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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > layer- thicknessの意味・解説 > layer- thicknessに関連した英語例文

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layer- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 13314



例文

A material solution 26 of a hole injection layer, material solutions 27R, 27G and 27B of luminescent layers, a material solution 28 of an electron injection layer and a solvent solution 52 for film thickness adjustment are applied to element formation areas 10 of an organic EL display by superposing them on one another and dried.例文帳に追加

有機ELディスプレイの素子形成領域10に正孔注入層の材料液26と発光層の材料液27R,27G,27Bと電子注入層の材料液28と膜厚調整用溶媒液52を重ねて塗布し乾燥する。 - 特許庁

This pressure-sensitive adhesive sheet for processing semiconductor substrate is equipped with a substrate having transmissivity to a UV-ray and/or a radiation and a pressure-sensitive adhesive layer which reacts to be polymerized and cured with the UV-ray and/or the radiation, where the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 7-15 μm.例文帳に追加

紫外線及び/又は放射線に対し透過性を有する基材と、紫外線及び/又は放射線により重合硬化反応する粘着剤層とを備え、該粘着剤層の厚みが7〜15μmである半導体基板加工用粘着シート。 - 特許庁

The side surface part 12 of the substrate 1 includes a side wall surface 12a and a chamfer surface 12b intervening between the side wall surface 12a and the principal surface 11, and the protective layer on at least the chamfer surface 12b has film thickness thinner than that of the protective layer on the principal surface 11.例文帳に追加

前記基板1の側面部分12は、側壁面12aと、該側壁面12aと主面11との間に介在する面取面12bとを含み、少なくとも面取面12b上の保護層は、主面11上の保護層に比べて薄い膜である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive roller having no peculiar uneven part such as a defection line on its surface layer and also having a surface layer uniform in thickness even in an inter-roller and an intra-roller, and also to provide the conductive roller manufactured by the method.例文帳に追加

表面層に離脱線等の特異な不均一部分がなく、また、ローラ一本内でも、ローラ同士でも、厚さが均一な表面層を形成することのできる、導電性ローラの製造方法およびこの方法によって形成された導電性ローラを提供する。 - 特許庁

例文

To always maintain a positioning jig to be clean, to prevent deposition of contaminant on a light-transmitting layer and to manufacture an optical recording medium having a light-transmitting layer which can respond to the high NA of an objective lens during recording/reproducing and which has small double refraction, good transparency and uniform film thickness.例文帳に追加

位置合わせ治具を常に清浄に保ち、光透過層への汚れの付着を防止し、記録/再生時の対物レンズの高NA化に対応可能で、小複屈折、透明性良好で均一な膜厚の光透過層を有する光学記録媒体を製造する。 - 特許庁


例文

To provide an electro-optical device in which film thickness of a functional layer formed by a liquid phase method can be made uniform, and therefore in which improvement of an optical characteristic is realized in the electro-optical device equipped with a light emitting element having the functional layer formed by the liquid phase method.例文帳に追加

液相法により形成された機能層を有する発光素子を具備した電気光学装置において、該液相法にて形成される機能層の膜厚を均一化することができ、もって光学特性の向上を実現した電気光学装置を提供する。 - 特許庁

The negative electrode 3 is made of a laminated structure film having an ultra-thin-film MgAg layer 31 having a thickness of not more than 10 nm (preferably, not more than 3.0 nm, and more preferably not more than 2.5 nm) arranged at the side of the organic semiconductor laser active layer 2; and a second transparent conductive film 32.例文帳に追加

陰極3は、有機半導体レーザ活性層2側に配置された厚さ10nm未満(好ましくは、3.0nm以下、さらに好ましくは、2.5nm以下)の超薄膜MgAg層31と、第2透明導電膜32とを有する積層構造膜からなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated element in which no climbing growth up to a mask occurs during selective growth even if the film thickness of a layer is increased when different layer structures are butted for joint, especially such a narrow irradiation semiconductor laser element that can operate at a low threshold current.例文帳に追加

