「margin light」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The polymer and photoresist composition can improve its resolution and process margin, since an activation energy required for the reaction of deprotecting the spirocyclic ketal group is low, and also it is possible to realize a minute pattern since the sensitivity to a baking temperature after its exposure to light is low.例文帳に追加

前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 - 特許庁

To achieve a plasma display panel capable of achieving superior image display by stabilization of a light-emitting state as well as capable of improving instability of discharge starting voltage due to a residual gas and capable of securing a driving margin without complicating a structure and a manufacturing process.例文帳に追加

構造や製造工程を複雑化することなく残留ガスによる放電開始電圧の不安定性を改善し駆動マージンを確保するとともに発光の状態の安定化により、良好な画像表示が可能なプラズマディスプレイパネルを実現する。 - 特許庁

To provide a boiling water type light water reactor core capable of increasing output, while keeping a thermal margin in the same degree as a BWR in operation at present, and uniformizing furthermore cooling of each fuel rod in a fuel assembly at an increased output time.例文帳に追加

熱的余裕を現在運転中のＢＷＲと同程度に保ちつつ増出力が可能であり、かつ増出力時での燃料集合体内における各燃料棒の冷却をより均一化できる沸騰水型軽水炉炉心を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which attains enhancement in resolving power and improvement in process tolerability such as exposure margin and focal depth in lithography using a short-wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to provide a positive photosensitive composition having small density dependence and a wide side lobe margin, and to further provide a positive photosensitive composition improved also with respect to edge roughness and development defects.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物、更にはエッジラフネス及び現像欠陥についても改善されたポジ型感光性組成物を提供することにある。 - 特許庁

An information beam having a prescribed special pattern wherein a margin of an S/N ratio per 1 dot is widened by dividing a plurality of optical elements of a spatial light modulating means into blocks consisting of a plurality of adjacent optical elements and assigning each block to each bit which constitutes data to perform light modulation is recorded in the hologram recording medium.例文帳に追加

ホログラム記録媒体に、空間光変調手段の複数の光学素子を互いに隣接する複数の光学素子からなるブロックに分割し、各ブロックをデータを構成する各ビットに割り当てて光変調することにより、１ドット当たりのＳ／Ｎのマージンを広くした所定の特殊パターンを有する情報光を記録しておく。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as an improved margin for exposure and an improved depth of a focus in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication, and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an inkjet recording apparatus capable of preventing ink in a nozzle part from being cured when a thick rigid medium is printed on a platen and making printing with no margin of the rigid medium possible in the inkjet recording apparatus for printing with an active light curing type ink.例文帳に追加

活性光線硬化型インクで印刷するインクジェット記録装置において、プラテン上での厚いリジッドメディア印刷時におけるノズル部のインク硬化を防止するとともに、リジッドメディアの余白無し印刷を可能にすることができるインクジェット記録装置の提供。 - 特許庁

To provide an inkjet recording apparatus capable of preventing ink in a nozzle part from being cured when a thick rigid medium is printed on a platen and making printing with no margin of the rigid medium possible in the inkjet recording apparatus for printing with an active light curing type ink.例文帳に追加

活性光線硬化型インクで印刷するインクジェット記録装置において、プラテン上での厚いリジッドメディア印刷時におけるノズル部のインク硬化を防止するとともに、リジッドメディアの余白無し印刷を可能にすることのできるインクジェット記録装置の提供。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as an improved margin for exposure and an improved depth of a focus in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultramicro-fabrication and a positive type chemical amplification type resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for black resist which is free from development residue, has excellent pattern dimensional stability and a pattern contactness, can obtain a pattern excellent in sharpness of its edge shape with a wide development margin, and can obtain a black resist high in light shielding property.例文帳に追加

