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layer substrateの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 39496件
To provide a photothermal conversion sheet by which an organic electroluminescent material layer can follow a level difference even if a substrate of an organic electroluminescent device has a level-different structure, an organic electroluminescent material sheet using the above, and a method of manufacturing an organic electroluminescent device using the organic electroluminescent material sheet.例文帳に追加
有機電界発光装置の基板が段差構造であっても有機電界発光素材層が段差に追従できる光熱変換シート、並びに、それを用いた有機電界発光素材シート、及び該有機電界発光素材シートを用いた有機電界発光装置の製造方法の提供。 - 特許庁
This method for producing the non-planar microelectronic component involves the stages of superposing a layer that contains an active flexible circuit above a cavity 36 shaped according to the desired profile of the component, the cavity being formed in a substrate; and causing slumping of the flexible circuit into the cavity 36 therefore causing the circuit to assume the shape of the cavity 36.例文帳に追加
コンポーネントの所望の輪郭に従って整形されたキャビティ36の上に能動フレキシブル回路を含む層を重ね合わせ、前記キャビティ36が基板内に形成される段階と、フレキシブル回路をキャビティ36内に落とし込み、回路にキャビティ36の形状をとらせる段階とを含む。 - 特許庁
The method includes steps of: forming an aluminum film on a nonmagnetic substrate; executing an anodizing process on the aluminum film to form an alumina layer including nano-holes in a self-organizing manner; forming a resist pattern exposing recording track regions; and depositing a magnetic material in the nano-holes in the recording track regions.例文帳に追加
非磁性基板上にアルミニウム膜を形成し、陽極酸化により自己組織的にナノホールを有するアルミナ層を形成し、記録トラック領域が露出したレジストパターンを形成し、記録トラック領域のナノホールに磁性材料を成膜する工程を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a display device, the method having a bonding process by which even in a case of manufacturing a large display device, a translucent substrate 2 can be bonded to a display surface of a display body 1 using simple equipment while the thickness of an adhesive layer is maintained precisely.例文帳に追加
大型のディスプレイの製造に際しても、ディスプレイ本体1の表示面への透光性基板2の接着を、接着剤層厚の精度を維持しつつ、簡易な設備により行うことができる貼り合わせ工程を備えたディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁
An adhesive 150 is applied on the inside of a groove portion 146 of the lower surface portion 135B of the module cover 35, and when joined with the joint surface 134A of the module substrate 34, the adhesive 150 gets into the groove portion 146, and a thick adhesive layer by the adhesive 150 at the groove portion 146.例文帳に追加
モジュールカバー35の下面部135Bの溝部146の内側に接着剤150が塗布され、モジュール基板34の接合面134Aに接合されたときに、接着剤150が溝部146に入り込み、溝部146で接着剤150による厚い接着層が形成される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a wiring board that is superior in suppression of warpage of a substrate, performs processing while maintaining back-to-back manufacture of superior size stability and mass-productivity up to an outermost layer (a laminate surface by the back-to-back manufacture), and can secure higher size stability and operation efficiency.例文帳に追加
基板のそりの抑制に優れ、寸法安定性や量産性の優れた背合わせによる製造を最外層(背合わせによる積層面)まで維持しながら加工することができ、更なる寸法安定性及び高い作業効率を確保することのできる配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a self-adhesive excellent in handleability (tack) and optical properties (haze) of a self-adhesive layer and also excellent in durability and optical properties (resistance to light leakage) even when adhering an optical member, such as a polarizing plate, to a glass substrate etc., especially a self-adhesive for optical members.例文帳に追加