異なる層構造をバットジョイント接合するときに、選択成長時にその膜厚を厚くしてもマスクへの這い上がり成長が起こらない半導体集積素子、とりわけ、低しきい値電流で動作する狭出射半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

In the fluorescent lamp type illumination lamp, a cylindrical body 10 is constructed of a cylindrical light guide tube 11 with a thickness of around 3 mm-5 mm or more made of polycarbonate resin with a light reflection layer 12 formed on the inner circumference face and a light diffusion layer 13 formed on the outer circumference face.例文帳に追加

筒状の本体10は、内周面に光反射層12を形成し、外周面に光拡散層13を形成したポリカーボネート樹脂製の肉厚3mm〜5mm前後あるいはそれ以上の円筒形の導光筒11によって構成される。 - 特許庁

例文

This transparent conductive film layered product 2 is composed of the transparent substrate layer 10 containing an olefin-based resin, and the conductive film layer 12 containing zinc oxide, and having a thickness of 10-150 nm, wherein light transmittance at a wavelength of 400 nm is not smaller than 70%.例文帳に追加

本発明の透明導電膜積層体2は、オレフィン系樹脂を含む透明基板層10と、酸化亜鉛を含む厚さ10〜150nmの導電膜層12とから構成され、波長400nmでの光線透過率が70%以上である。 - 特許庁

例文

The synthetic resin molding 4 is molded by the simultanenous injection of a first synthetic resin composition 2 into the front-surface side of an interface layer sheet 1 positioned in the substantial middle of the thickness direction, and a second synthetic resin composition 3 into the back-surface side of the interface layer sheet.例文帳に追加

厚み方向の略中間に位置する界面層シート1の表面側に第1の合成樹脂組成物2が、裏面側に第2の合成樹脂組成物3が同時に注入されて形成されることで成形された合成樹脂成形品4である。 - 特許庁

In the removing step, one end side of the wiring pattern 104 is removed so that a shortest distance from one end of the wiring pattern 104 to an end surface of the metal substrate 102 through a surface of the insulating layer 103 becomes longer than a thickness of the insulating layer 103.例文帳に追加

除去工程では、配線パターン104の一端から絶縁層103の表面を経て金属基板102の端面に到達するまでの最短距離が、絶縁層103の厚みよりも長くなるように、配線パターン104の一端側を除去する。 - 特許庁

The ultraviolet absorptive hard coat layer (A) is cured by irradiating an ultraviolet absorptive hard coat layer coating liquid, which contains an ultraviolet-curable resin (A1), an ultraviolet absorbing agent (A2) having a specific structure and a photopolymerization initiator (A3), with ultraviolet rays and has 0.5-10 μm thickness.例文帳に追加

(A)紫外線吸収性ハードコート層は、(A1)紫外線硬化型樹脂、(A2)特定構造の紫外線吸収剤、及び(A3)光重合開始剤を含む紫外線吸収性ハードコート層塗布液を紫外線硬化させた層であり、その厚みが0.5〜10μmである。 - 特許庁

To realize a pencil hardness level of 3-4H, in producing a functional film having a functional inorg. membrane layer provided on the surface thereof and excellent in surface hardness, by controlling the elastic modulus of a hard- coat layer to a specific range without changing the thickness thereof.例文帳に追加

機能性無機薄膜層を表面に設けた表面硬度に優れる機能性フィルムを製造するのに、ハードコート層の膜厚を変えることなく、その弾性率を特定の範囲に制御することによって、鉛筆硬度が3H〜4Hの水準を実現すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a mold-released layer on a mold for forming a silicon ingot by which the mold-released layer can be formed on the inner surface of the mold at uniform thickness and strength by restraining the settling of ceramic particles contained in slurry with time.例文帳に追加

スラリー中に含有されるセラミック粒子が時間経過に伴って沈降することを抑制し、鋳型の内表面に離型層を均一な厚み及び強度で形成することが可能なシリコンインゴット形成用鋳型への離型層の形成方法を提供する。 - 特許庁

