser evaporation method, CVD method, or pyrolysis with a binder-use polymer made of thermoplastic resin as a conductive filler under certain physical conditions, is printed on a base film 1 of polyimide, polyester or the like with a screen printer to form conductive ways (2a to 2d).例文帳に追加

二酸化炭素の接触還元、アーク放電法、レーザー蒸発法、ＣＶＤ法、あるいは熱分解法を用いて生成されたカーボンナノチューブを導電性フィラとして熱可塑性樹脂なるバインダー用ポリマーと一定の物理的条件で混練した導電ペースト２６を、スクリーン印刷機を用いてポリイミドやポリエステル等のベースフィルム１に印刷して導電路（２ａ〜２ｄ）を形成する。 - 特許庁

By forming a cavity part CA which has a stripping suppressing layer CE between an anode AD and an organic light emitting layer OLE formed on the main substrate SUB1, and which is made by evaporation by absorption of a laser beam LE, a defective part is separated electrically, and a dark-point defective pixel is restored into a light emitting pixel.例文帳に追加

メイン基板ＳＵＢ１上に形成された陽極ＡＤと有機発光層ＯＬＥとの間に剥離抑制層ＥＣを有し、メイン基板ＳＵＢ１と剥離抑制層ＥＣとの間にレーザ光ＬＥの吸収によって蒸発させた空洞部ＣＡを形成することにより、欠陥個所を電気的に切り離し、黒点欠陥画素を発光画素に修復する。 - 特許庁

Owing to this, unnecessary evaporation of the target material is suppressed to a small amount, and without being influenced by fluid instability, the target material can be supplied continuously with stability to the laser condensing point 18 in an X-ray generating vacuum chamber 14 as a filamentous solid target current 12 having a necessary diameter.例文帳に追加

このため、不要なターゲット物質の蒸発量を少なく抑え、流体不安定性に影響されることなく、ターゲット物質を必要な直径をもつフィラメント状の固体ターゲット流１２として、Ｘ線発生真空チャンバー１４内のレーザ集光点１８へ安定して連続供給することができる。 - 特許庁