現像残渣がなく、パターン寸法安定性及びパターン密着性に優れ、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好なパターンを広い現像マージンで得ることができ、遮光性の高いブラックレジストが得られるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a mounting structure of the sky light transparent member of a vehicle capable of keeping its safety and easy maintenability by letting its mounting structure be secured with its deformable margin even if its transparent member resistant to impact, is subjected to thermal expansion or impact load.例文帳に追加

耐衝撃性を備えた透視部材において熱膨張あるいは衝撃荷重がかかった場合でも、その変形代を確保できる取付構造にして安全性とメンテナンスの容易性を備える車両の天窓透視板の取付構造を提供する。 - 特許庁

When the rotation input to the handle is interrupted during the rotation input, the shutter plate 2 is rotated in respect to the rotary body 1 in a relatively opposite direction of the rotary body 1 within the margin angle range, and a light transmitting path 1c is closed by the shutter plate 2.例文帳に追加

回転入力時にハンドルへの回転入力が断たれると、シャッタ板２は回転体１に対して前記余裕角度範囲内において前記回転体１とは相対的に逆方向に回転させられ、透光路１ｃはシャッタ板２によって閉じられる。 - 特許庁

To solve the problem on techniques to improve the intrinsic performance of microphotofabrication using far-UV rays, particularly ArF excimer laser light and to provide an excellent positive resist composition having low dependence on the pattern density and a wide side robe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is enhanced in resolving power, reduced in residue on development and improved in process admissibility such as a margin for exposure and a focal depth in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、現像残査が低減し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition having large development margin, excellent heat resistance, excellent light resistance and excellent solvent resistance, to provide a cured film obtained by curing the colored photosensitive resin composition, to provide a color filter having the cured film, and to provide a liquid crystal display device with the color filter.例文帳に追加

現像マージンが大きく、耐熱性、耐光性及び耐溶剤性に優れる着色感光性樹脂組成物、前記着色感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化膜、前記硬化膜を具備するカラーフィルタ、及び、前記カラーフィルタを具備する液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

A data signal to be applied to an element driving transistor Tr2 which controls an electric current flowing through an EL element is adjusted in accordance with use environment such as external light luminance, temperature and deterioration extent of the EL element, and the power source voltage difference (CV margin) between a driving power source and a cathode power source is adjusted.例文帳に追加

外光輝度や温度、ＥＬ素子の劣化程度などの使用環境に応じ、ＥＬ素子に流す電流を制御する素子駆動用トランジスタＴｒ２に印加するためのデータ信号を調整し、かつ、駆動電源とカソード電源との電源電圧差（ＣＶマージン）を調整する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as margin for exposure and focal depth and less liable to cause development defects in lithography using a short-wavelength light source for exposure capable of ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善され、現像欠陥の発生も少ないポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and to specifically provide a positive resist composition excellent in various properties such as PEB temperature dependency and exposure margin without deteriorating sensitivity, pattern profile, etc., and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケーション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物、より具体的には、感度・パターンプロファイル等を劣化させることなく、ＰＥＢ温度依存性・露光マージンなどの諸性能に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays, the composition showing little dependence on heating temperature after exposure in a microphotofabrication process using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, having decreased surface roughening by etching, having low dependence on pattern density, and having excellent side lobe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、露光後加熱温度依存性、エッチング表面荒れが低減され、さらには疎密依存性が小さく、サイドローブマージンに優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having no problem with safety, excellent in sensitivity, resolution and storage stability, having good development margin, capable of forming an interlayer insulation film having excellent solvent resistance, heat resistance, light transmittance and adhesion, and capable of forming microlenses having excellent solvent resistance, heat resistance, light transmittance and adhesion, and also having a good melt shape.例文帳に追加

組成物として、安全性に問題がなく、感度、解像度、保存安定性等に優れ、良好な現像マージンを有しており、優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備えた層間絶縁膜を形成でき、また優れた耐溶剤性、耐熱性、光透過率、密着性等を併せ備え、良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物等を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type silicone-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, having high resolving power and giving a resist pattern excellent in density dependency and margin for exposure particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコーン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

