「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(227ページ目) - Weblio英語例文検索

In the elastic composition, the content of the thermal conductive filler is not less than 30 vol.%, and the content of the thermal conductive filler having the average grain size of not less than 95% of the average thickness of the elastic layer 23 is less than 15 vol.%.例文帳に追加

弾性組成物において、熱伝導性充填材の含有量は３０体積％以上であり、且つ平均粒径が弾性層２３の平均厚さの９５％以上である熱伝導性充填材の含有量は１５体積％未満である。 - 特許庁

The thickness (t) of a transparent layer 102 for protection of the magneto-optical disk 1, the ratio (k) of the area of the defects to a beam spot area and the inflow port clearance GIN of a flying head 31 to the magneto- optical disk 1 are set at the values stipulated by the following equations (1), (2).例文帳に追加

光磁気ディスク１の保護用透明層１０２の厚さｔと、ビームスポット面積に対するデフェクトの面積の比率ｋと、光磁気ディスク１に対するフライングヘッド３１の流入口間隙Ｇ_INを下記式で規定した値にする。 - 特許庁

Contact of the external peripheral surface 210 of the large diametric part 190 with an internal peripheral surface 175 of the large diametric hole part 174 almost fixedly holds a clearance between the external peripheral surface 212 of the small diametric part 192 and the internal peripheral surface 175, to hold a bonding agent layer to a desired thickness.例文帳に追加

大径部１９０の外周面２１０と大径穴部１７４の内周面１７５との当接により、小径部１９２の外周面２１２と内周面１７５との隙間をほぼ一定に保ち、接着剤層を所望の厚さに保つ。 - 特許庁

The variations in lifetime τ, thickness (d) and carrier concentration (p) of the base layer are obtained for each wafer and in the wafer plane, and such conditions as the raw material gas feed distribution and temperature distribution are changed, so as to reduce the variations, thereby searching for conditions for reducing the variations.例文帳に追加

ウエハ−毎、ウエハ−面内でのベース層のライフタイムτ、厚みｄ、キャリヤ濃度ｐのばらつきを求め、ばらつきを減ずるように原料ガス供給分布、温度分布などの条件を変更してばらつきの少ない条件を探す。 - 特許庁

The polymer-cement composition retains thermal resistance and physical properties without impairing coating workability and surface appearance, and can suppress upward warpage or the generation of cracks in the surface layer when it hardens and shrinks even when the composition is applied in a thickness of ≤ 5mm.例文帳に追加

本発明は、前記のような課題を解決するために、ポリエステルポリオール、イソシアネート化合物並びに水硬性セメントを含む骨材を配合してなる樹脂セメント組成物により、塗膜厚みが５ｍｍ以下においても、前記のような課題を解決できた。 - 特許庁

To provide a developing device capable of effectively preventing the leakage of developer from space between a layer thickness regulating member and a leakage preventing member with simple constitution, and an image carrier device equipped with the developing device and an image forming apparatus.例文帳に追加

層厚規制部材と漏れ防止部材との間の現像剤の漏れを、簡易な構成により、効果的に防止することのできる現像装置、および、その現像装置が装備される像担持体装置および画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

A plated layer 15 is formed in a thickness less than 0.1 μm by conducting first non-electrolytic plating processing to a wiring pattern 12 formed on a base board 10 utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に第１の無電解めっき処理を行って、厚みが０．１μｍ未満のめっき層１５を形成する。 - 特許庁

The decorative printing layer 5 comprises a film with a thickness of 100 μm molded by curing the vehicle constituting the ultraviolet curable color ink by ultraviolet rays and having a breaking strength of 1.0 kg/cm or higher and an elongation at break of 130% or higher.例文帳に追加

加飾印刷層５は、紫外線硬化型着色インキを構成するベヒクルを紫外線硬化して成形した厚さ１００μｍの膜が１．０ｋｇ／ｃｍ以上の破断強度と１３０％以上の破断伸びを持つものである。 - 特許庁

The functional sheet 20 includes a pair of felt-like sheet sections which are arranged on both sides in the thickness direction, and a functional material layer which is fixedly held between both sheet sections into a laminar structure, and demonstrates at least a function for adsorbing chemical substances.例文帳に追加

機能性シート２０は、その厚さ方向両側に配置される一対のフェルト状のシート部と、両シート部間に層状をなすよう固定的に挟持されて少なくとも化学物質の吸着機能を発揮する機能性材料層とを含む。 - 特許庁