粘着剤層の取り扱い性(タック)や光学特性(ヘイズ)に優れる粘着剤であり、かつ、偏光板等の光学部材とガラス基板等を貼り合わせる際においても耐久性能と光学特性(耐光漏れ性能)に優れる粘着剤、とりわけ光学部材用粘着剤の提供する。 - 特許庁
The thin film transistor (30) has on a substrate (10) a semiconductor layer (1a) having a source region (1s), a channel region (1c), a drain region (1d), a first LDD region (1sc), and a second LDD region (1cd), and a gate electrode (2a) arranged so as to face the channel region.例文帳に追加
薄膜トランジスタ(30)は、基板(10)上に、ソース領域(1s)、チャネル領域(1c)、ドレイン領域(1d)、第1LDD領域(1sc)及び第2LDD領域(1cd)を有する半導体層(1a)と、チャネル領域に対向配置されたゲート電極(2a)とを備える。 - 特許庁
A grooved thickness-reduced recess 3 is formed on a back side of a cavity base 1, a plating layer 5C for a heat sink is exposed in the thickness-reduced recess 3, and a member such as a package substrate as a conventional example is not joined to the back side of the cavity base 1, so that the weight is greatly reduced.例文帳に追加
キャビティ基体1の後面側に溝状の肉抜き凹部3が形成され、この肉抜き凹部3内にヒートシンク用メッキ層5Cが露出しており、キャビティ基体1の後面側には従来例のようなパッケージ基板などの部材が接合されていないため、重量が大幅に軽減する。 - 特許庁
The gas diffusion layer is formed by filling a conductive agent in a water-repellent fiber porous substrate and has just one peak in a log differential pore volume distribution graph measured by a method of mercury penetration, and the peak exists within a range of a pore diameter of 0.01-1 μm.例文帳に追加
本発明のガス拡散層は、撥水性の繊維多孔質基材に導電剤が充填されたガス拡散層であり、水銀圧入法により測定したLog微分細孔容積分布グラフにおいて、ピークを1つだけ有し、そのピークが細孔直径0.01〜1μmの範囲に存在する。 - 特許庁
The front plate for display includes a glass substrate having a first surface and a second surface and a ceramic layer formed on at least a part of a marginal area of the second surface, wherein stress strain unevenness within the surface is significantly suppressed.例文帳に追加
第1の表面および第2の表面を有するガラス基板と、前記第2の表面の周縁部の少なくとも一部に設置されたセラミック層とを有するディスプレイ用の前面板であって、面内の応力ひずみムラが有意に抑制されていることを特徴とするディスプレイ用の前面板。 - 特許庁
After forming a film including an Mo nitride on the glass substrate 1 as a relaxed layer 2 by a PVD method under an atmosphere that contains nitrogen gas, an Mo film is formed as the Mo electrode film 3 by the PVD method under an Ar gas atmosphere, thus reducing internal stresses of a film and preventing ready peeling.例文帳に追加
ガラス基板1上に、窒素ガスを含む雰囲気でPVD法によりMo窒化物を含む膜を緩衝層2として形成した後、Arガス雰囲気でPVD法によりMo膜をMo電極膜3として形成することで、被膜の内部応力を低減することができ、剥がれ難くできる。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition having short curing time compared with a thermosetting resist composition containing a thermosetting resin, exhibiting sufficient durability to a chemical liquid used in a desmearing treatment, and having excellent adhesiveness to a substrate circuit layer, and a method for producing a printed circuit board.例文帳に追加
熱硬化性樹脂を含む熱硬化型レジスト組成物よりも硬化時間が短く、デスミア処理に使用される薬液に対し十分な耐性を示し、しかも下地配線層との密着性に優れた感光性樹脂組成物およびプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
Since the low-temperature co-fired ceramic substrate contains a diopside-based crystallized glass, the dielectric loss in the high-frequency band is small, and the second dielectric layer makes up for the fluidity of a first glass powder forming diopside-based crystals due to rapid crystallization of the first glass powder.例文帳に追加