A cleaning material layer 2 of a thickness of 10-150 μm composed of an unvulcanized rubber or a thermosetting resin type composition is formed on one or both sides of an air-permeable sheet 1, and through holes 3 are distributed in the cleaning material layer.例文帳に追加

通気性シート1の片面もしくは両面に、未加硫ゴム系組成物または熱硬化性樹脂系組成物からなるクリーニング材料層2が厚み10〜150μmの範囲内で形成され、そのクリーニング材料層に貫通孔3が分布形成されている。 - 特許庁

Lamellar metal particles (especially silver particles) with a cross-sectional particle size of below a wavelength of about 100-800 nm and a thickness of several ten nm are used as a fundamental element and densely arranged on a substrate as an island film and a fluorescent substance is supported on the surface of the island film on the substrate in a single-layer or a multi-layer.例文帳に追加

約100〜800nmの波長以下の断面粒径と数十nmの厚みを有する平板状金属粒子(特に銀粒子)を基本素子として、これを基板上にアイランド膜として密に配列した表面上に単層もしく多層に蛍光物質を担持させる。 - 特許庁

To provide a steel product which allows the thickness of a hard layer formed on the surface to be freely set, has high hardness, has no fear of causing the hard layer to fall when blade tip is ground or polished, allows the reduction of producing cost and is suitable to material for blade, etc., and a produsing method thereof.例文帳に追加

表面に形成する硬質層の厚みの設定が自在で、硬度が高く、刃先研削時や研磨時等に硬質層が脱落するおそれがなく、製造コストも低減できる、刃物用材等に好適な鋼材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By coating a fluoropolymer material solution on inner peripheral face of a silicone rubber tubular material, the heat resistant hose of which the inner layer 1 made of fluoropolymer material is formed by a predetermined thickness on inner peripheral face of an outer layer 2 made of silicone rubber is manufactured.例文帳に追加

シリコーンゴム製管状物の内周面に、フッ素系高分子材料溶液を塗工することにより、シリコーンゴムからなる外層2の内周面上にフッ素系高分子材料からなる内層1を特定の厚みに形成してなる耐熱ホースを製造する。 - 特許庁

To provide polyimide resin excellent in thermal stability, dimensional stability and toughness as an insulating layer, to obtain a laminated body suitable for a flexible wiring board excellent in breaking resistance and flexibility even if the polyimide resin layer is thin in thickness by using the polyimide resin.例文帳に追加

絶縁層としての耐熱性、寸法安定性及び強靭性に優れたポリイミド樹脂を提供し、これを使用することによってポリイミド樹脂層の厚みが薄くても耐破断性、屈曲性に優れたフレキシブル配線基板用に適した積層体を得る。 - 特許庁

To provide an absorption type multilayer film ND filter having an oxide dielectric film layer having the uniform thickness and a metallic absorption film layer having density distribution (width) narrower in the gradation density distribution than before, and a simple method of manufacturing the same.例文帳に追加

酸化物誘電体膜層の膜厚は均一で且つ金属吸収膜層の膜厚のみ膜厚分布を形成し、グラデーション濃度分布の範囲(幅)が従来よりも狭い吸収型多層膜NDフィルター、及びその簡単な製造方法を提供する。 - 特許庁

The superconductor 100 is manufactured by forming a superconducting layer 2 on a base layer 1 by applying twice or more of film formation, wherein the thickness of the superconducting film at every film formation is to be 0.3 μm or smaller.例文帳に追加

下地層1に2回以上の成膜により超電導層2を形成する超電導体100の製造方法であって、各回の成膜における超電導膜の膜厚を0.3μm以下とすることを特徴とする超電導体100の製造方法。 - 特許庁

A drain material for vacuum consolidation 1 is provided with: a drain material 2 connected to a drainage hose 4 at its upper end; and interval holding means 5a for maintaining a length corresponding to the layer thickness of a lower seal layer 10, below the drain material 2 through an airtight cap 3.例文帳に追加