To provide a method accurately measuring the thickness of a heat resistant layer applied to an electrode plate for a nonaqueous electrolyte; and to provide an electrode plate manufacturing method and a manufacturing device for nonaqueous electrolyte having high productivity utilizing this method.例文帳に追加

非水電解液用電極板に塗布される耐熱層の厚みを精度良く測定する方法、その方法を利用した生産性の高い非水電解液用電極板製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a plating method to supply a golf club head having decorativeness and corrosion resistance improved by securing a plating layer having uniform thickness without depending on the surface form of each part of the head having complicated shape such as projecting or recessed parts.例文帳に追加

凹部など複雑なヘッド各部の表面形態に左右されることなく、均一な厚みのめっき層を確保して、装飾性及び耐食性の向上を図ることができるようにしたゴルフラブヘッドを供給するためのめっき方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a capacitor of a semiconductor element wherein a doped silicon layer is used as an electrode material, charge depletion is prevented in a charge storing electrode, and a nitride film can be reduced in thickness without reducing the breakdown voltage.例文帳に追加

ドーピングされたシリコン層を電極物質とし、電荷格納電極の電荷空乏現象を防止し、破壊電圧を低下させることなく窒化膜の厚さを減少させることができる半導体素子のキャパシタ製造方法を提供すること。 - 特許庁

The windings 34, 35A are pressed into the annular slot 37 within the range of the thickness of the insulation layer 53, so that a conductor which constitutes the windings 34, 35A can be prevented from being damaged, and the insulator becomes unnecessary, thus reducing the number of parts.例文帳に追加

また絶縁層５３の厚さの範囲内で巻線３４，３５Ａが環状スロット３７に圧入されるので、巻線３４，３５Ａを構成する導線が傷つくのを防止することができ、しかもインシュレータが不要になるので部品点数が削減される。 - 特許庁

A voltage level to be applied on a layer thickness regulating blade 44 is controlled in such a manner that a toner image formed by developing an electrostatic latent image formed in accordance with a preliminarily determined density data on an image carrying body 12 reaches the density in accordance with the density data.例文帳に追加

像担持体１２上の予め定めた濃度データに応じて形成された静電潜像を現像したトナー画像の濃度が、この濃度データに応じた濃度となるように層厚規制ブレード４４に印加する電圧のレベルを制御する。 - 特許庁

This nano structure functional material is obtained by converting a chemical composition of a graft polymer chain constituting a graft polymer layer arranged on the substrate surface by graft polymerization in the film thickness direction into a multilayered structure with a copolymer with a monomer or an oligomer of a different kind.例文帳に追加

グラフト重合により基体表面に配設したグラフトポリマー層を構成するグラフトポリマー鎖が別種のモノマーまたはオリゴマーとの共重合体により膜厚方向に化学組成が多層構造化されているナノ構造機能体とする。 - 特許庁

The production process of a silicon single crystal wafer comprises a first heat treatment process performing heat treatment on a silicon wafer obtained by processing a single crystal grown by Czochralski method, and a step for polishing the heat treated wafer surface until a device active layer becomes a predetermined thickness.例文帳に追加

チョクラルスキー法によって育成された単結晶から加工されたシリコンウェーハに熱処理を施す第１熱処理工程と、熱処理が施されたウェーハ表面を、所定厚さのデバイス活性層を残すように研磨する工程とを有する。 - 特許庁

At least one of the ferromagnetic layers is formed of amorphous ferromagnetic material deposited in a film through magnetron DC sputtering, and the intermediate layer is of magnesium oxide deposited in a film through magnetron RF sputtering to have a single crystal structure in a direction of film thickness.例文帳に追加

少なくとも一方の強磁性層は、マグネトロンＤＣスパッタにより成膜したアモルファス状態の強磁性体とし、前記中間層は、マグネトロンＲＦスパッタにより成膜した、膜厚方向において単結晶構造を有する酸化マグネシウムとする。 - 特許庁

An intermediate layer 2 composed of a thermoplastic synthetic resin, with which a white pigment such as titanium dioxide or metallic powder such as aluminum is blended, and having thickness from 20 μm to 100 μm is formed on the surface of a core body 1 made of the thermoplastic synthetic resin.例文帳に追加

熱可塑性合成樹脂製の芯体１の表面に、二酸化チタン等の白色系顔料又はアルミニウム等の金属粉末を配合した熱可塑性合成樹脂からなる２０μｍ以上１００μｍ以下の中間層２を形成する。 - 特許庁