本発明による低温同時焼成セラミック基板は、ディオプサイド系結晶化ガラスを含むため、高周波帯域において誘電損失が小さく、第2誘電体層がディオプサイド系結晶を形成する第1ガラス粉末の急激な結晶化による流動性を補充する。 - 特許庁
An element mounting substrate 110 is equipped with: a base material 10; an insulating layer 30 formed on one main surface of the base material 10 and having an opening 32 formed so as to expose an electrode forming region on the base material 10, and an electrode pad 22 formed in the opening 32.例文帳に追加
素子搭載用基板110は、基材10と、基材10の一方の主表面上に設けられ、基材10上の電極形成領域が露出するような開口部32を有する絶縁層30と、開口部32内に設けられた電極パッド22と、を備える。 - 特許庁
To provide a thin-film transistor substrate, capable of preventing a dry etching rate of a source electrode and a drain electrode from deteriorating, preventing etching residues from occurring, and eliminating a barrier metal between a semiconductor layer and wiring metal, such as the source electrode or the drain electrode, and to provide a display device.例文帳に追加
ソース電極とドレイン電極のドライエッチングレートの低下や、エッチング残さを引き起こすことがなく、半導体層と、ソース電極やドレイン電極といった配線金属の間からバリアメタルを省略することができる薄膜トランジスタ基板および表示デバイスを提供する課題とする。 - 特許庁
In the method of manufacturing the semiconductor substrate 41, a first supporter hole 21 and a second supporter hole 22 are first formed on an SOI element forming region 13, and a boundary groove 14 is formed on the entire periphery along the boundary between the SOI element forming region 13 and an element isolation layer 12.例文帳に追加
半導体基板41の製造方法は、まず、SOI素子形成領域13に第1支持体穴21及び第2支持体穴22を形成するとともに、SOI素子形成領域13と素子分離層12との境界に沿った全周に境界溝14を形成する。 - 特許庁
To obtain a base sheet for lithography disposed between a substrate and a resist layer so as to give a resist pattern having a rectangular cross-sectional shape without causing phenomena such as trailing and constriction in the lower part of the pattern even if short-wavelength light such as excimer laser light is used as a light source.例文帳に追加
エキシマレーザー光などの短波長光を光源としても、パターン下部に発生する裾引きやくびれなどの現象を起こすことなく、断面形状が矩形のレジストパターンを与えるために、基板とレジスト層との間に施こすリソグラフィー用下地材を提供する。 - 特許庁
As a result, accumulation of the ammonia (NH_3) in the ultrahigh vacuum container is alleviated, so that the concentration of nitrogen (N) in a crystal growth layer on the ZnO substrate can be set to a desired concentration, and in addition the concentration of nitrogen (N) can be formed uniformly from the surface along the depth direction.例文帳に追加
その結果、超高真空容器内におけるアンモニア(NH_3)の蓄積が緩和されて、ZnO基板上の結晶成長層内の窒素(N)の濃度を所望する濃度に設定し、且つ表面から深さ方向に対して窒素(N)の濃度を均一に形成することが可能となった。 - 特許庁
For a transfer material used for an electrophotographic apparatus, using a fixing device which does not use a release agent, the image retransfer sheet having a cover layer, containing a thermoplastic resin on a substrate having a high release property, has 10 to 20 μm for surface roughness Rz.例文帳に追加
離型剤を用いない定着装置を使用した電子写真装置に使用する転写材において、高離型性の表面を有する基体上に、熱可塑性樹脂を含有するカバー層を有する画像再転写シートにおいて、表面粗さRzが10〜20μmである画像再転写シート。 - 特許庁
The hydrogen concentration of the surface atomic layer of a sample (a substrate 20) is measured in the surface treatment apparatus without extracting the sample in atmospheric air, by conducting in the vacuum chamber 2 of the surface treatment apparatus by using the elastic recoil-particle detecting method by the low-energy ion scattering spectral method.例文帳に追加