排水ホース4を上端部に連結したドレーン材2と、該ドレーン材2の下に気密キャップ3を介して下部シール層10の層厚さに対応した長さを維持する間隔保持手段5aが設けられている真空圧密用ドレーン材1としたものである。 - 特許庁

Since a block layer 58a is provided, a step corresponding to the thickness of the block layer 58a is formed between a first seal part 52A and an extension part 16A to increase adhesive strength for bonding the first seal part 52A and a TFT array substrate 10 to each other.例文帳に追加

ブロック層58aが設けられている分、第1シール部52A及び延在部16A間にブロック層58aの厚みに応じた段差が形成され、第1シール部52A及びTFTアレイ基板10を相互に接着する接着力を高めることができる。 - 特許庁

The light reflecting layer is formed such that (1) the surface roughness value Ra of the flat metallic particles is smaller than 0.02 μm, and (2) the hard coating film serving as the light reflecting film is formed as a layer having the thickness within the range from 0.3 to 1.0 μm.例文帳に追加

光反射層を、▲1▼前記扁平状金属粒子は、該粒子の表面粗さ値をRaとするとき、Raが0.02μm以下であり、かつ、▲2▼前記光反射層としての前記硬化塗膜は、膜厚が0.3〜1.0μmである層として形成する。 - 特許庁

To provide an optical disk unit capable of reducing the influence of a spherical aberration caused by the thickness difference of the surface resin layer or the middle layer of an optical disk including two or more recording layers, and an optical head device incorporated therein.例文帳に追加

記録層が2以上設けられた光ディスクにおける表面樹脂層の厚み差や中間層の厚み差に起因して生じる球面収差の影響を低減可能な光ディスク装置及びその光ディスク装置に組み込まれる光ヘッド装置、を提供する。 - 特許庁

A metallic plating layer is formed on each side of a plating base layer provided on both sides of a resin film with many through-holes by a thickness of 0.5 to 20 μm, the electric resistance between the front and rear sides is 40or below, and the tensile elongation is 1% or over.例文帳に追加

多数の貫通孔を有した樹脂フィルムの両面に設けられたメッキ下地層を介して電解メッキにより、金属メッキ層を各々の面に0.5〜20μm形成してあり、表裏の通電抵抗は40mΩ以下で、引っ張り伸びは1%以上である。 - 特許庁

To provide a flame-resistant lightweight cement panel formed by a combination of a foundation cloth material and mortar to reinforce brittleness in strength of a mortar layer to thereby prevent cracking of the mortar layer while forming the plate thickness of the panel thin to attain weight reduction.例文帳に追加

基布材とモルタル類を組み合わせて形成することで、パネルの板厚を薄く形成させて軽量化を達成させながらモルタル類層の強度的脆さを補強してモルタル類層の割れを防止できると共に、難燃性を有する軽量セメントパネルの提供。 - 特許庁

This flat yarn is the one obtained by slitting the film body obtained by forming a thin film layer by metal deposition, or an antimicrobial layer on a base film having a specific strength and elongation, and 5-9 μm thickness, and has 50-100% elongation and 250-400 MPa tensile strength.例文帳に追加

特定強伸度を有し厚さが5〜9μmの基材フイルム上に、金属蒸着薄膜層や抗菌層を設けたフイルム体をスリットした偏平糸であって、該偏平糸の伸度が50〜100%で引張強度が250〜400MPaである偏平糸。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence display device for improving the characteristics of an element by patterning a multilayer organic film by a heat transfer system, optimizing thickness for each of R, G, and B pixels, and using a B emission layer as a common layer, and to provide a method for manufacturing the organic electroluminescence display device.例文帳に追加

多層の有機膜を熱転写方式によりパターニングし、R、G、B画素ごとに厚さを最適化させ、B発光層を共通層として用い、素子の特性を向上させられる有機電界発光表示装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁

Thus, the sheet resistance of the layer 17 of the element is decided, according to a thickness of the layer 17 and a concentration of the added P-type impurity, and an arbitrary sheet resistance can be designed independently.例文帳に追加