That is, distances from a measurement device to the foremost surfaces of measurement objects are obtained at the respective parts to measure the differences between them, whereby the thickness of the n-type epitaxial layer 2 grown on the surface of the semiconductor substrate 1 can be measured.例文帳に追加

すなわち、これら各部において、測定装置から測定対象の最表面までの距離を求め、その差を測定することにより、半導体基板１の表面に成長したｎ型エピ層２の膜厚を測定することが可能となる。 - 特許庁

In the mold for extrusion-molding the coated, multi-layer, seamless tube having a small diameter and a thin thickness for an electrified roller in the gravity direction, a resin confluence point in the mold is one, and no manifold is provided.例文帳に追加

複数層のシームレスな小径薄肉の帯電ローラ用被覆チューブを重力方向に押出し成形する金型において、該金型内の樹脂合流点が一つであり、かつ、マニホールドを有さない帯電ローラ用被覆チューブの押出し成形金型を用いる。 - 特許庁

To provide a film forming method for obtaining an extremely thin interface oxide film having high in-plane uniformity of film thickness and less defect by performing a low oxygen partial pressure oxidation while the surface of a silicon layer is protected by a chemical oxide film.例文帳に追加

シリコン層の表面をケミカル酸化膜で保護した状態で低酸素分圧酸化を行うことにより、膜厚の面内均一性が高くて且つ欠陥の少ない極めて薄い界面酸化膜を得ることが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

The thermoelectric conversion material includes a layered structure in which the thickness coincides with the c axial length of the unit lattice of a crystal structure with a metal layer 2 made of two metal layers sandwiched between two CoO_2 layers 1, 1 which form two-dimensional triangular lattices.例文帳に追加

熱電変換材料は、金属元素からなる金属層２が、二次元的な三角格子を形成する２つのＣｏＯ_２層１，１間に挟まれ、厚みが結晶構造の単位格子のｃ軸長と一致する層状構造を有している。 - 特許庁

Consequently, when a voltage BVdss is applied between a drain and a gate, the influence of a gate electrode 15 on the interior of silicon of the N type diffusion layer 12 slowly varies due to a variation in the thickness of the silicon oxide film 19.例文帳に追加

したがって、ドレイン‐ゲート間に電圧ＢＶdssが印加された場合に、Ｎ型拡散層１２のシリコン内に与えるゲート電極１５の影響が、シリコン酸化膜１９における外周部における膜厚の変化を反映して緩やかに変化する。 - 特許庁

The thickness of the layer 12 is specified to provide the ID card 100 having excellent surface protectiveness on the plate 11 and excellent scuff resistance (wear resistance) without deteriorating processability when the member is formed.例文帳に追加

この硬化型保護層１２の膜厚を規定することにより、その保護部材形成時における加工性を悪化させることなく、しかも、カード基板１１上の表面保護性に優れ、かつ、耐擦過性（耐摩耗性）に優れたＩＤカード１００を提供できる。 - 特許庁

This capillary column comprises a silicon dioxide layer having a thickness ranging from 0.01 to 30 μm, which is formed by applying an organic silicone polymer solution to the inner surface of a lengthy capillary tube, and heating the tube in oxidizing atmosphere to thermally decompose the organic silicone polymer.例文帳に追加

長尺のキャピラリーチューブの内面に有機シリコーンポリマー溶液を塗布し、酸化雰囲気中で加熱して該有機シリコーンポリマーを熱分解せしめることにより形成された、０．０１〜３０μｍの範囲の厚さの二酸化珪素層を内面に備える。 - 特許庁

To provide plural kinds of pieces of wiring different in film thickness in the same layer, and realize a structure superior in stability during mass production and difficult to produce residual on the wires concerning a semiconductor device having the laminated wiring structure.例文帳に追加

本発明は積層配線構造を有する半導体装置に関し、膜厚の異なる複数種類の配線を同一層内に備え、量産時の安定性に優れ、かつ、配線上に残渣を発生させ難い構造を実現することを目的とする。 - 特許庁

Polymonochloroparaxylene resin having a degree of polymerization of 5000 or more is used to form the coating layer 8 approximately 5 μ of thickness with chemical vapor deposition (CVD), and thus the temperature sensor with insulation coating having moisture resistance and a gas barrier performance is provided.例文帳に追加

このコーテイング層８は重合度５０００以上のポリモノクロロパラキシリレン樹脂を使用し、化学蒸着（ＣＶＤ）法により厚さ約５μｍに形成して耐湿性やガスバリア性を付与させた絶縁性被膜付き温度センサを提供する。 - 特許庁