低エネルギーイオン散乱分光法による弾性反跳粒子検出法を用い、表面処理装置の真空室2内で行うことによって、試料(基板20)を大気中に取り出すことなく表面処理装置内において、試料の表面原子層の水素濃度の測定を行う。 - 特許庁
To stably form a high quality thick magnetic garnet single crystal film free from the generation of a crystal defect or warp, a crack, peeling, or the like, in a high yield by liquid phase epitaxial growth by forming a buffer layer of this invention on a commercially available substrate for forming the magnetic garnet single crystal film.例文帳に追加
市販の磁性ガーネット単結晶膜形成用基板に本発明のバッファ層を形成することで、結晶欠陥や反り、割れ、剥離などが発生しない厚膜状の磁性ガーネット単結晶膜を、高品質で歩留まり良く、液相エピタキシャル成長により安定して、低コストで形成すること。 - 特許庁
To obtain an adhesive film capable of preventing peeling of a cover film from an adhesive layer during blanking and bringing the cover film to be easily removed after adhesion and provide a substrate for mounting semiconductor chips to which the film is adhered and a semiconductor device produced by using the film.例文帳に追加
打ち抜き時のカバーフィルムと接着剤層との剥離を防止し、かつ本圧着後のカバーフィルム除去を容易にした接着フィルムを提供するとともに、このフィルムを接着した半導体チップ搭載用基板及びこのフィルムを用いて製造される半導体装置を提供する。 - 特許庁
With a second oxide film 3 coated with a second photoresist layer 31, a first oxide film 2 is etched with a first gate electrode 7 along with an oxide film mask 30A as a mask, so that the thin second oxide film 3 is over-etched to prevent a semiconductor substrate 1 from being exposed.例文帳に追加
第2の酸化膜3を第2のフォトレジスト層31で被覆した状態で第1のゲート電極7とその上の酸化膜マスク30Aをマスクにして第1の酸化膜2をエッチングしているので、薄い第2の酸化膜3がオーバー・エッチングされて半導体基板1が露出することが防止される。 - 特許庁
A p^+ region 89 is formed within a source neighborhood p-type region 83 in an n-well 33 and then arsenic is injected into a shallow substrate surface in the p^+ region 89 by applying an ion implantation method using a ring-shaped gate electrode 35 as a mask to form a surface n^+ layer 90.例文帳に追加
nウェル33中のソース近傍p型領域83内にp^+領域89を形成した後、リング状ゲート電極35をマスクとしたイオン注入法を適用して、p^+領域89中の浅い基板表面にひ素を注入して、表面n^+層90を形成する。 - 特許庁
On a third region R3 of the surface 301S1, a schottky gate electrode 304 having schottky contact with the third region R3 and having a thickness ≥5 μm is formed, and on the back face of the semi-insulating substrate 305, a metal layer 306 formed by a vapor deposition method or the like is arranged.例文帳に追加
表面301S1の第3領域R3上には、第3領域R3とのショットキー接触を有する厚み5μ以上のショットキーゲート電極304が形成され、半絶縁性基板305の裏面上には、蒸着法等によって形成された金属層306が配設される。 - 特許庁
A plurality of holograms are recorded on a hologram recording layer formed on the substrate on which the plurality of light emitting elements are arranged one-dimensionally or two-dimensionally by making a first lightwave and a second lightwave interfere with each other so that the condensing points are arranged in a predetermined arrangement direction at a fixed interval.例文帳に追加
複数の発光素子が一次元状又は二次元状に配列された基板上に形成されたホログラム記録層に、集光点が予め定めた配列方向に一定間隔で並ぶように第1の光波と第2の光波を干渉させて複数のホログラムを記録する。 - 特許庁
The touch panel X includes: a transparent conductive film 10 disposed on a surface of a transparent substrate 30 and formed of a conductive material; and a liquid filling layer 20 formed between two transparent conductive films 10a, 10b disposed oppositely to each other and containing a naphthalene derivative.例文帳に追加