このため、抵抗素子の抵抗層17のシート抵抗値は、HEMTのチャネル層13とは無関係に、抵抗層17の層厚と添加するP型不純物の濃度によって決定され、任意のシート抵抗が得られるように独立に設計することが可能になる。 - 特許庁

The composite fine particles are composed of a dielectric crystal fine particle whose surface is covered with the silica layer, and an average particle diameter of the dielectric crystal fine particles is 10-1,000 nm, and a thickness of the silica layer is 1-500 nm.例文帳に追加

表面がシリカ層で被覆された誘電体結晶の微粒子からなる複合微粒子であり、該誘電体結晶の微粒子の平均粒径が10〜1000nmであり、該シリカ層の厚みが1〜500nmであることを特徴とする複合微粒子。 - 特許庁

The packaging material consists of a base material 41 and at least one barrier layer 42, and the thickness of at least one barrier layer has a distribution with a maximum value in a center portion in the width direction, and the maximum value is ≥1.5 times the minimum value.例文帳に追加

基材41と少なくとも1層のバリア層42とを備えた包装材料であって、少なくとも一層の前記バリア層の厚みが幅方向の中央部で極大値となる分布を有しかつ極大値が最小値の1.5倍以上である包装材料を用いる。 - 特許庁

A first passivation film 8 having a thickness of 100 nm or smaller is formed on both side walls of a ridge portion 5A formed on a portion of a second p-type cladding layer 5, and flat portions (the top face of the second p-type cladding layer 5) on both sides of the ridge portion 5A.例文帳に追加

p型第2クラッド層5の一部に形成されたリッジ部5Aの両側壁およびリッジ部5Aの両側の平坦部(p型第2クラッド層5の上面)には、100nm以下の薄い膜厚を有する第1パッシベーション膜8が形成されている。 - 特許庁

To provide a laminated body of a conductive layer/a polyimide film/an adhesive with high heat resistance, a narrow pitch wiring pattern, a small diameter via hole, a uniform insulation layer thickness and an appropriately low linear expansion coefficient, which is suitable for manufacturing a highly reliable multi-layered printed-wiring board.例文帳に追加

高耐熱性、挟ピッチ配線パターン、小径ヴィアホール、均一な絶縁層厚み、適度に低い線膨張係数を有し、信頼性の高い多層プリント配線板製造に適した導体層/ポリイミドフィルム/接着剤積層体を提供することを目的とする。 - 特許庁

A conductive metal layer is formed directly on the surface of a heat resistant aromatic polyamide film having a thickness of 30 m or below and the average roughness (SRa) of the central surface of 0.5-200 nm, and an adhesive resin layer is formed on the opposite surface.例文帳に追加

厚さが30μm以下であり、中心面平均粗さ(SRa)が0.5〜200nmである表面を有する耐熱性芳香族ポリアミドフィルムの該表面に導電性金属層を直接形成し、その反対側の表面に接着性樹脂層を形成する。 - 特許庁

The release liner 10 has a laminate structure obtained by laminating an A-layer 12 formed out of the polypropylene-based resin composition (a) containing a nucleating agent, and a B-layer 14 formed out of a polypropylene-based resin composition (b) free from the nucleating agent in the thickness direction.例文帳に追加

剥離ライナー10は、造核剤を含有するポリプロピレン系樹脂組成物(a)から形成されたA層12と、造核剤を含有しないポリプロピレン系樹脂組成物(b)から形成されたB層14とが厚み方向に積層した積層構造を有する。 - 特許庁

The toner is previously put into a consolidation state to form a layer, a torque value generated when a conical rotor 1 is intruded into a toner layer of 20 mm thickness while rotating the rotor 1 is 0.1-4.4 mNm, or a value of a load generated when the rotor 1 is intruded into the toner layer of 20 mm thickness is 0.01-1N.例文帳に追加