To provide a stacked electric double-layer capacitor capable of making an allowable expansion amount of cell expansion in a stacking direction larger than the thickness of an end plate in a multi-laminate body, and capable of obtaining a tightening force.例文帳に追加

多積層体におけるセルの積層方向の膨張を許容可能な膨張量をエンドプレートの厚さよりも大きくすることができるとともに、締め付け力を得ることができる積層型電気二重層キャパシタを提供することにある。 - 特許庁

To provide a lamination SOI wafer having a thickness of tens to hundreds μm, including a terrance-free SOI layer having a wide device forming area, and allowing handling in the same way as for the regular wafer whose both sides are symmetrical, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

厚さが数μｍ〜数百μｍであって、テラスフリーでかつデバイス形成面積が広いＳＯＩ層を有し、通常の表裏対称なウェーハと同様の取扱いが可能な、貼合せＳＯＩウェーハ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

On side faces 106a to 106c in a capacitor body 104 of a ceramic capacitor 101, ceramics for composing a ceramic dielectric layer 105 is exposed, and a plurality of recesses 107 extended in a thickness direction of the capacitor body 104 are formed.例文帳に追加

セラミックコンデンサ１０１のコンデンサ本体１０４における側面１０６ａ〜１０６ｃには、セラミック誘電体層１０５を構成するセラミックが露出するとともに、コンデンサ本体１０４の厚さ方向に延びる凹部１０７が複数形成されている。 - 特許庁

On side faces 106a to 106d in a capacitor body 104 of a ceramic capacitor 101, ceramics for composing a ceramic dielectric layer 105 is exposed, and a plurality of recesses 107 extended in a thickness direction of the capacitor body 104 are formed.例文帳に追加

セラミックコンデンサ１０１のコンデンサ本体１０４における側面１０６ａ〜１０６ｄには、セラミック誘電体層１０５を構成するセラミックが露出するとともに、コンデンサ本体１０４の厚さ方向に延びる凹部１０７が複数形成されている。 - 特許庁

A synthetic resin layer 4 is formed on one side of the light reflecting film 3, being as the hologram film 30, a lens film, a metal film, or a magical film, which has the visual effect by the refraction effect of light to ensure thickness and strength enabling on-demand printing.例文帳に追加

ホログラムフィルム３０、レンズフィルム、メタルフィルム又はマジカルフィルムである光の屈折効果による視覚効果を有する光反射フィルム３の一方の面に、合成樹脂層４を形成して、オンデマンド印刷可能な厚さ及び強度を確保する。 - 特許庁

The deposited film on the substrate 101 composing a piezoelectric ceramics structure or the like is composed of a plurality of layers in a thickness direction, a first layer 102 directly deposited on the substrate 101 contains an aggregate having the maximum aggregate diameter in powder.例文帳に追加

圧電セラミックス構造物等を構成する基板１０１上の堆積膜は、厚さ方向に複数層で構成され、基板１０１に直接堆積する第１層１０２は、粉体中に最大の凝集体径を有する凝集体を含有する。 - 特許庁

By so doing, it is possible to prevent the increase of the thickness of the nitride semiconductor layer 18 near the insulating film 16 by the diffusion of raw materials, while preventing abnormal growth generated in the high-dislocation region 12 from propagating to the low-dislocation region 10.例文帳に追加

これにより、高転位領域１２上で発生した異常成長が低転位領域１０に伝播するのを防ぎつつ、原料拡散により絶縁膜１６の近傍で窒化物半導体層１８の厚みが増大するのを防ぐことができる。 - 特許庁

The zone of increased carrier concentration has a thickness of about 1000 Å and extends from the surface opposite to the epitaxial layer, of the semiconductor substrate toward the opposite surface, and the dopant concentration is gradually reduced toward the opposite surface.例文帳に追加

漸増キャリヤー濃度帯は、約１０００Åの厚さを有し、エピタキシャル層と反対の半導体基板の表面から該表面と反対側の表面に向かって伸びており、該反対側の表面に向かってドーパントの濃度が漸次低下している。 - 特許庁

The ratio of iron measuring intensity to the maximum value of the nickel measuring intensity is defined as the iron/nickel ratio, at a depth position showing the maximum value of nickel measuring intensity at the performing of glow discharge spectrum measurement of the iron-nickel diffusion layer 91, in the thickness direction.例文帳に追加