透明基板30の表面に配設されて導電性材料によって形成された透明導電性膜10と、対向して設置される二つの透明導電性膜10a,10bの間に形成され、ナフタレン誘導体を含んだ液体充填層20と、を有するタッチパネルX。 - 特許庁
The adhesive agent 14 is applied to the translucent substrate 15; the applied face is directed to downward and pasted on an upper face of the display panel on which an adhesive layer is formed; the vicinity of the frame opening portion is filled with the adhesive agent without mixing voids; and the adhesive agent is cured.例文帳に追加
そして、透光性基板15に接着剤14を塗布し、その塗布面を下方に向けて接着層が形成された表示パネルの上面に貼り合わせ、枠体開口端部の近傍に空隙を混入することなく接着剤を充填し、接着剤を硬化する。 - 特許庁
The mask blank is obtained by forming, on a substrate 11 made of synthetic quartz, a light-shielding layer 12 comprising TaN (with 84.0 atom% of Ta and 16.0 atom% of N in terms of a film composition ratio) to a film thickness of 43 nm by DC magnetron sputtering in a mixture gas atmosphere of xenon (Xe) and nitrogen (N) using Ta as a sputtering target.例文帳に追加
合成石英からなる基板11上に、スパッタリングターゲットにTaを用い、キセノン(Xe)と窒素(N)の混合ガス雰囲気で、DCマグネトロンスパッタにより、TaN(膜組成比 Ta:84.0原子%,N:16.0原子%)からなる遮光層12を43nmの膜厚で成膜する。 - 特許庁
An optical wave guide structure 1 includes: a substrate 2 having conductor layers 5; an optical wave guide 9 which is configured such that a core layer 93 and cladding layers 91, 92 are laminated; a light-emitting element 3 disposed on one end of the optical wave guide 9; and a light-sensitive element 4 disposed on the other end of the optical wave guide 9.例文帳に追加
光導波路構造体1は、導体層5を備えた基板2と、コア層93とクラッド層91、92とを積層してなる光導波路9と、光導波路9の一方の端部に設けられた発光素子3と、他方の端部に設けられた受光素子4とを有している。 - 特許庁
To provide a moisture-curable polyurethane hot-melt adhesive for wet veneer, exhibiting excellent initial adhesion strength and normal adhesion strength to both of a wet veneer and a substrate and forming an adhesive layer having excellent water resistance.例文帳に追加
本発明が解決しようとする課題は、ウェット単板と基材との両方に対して優れた初期接着強さ及び常態接着強さを発現可能で、かつ耐水性に優れた接着層を形成可能なウェット単板用湿気硬化型ポリウレタンホットメルト接着剤を提供することである。 - 特許庁
In the ceramics circuit board, a metal plate that mainly consists of aluminum is bonded to at least one main surface of a ceramics substrate, and Mg is unevenly distributed at the junction interface between the metal plate and a brazing material layer or near the junction interface.例文帳に追加
セラミックス基板の少なくとも一主面にアルミニウムを主成分とする金属板をろう材層を介して接合してなるセラミックス回路基板であり、前記金属板とろう材層との接合界面或いはその近傍にMgを偏在させてなることを特徴とするセラミックス回路基板である。 - 特許庁
The color filter is obtained by arranging a plurality of color layers having different spectral characteristics adjacent to one another on a substrate, and using a dye having an anthraquinone framework expressed by general formula (I) for at least one color layer of a plurality of color layers.例文帳に追加
本発明は、基板上に異なる分光特性を有する複数の着色層が隣接して配置され、前記複数の着色層のうち少なくとも1つの着色層に、下記一般式(I)で表されるアントラキノン骨格を有する染料を用いてなるカラーフィルターを提供する。 - 特許庁
Switching elements, consisting of thin-film transistors including respectively semiconductor layers 4, are arranged on one substrate of substrates holding a liquid crystal layer there-between, in response to plural pixel electrodes 10 and a video signal is supplied from video signal supplying wirings 5 to the plural pixel electrodes via the switching elements.例文帳に追加
液晶層を挟む一方の基板に、複数の画素電極10に対応して各々半導体層4を含む薄膜トランジスタからなるスイッチング素子が配列され、映像信号供給配線5からスイッチング素子を介して複数の画素電極に映像信号を供給する。 - 特許庁