少なくとも樹脂、顔料および離型剤からなり表面に添加剤を付着または固着してなる静電荷像現像用トナーであって、該トナーを予め圧密状態にして層を形成し、円錐ロータを回転させながら厚さ20mmトナー層中に侵入させたときに発生するトルクの値が0.1〜4.4mNm、または20mmトナー層中を侵入させたときに発生する荷重の値が0.01〜1Nであることを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁

The reflective mask blank comprises a substrate, a multilayer film formed on one surface of the substrate, an intermediate layer formed on the multilayer film, an absorption layer formed on the intermediate layer, and a conductive film formed on the other surface of the substrate, wherein the film thickness distribution of the conductive film is controlled to give uniform thickness of the reflective mask blank.例文帳に追加

本発明は、基板と、上記基板の一方の面に形成された多層膜と、上記多層膜上に形成された中間層と、上記中間層上に形成された吸収層と、上記基板の他方の面に形成された導電膜とを有する反射型マスクブランクスであって、上記反射型マスクブランクスの厚みが均一となるように、上記導電膜の膜厚分布が調整されていることを特徴とする反射型マスクを提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

To always perform developing with uniform density by preventing the occurrence of deflection in a direction being away from a developer carrier on the central part of a developer layer thickness control roller, thereby obtaining a developer layer having uniform layer thickness on the developer carrier.例文帳に追加

負荷トルクを減少させるために、トナー層厚規制ローラを付勢するバネを無くしたもので、トナー層厚規制ローラを回転させる駆動力を得るための駆動手段とトナー層厚規制ローラとの接続部をトナー層厚規制ローラの回動軸を軸支する軸受けの外側に設けたものであっては、駆動手段との接続部に加わる力によりトナー層厚規制ローラの中央部が現像ローラから離れる方向に撓みを生じ、現像ローラへのトナー層の層厚を均一にすることができない。 - 特許庁

In the image accepting material for color photography having a support and a toner image accepting layer on at least one surface of the support, the support has a resin layer having 5 to 30 μm thickness and ≤30 g/(m2.24 hour) permeation rate for water vapor on both surface of a raw paper, and the image accepting layer has 3 to 50 μm thickness.例文帳に追加

支持体と該支持体の少なくとも一方の面上にトナーの受像層を有するカラー電子写真用受像材料において、該支持体が原紙の両面に厚みが5〜30μmで水蒸気透過速度が30g/(m^2・24hr)以下である樹脂層を有しており、該受像層の厚みが3〜50μmであり、かつ該受像層の流動開始温度T_F(受像層)と該トナーの流動開始温度T_F(トナー)が以下の関係式を満たすことを特徴とするカラー電子写真用受像材料。 - 特許庁

The visual field angle control film 1 for electronic calculator is provided with a louver layer 20 in which a light transmissive zone 21 and a light shielding zone 22 are alternately arranged, the light shielding zone 22 is inclined at 10-30° to the thickness direction of the louver layer 20, the visual field angle is 90-140° and an adhesive layer 14 is preferably included.例文帳に追加

電卓用視野角制御フィルム1は、光透過帯21と遮光帯22とが交互に配されたルーバー層20を備え、該遮光帯22がルーバー層20の厚み方向に対して10〜30°の範囲で傾斜しており、視野角が90〜140°の範囲内であることを特徴とし、粘着層14を有することが好ましい。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ5μm未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

Conductive paste is embedded in a conductive paste filling portions (CHs), formed by opening a cover layer 30 on a ground line 21 to form a conduction portion 41 for conductively connecting the ground line 21 to a metal layer 40, and a metal film 42, having 10 μm or smaller film thickness and containing a silver nanopaste of low volume resistance rate is formed on the metal layer 40.例文帳に追加

グランドライン21上において、カバー層30を開口して形成した導電性ペースト充填部(CH)に、導電性ペーストを埋設して、グランドライン21と金属層40とを導電接合する導通部41を設け、金属層40に、体積抵抗率の低い銀ナノペーストを用いた膜厚10μm以下の金属膜42を形成した。 - 特許庁