鉄−ニッケル拡散層９１をその厚さ方向にグロー放電分光測定したときにニッケル測定強度が最大を示す深さ位置において、ニッケル測定強度の最大値に対する鉄測定強度の比を、鉄／ニッケル比率と定義する。 - 特許庁

Since an underlying film 9 is formed on part of the surface of a projecting part 3, exposed by removing part of a liquid-repellent layer 6, the smooth reflective surface 4 with a uniform thickness can be formed accurately on the underlying film 9 through electroless deposition.例文帳に追加

撥液膜６の一部を除去することで露出させた凸部３の表面の一部に、下地膜９を形成するので、下地膜９の上に、無電解めっきにより均一な厚さで滑らかな反射面４を精度良く形成することができる。 - 特許庁

A developing apparatus comprises a development sleeve 41 for carrying a developer, and a developer circulation regulating member 70 for regulating the circulation of the developer, in the neighborhood (substantially downward) of a development blade 42 for regulating the layer thickness of the developer carried on the development sleeve 41.例文帳に追加

現像剤を担持する現像スリーブ４１と、現像スリーブ４１上に担持された現像剤の層厚を規制する現像ブレード４２との近傍（略下方）の現像剤の循環を規制する現像剤循環規制部材７０を備える。 - 特許庁

To provide a polishing method of a color filter for a liquid crystal display by which the entire face of the surface of the color filter can be further uniformly polished and variations of the film thickness of a colored layer can be remarkably reduced in polishing processing using an Oscar type polishing machine.例文帳に追加

オスカー型研磨機を用いた研磨処理において、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨し、着色層の膜厚のバラツキを大幅に縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a color unevenness by suppressing the occurrence of a luminance unevenness due to a liquid crystal layer thickness unevenness (gap unevenness) of a liquid crystal panel, and particularly correcting so as to obtain an approximate characteristic even when the occurrence form of the luminance unevenness is different at every liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルの液晶層厚さムラ（ギャップムラ）に起因する輝度ムラの発生を抑え、特に液晶パネル毎に輝度ムラの発生形態が異なったとしても、近似した特性が得られるように補正することで色ムラの発生を抑えること。 - 特許庁

The protection layer comprises the light rare earth element RL, and it has a part whose thickness is 0.5 μm or above.例文帳に追加

Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系希土類焼結磁石体は、重希土類元素ＲＨ（Ｄｙ、ＨｏおよびＴｂからなる群から選択された少なくとも１種）を含有し、保護層は、軽希土類元素ＲＬを含有し、厚さが０．５μｍ以上の部分を有している。 - 特許庁

To provide a hard coat film in which thickness unevenness is suppressed by forming a hard coat layer so as to be thin, which has sufficient surface hardness and can be simply molded and further to provide a polarizing plate having the hard coat film and a liquid crystal display apparatus having the polarizing plate.例文帳に追加

ハードコート層を薄く形成して厚みむらを抑え、十分な表面硬度を有し、かつ簡便に成形できるハードコートフィルム、このハードコートフィルムを有する偏光板、および、この偏光板を有する液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

For a magnetic coating used for the magnetic recording layer 4, the one containing barium ferrites is used, and it is coated so as to turn the thickness to 10 μm by a reverse gravure system, magnetically oriented by a permanent magnet in 5,000 Oe magnetic field and then dried with a drier.例文帳に追加

磁気記録層４に使用される磁気塗料はバリウムフェライトを含むものを使用し、リバースグラビア方式により厚み１０μｍになるように塗工し、５０００Ｏｅ磁界で永久磁石により磁気配向したのちドライヤーで乾燥した。 - 特許庁

Here, the coil pattern 3a, which constitutes a primary winding, is arranged in the outermost layer of the printed board 1, and the coil pattern 3b, which constitutes a secondary winding, is formed thicker than the thickness of the coil pattern 3a, which constitutes the primary winding.例文帳に追加

ここで、１次巻線を構成する巻線パターン３ａはプリント基板１の最外層に配置され、また、２次側巻線を構成する巻線パターン３ｂは１次側巻線を構成する巻線パターン３ａの厚みよりも肉厚に形成されている。 - 特許庁

A surface light emitting laser 102 which is formed on a substrate 104 is incorporated into the optical device 100, and a welded layer 300 having a prescribed film thickness is formed on the surface of the side in which the surface light emitting laser 102 is provided on the substrate 104.例文帳に追加

光装置１００は、基板１０４上に形成された面発光レーザ１０２を含み、基板１０４において面発光レーザ１０２が設置されている側の面上に、所定の膜厚を有する融着層３００が形成されている。 - 特許庁