The lens materials 41, 42, 43 may be filled in the recess 12 of the master of microlens 10, after a transparent intermediate layer is formed by molding the thin film by pressing the master of microlens 10 to the thin film side of the substrate.例文帳に追加
基板30上に中間層材料の薄膜を形成し、該基板の前記薄膜側にマイクロレンズ原版10を押し付けて前記薄膜を成形して透明な中間層を形成してから、マイクロレンズ原版10の凹部12にレンズ材料41、42、43を充填しても良い。 - 特許庁
An organic EL element 10 has a dielectric lamination film 20 formed by alternately laminating each n-pieces of silicon oxide layers functioning as first dielectric 21 and second dielectric 22 between an anode layer and a substrate, and the dielectric lamination film functions as an optical resonator 30.例文帳に追加
有機EL素子10は、陽極層12と基板11との間に、第1の誘電体21としてのシリコン窒化膜と第2の誘電体22としてのシリコン酸化膜がn層ずつ交互に積層された誘電体積層膜20が形成され、誘電体積層膜20が光共振器30として機能する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the gradient membrane by applying a mixture of an organic polymer, a solvent and silica gel on the substrate and then volatilizing the solvent, the method comprises the step of leaving the applied layer of the mixture in saturated vapor of the solvent.例文帳に追加
有機ポリマーと溶媒とシリカゲルとの混合物を基板上に塗布し、その後溶媒を揮発して傾斜膜材料を製造する方法において、前記混合物の塗布層を前記溶媒の飽和蒸気中に放置する工程を設けることを特徴とする傾斜膜材料の製造方法。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a gas discharge display device capable of reducing a material cost and increasing production efficiency by simplifying the step for sticking an electrode sheet or a dielectric sheet when an electrode or a dielectric layer is formed on a substrate having irregularities on the surface.例文帳に追加
表面に凹凸を有する基板上に電極又は誘電体層を形成する際に、電極シート又は誘電体シートを貼着する工程を簡略化し、材料費の削減と生産効率の向上を可能にするガス放電表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
When silicon is used as a material of high refractive index constituting the protrusion 5 and the projected layer 4, and when glass is used as the translucent substrate 2, the reflection-preventive film 6 is constituted optimally by using titanium oxide (TiO2) or lead chloride (PbCl2).例文帳に追加
前記突起5及び突起レイヤー4を構成する高屈折率材料としてシリコンを、透光性基板2としてガラスを用いた場合に反射防止膜6は、酸化チタン(TiO2 )または、塩化鉛(PbCl2 )を用いることによって、より最適な反射防止膜6を構成する。 - 特許庁
The method of manufacturing the electrophotographic photoreceptor, having a process of depositing an optical conductive layer configured of a non-monocrystal material having at least silicon atoms on a conductive substrate as a matrix polishes and processes, after having formed a film containing organic polymers in the uppermost surface.例文帳に追加
導電性基体上に少なくともシリコン原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層を堆積する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、最表面に有機高分子を含む膜を形成した後に研磨加工する製造方法。 - 特許庁
With the suction sheet 13 fitted to the electronic component module 10, the upper surfaces of some relatively high electronic components 12 are embedded in the thermosetting resin layer 14, and a clearance is formed between the suction sheet 13 and the substrate 11.例文帳に追加
電子部品モジュール10に吸着シート13を取り付けた状態では、比較的高さのあるいくつかの電子部品12の上面が熱硬化性樹脂層14中に埋め込まれた状態となっており、吸着シート13と基板11との間には隙間が形成されている。 - 特許庁
A sheet-like substrate and an electron beam curable resin coating layer formed on at least one face thereof are provided and at least one selected from silicone oils, electron beam curable silicone compd., fatty acids and fatty acid derivatives is incorporated in the electron beam-curable resin compsn.例文帳に追加