The DRP of the anti-aliasing filter includes at least a first liquid photo-polymerization (LPP) layer disposed on a substrate or an intervening layer disposed on the substrate, and a first liquid crystal polymer (LCP) is disposed on the first LPP layer, and the first DRP has a thickness which is selected so as to provide a selected separation of ordinary and extraordinary light rays.例文帳に追加

アンチエイリアシングフィルタのDRPは、基板上または基板上に配置された介在層の上に少なくとも第1の液状光重合(「LPP」)層を含み、第1の液晶ポリマー(「LCP」)が第1のLPP層の上に配置され、第1のDRPは、常光線と異常光線の選択された分離を提供するように、選択された厚さを有する。 - 特許庁

The semiconductor device has a silicon single-crystal substrate 1, a GaP buffer layer 2 that is formed on the silicon-single crystal substrate 1 to the thickness of a critical film, and a plurality of semiconductor layers 3 each comprising a III-V compound semiconductor layer where formation is made on the GaP buffer layer 2 and nitrogen is added so that substantial lattice matching is made to a silicon signal crystal.例文帳に追加

シリコン単結晶基板1と、シリコン単結晶基板1上にその臨界膜厚以下の厚さに形成されたGaPバッファ層2と、GaPバッファ層2上に形成されシリコン単結晶に実質的に格子整合するように窒素を添加したIII −V族化合物半導体からなる複数の半導体層3とを有する。 - 特許庁

Then, a resin layer 22 is irradiated with ultraviolet rays from the other side 102 in the thickness direction of the base plate 148, and the resist layer 43 is irradiated with processing light 201 transmitted through the microlenses 506 and 507, and consequently the state of the resist layer 43 is partially changed and a black matrix 40 is formed in accordance with the changed state thereof.例文帳に追加

次にそのレンズ形成基板148の厚み方向一方側101から紫外線を照射し、マイクロレンズ506,507を透過させた処理光201を遮光膜パターニング用レジスト層43に照射して、遮光膜パターニング用レジスト層43の状態を部分的に変化させ、その変化状態に応じてブラックマトリクス40を形成する。 - 特許庁

A heterojunction bipolar transistor 100 is equipped with: at least an O_3-TEOS film 132 which is formed in a lower layer of a drawer wiring 121 connected with a base electrode 112 formed in a base layer 104; and an SiO_2 film 131 having a film thickness of 200 nm or more which is formed in a lower layer of the O_3-TEOS film 132.例文帳に追加

ヘテロ接合バイポーラトランジスタ100は、少なくとも、ベース層104に形成されているベース電極112と接続されている引き出し配線121の下層に形成されているO_3−TEOS膜132と、O_3−TEOS膜132の下層に形成されている膜厚200nm以上のSiO_2膜131とを備える。 - 特許庁

This radiographic image conversion panel is provided with a photostimulable phosphor layer 12, containing a photostimulable phosphor formed on a support body 11 by a vapor-deposition method, and a Pb layer 15 having 50-300 μm of film thickness is provided at 0-3.0 mm of distance from the under face of the photostimulable phosphor layer 12 directed toward a support body 11 side.例文帳に追加

放射線像変換パネルは、支持体11上に気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層12を備えており、この輝尽性蛍光体層12の下面から支持体11側に向けて0mm〜3.0mmの距離に、50μm〜300μmの膜厚を有するPb層15を設ける。 - 特許庁

例文

The negative electrode active substance for the nonaqueous electrolyte secondary cell which can occlude/liberate the lithium contains an inner layer, constituted of at least one type selected from among the group consisting of an alloy containing Si, Sn, Si and a Sn-containing alloy, and a surface layer formed on the inner layer and made of a silicon oxide or a tin oxide with a thickness of 0.2-1,000 nm.例文帳に追加

リチウムの吸蔵・放出が可能な非水電解質二次電池用負極活物質が、Si、Sn、Siを含む合金、およびSnを含む合金よりなる群より選択される少なくとも1種で構成された内層と、内層上に形成された酸化ケイ素または酸化スズからなる厚さ0.2〜1000nmの表面層とを有する。 - 特許庁




  
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