シート状支持体と、その少なくとも一面上に形成された電子線硬化樹脂被覆層とを有し、電子線硬化性樹脂組成物中に、シリコーンオイル、電子線硬化性シリコーン化合物、脂肪酸、脂肪酸誘導体から選ばれた少なくとも1種を含有する。 - 特許庁
The laminated electrode consists of a metal thin film formed on a substrate with conductivity and corrosion resistance, and a dispersion layer of platinum particles formed by uniformly adhering platinum particles on a metal thin film through control of film-forming time on the metal thin film.例文帳に追加
基板上に形成された導電性でかつ耐食性を有する金属薄膜、および該金属薄膜上で、成膜時間を制御することにより白金粒子を該金属薄膜上に均斉に付着させることにより形成された白金粒子の分散相からなることを特徴としている。 - 特許庁
In the alignment method of a semiconductor device utilizing aluminium interconnect lines 30 on the uppermost layer of a semiconductor substrate 10 as an alignment pattern for trimming, thickness of an antireflection film 30a on the surface of the aluminium interconnect lines 30 is set in the range of 200-400 Å.例文帳に追加
半導体基板10上の最上層のアルミニウム配線30をトリミング用のアライメントパターンとして利用する半導体装置のアライメント方法において、上記アルミニウム配線30の表面の反射防止膜30aの膜厚を200Å〜400Åとする。 - 特許庁
This optical film is formed by directly coating the coating solution containing an organic solvent of at least one ketone or ester on a surface of a cellulose acylate film substrate the content of a surface plasticizer of which is ≥1 mass% and ≤20 mass% based on the cellulose acylate and by drying a coating layer.例文帳に追加
表面可塑剤量がセルロースアシレートフィルムの1質量%以上20質量%以下である支持体の表面上に、少なくとも1種のケトン類またはエステル類の有機溶剤を含む塗布液を直接塗工、乾燥して塗布層を形成し、光学フィルムを形成する。 - 特許庁
At least a part of a region corresponding to a hollow portion G in a conductive pattern layer 17 is displaceable with respect to a substrate surface by means of an electrostatic actuator including a lower electrode 121, an upper electrode 122 and a drive voltage supplier 19.例文帳に追加
導電体パターン層17における中空部Gに対応する領域の少なくとも一部分が、下部電極121、上部電極122および駆動電圧供給部19からなる静電アクチュエータによって、基板面に対して変位可能となっているようにする。 - 特許庁
To provide a method for producing a foamed wallpaper which exhibits good extrusion film-forming property even when forming a non-foamed resin layer A containing titanium oxide by an extrusion film-forming process, and having good dispersibility of titanium oxide even by using a sufficient amount of titanium oxide necessary for masking a substrate.例文帳に追加
酸化チタンを含有する非発泡樹脂層Aを押出し製膜により形成する場合でも、押出し製膜性が良好であり、しかも下地隠蔽に要する十分な量の酸化チタンを含有しても酸化チタンの分散性が良好な発泡壁紙の製造方法を提供する。 - 特許庁
By forming a layer of insulating material made of silicon oxide between interdigital electrode sections 12 and 14 and a piezoelectric substrate 11, electromechanical coupling factor k^2 of the element becomes small, and the antiresonant frequency approaches the resonant frequency.例文帳に追加
弾性表面波素子のくし歯状電極部12、13と圧電性基板11の間に酸化ケイ素からなる絶縁性材料層を形成することにより、弾性表面波素子の電気機械結合係数k^2が小さくなり反共振周波数が共振周波数に近づく。 - 特許庁
A semiconductor laser device 11 comprises: a supporting substrate 17 that is composed of a hexagonal group-III nitride semiconductor and has a semipolar primary surface 17a; and a laser structure 13 that is provided on the semipolar primary surface 17a and includes an active layer 25 composed of a gallium nitride-based semiconductor.例文帳に追加
半導体レーザ素子11は、六方晶系III族窒化物半導体からなり半極性主面17aを有する支持基板17と、半極性主面17a上に設けられた、窒化ガリウム系半導体からなる活性層25を含むレーザ構造体13とを備える。 - 特許庁
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