When a user uses an operation section to enter desired magnification and a recording paper size in this image reader, LEDs 8, 9 being a plurality of light emitting means arranged at a prescribed interval in an original positioning member 3 of an original platen in the main scanning direction and in the sub-scanning direction are used to display a printable area 11 and a print margin 12.例文帳に追加

操作部に希望倍率と記録用紙サイズを入力すると、原稿台の原稿位置決め部材３内において主走査方向および副走査方向に所定の間隔で配置された複数の発光手段であるＬＥＤ８・９によって、印刷可能領域１１と印刷マージン１２が表示される。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type silicon-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source and having high resolving power in the production of semiconductor device and giving a resist pattern excellent in density dependency particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm and in margin for exposure.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, having evaluation with the same light exposure near the margin of resolution by which the size in which a nondense pattern vanishes and the marginal resolution size of a dense pattern show approximate values closer to each other and ensuring low surface roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも解像限界あたりにおいて、同一露光量の評価で、疎パターンが消失してしまう寸法と密パターンの限界解像寸法の二者がより近い近似値を示し、更にラインパターンの表面ラフネスが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition having a sufficient process margin and proper storage stability, that is superior in adhesion to a substrate, heat resistance and solvent resistance and property of controlling an irregular shape, and capable of easily forming a film for use as a light diffusion reflecting film of a reflecting or semi-transmissive liquid crystal display element.例文帳に追加

十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有し、基板との密着性、耐熱性、耐溶剤性、凹凸形状のコントロール性に優れた、反射型または半透過型の液晶表示素子の光拡散反射膜に用いるための膜を容易に形成することのできる組成物を提供すること。 - 特許庁

This optical disk drive 10 utilizes the width M of the bias margin and shorten the time for adjustment of the focusing bias by reducing the number of points to measure the relationship between the focusing bias and the return light indexes, and largely reduces the time needed to mount an optical disk 20 to the disk drive 10.例文帳に追加

バイアスマージンのマージン幅Ｍを利用することにより、フォーカスバイアス値と反射光の指標値との関係を計測するポイント数を大幅に削減し、フォーカスバイアス値の調整時間を短縮し、光ディスク装置１０への光ディスク２０の装着時間を大幅に短縮することができる光ディスク装置１０である。 - 特許庁

Consequently, it becomes possible to use the semiconductor integrated circuit having the superior high-frequency characteristic and fined structure by relieving a withstand voltage condition by the amount of the set withstand voltage margin and high-density recording can be performed on, for example, an optical disk by causing the laser LD1 to radiate short-wavelength laser light.例文帳に追加

このために、設定される耐圧マージン分だけ、耐圧条件を緩和して高周波特性に優れた微細化構造の半導体集積回路を使用することが可能になり、半導体レーザＬＤ１に短波長のレーザ光を放射させて、例えば光ディスクに対して高密度記録を行うことが可能になる。 - 特許庁

The Hamaoka Nuclear Power Station had ensured seismic safety to withstand an earthquake ground motion (vibration on the bedrock) of 600 gal, taking into consideration the Ansei-Tokai earthquake (magnitude of 8.4) exceeding a possible Tokai earthquake (magnitude of 8.0), and a larger earthquake (magnitude of 8.5), but in light of the deliberations by the national government on the revision of the Regulatory Guide for Reviewing Seismic Design of Nuclear Power Reactor Facilities that started in July 2001, the licensee of the reactor operation carried out the seismic margin improvement work voluntarily, recognizing that it is important to improve the seismic safety margin, reflecting the latest findings.例文帳に追加

浜岡原子力発電所では、想定東海地震（マグニチュード8.0）を上回る安政東海地震（マグニチュード8.4）やこれを上回る地震（マグニチュード8.5）を踏まえ、600ガルの地震動（岩盤上における地震の揺れ）に対しても、耐震安全性を確保しているが、最新の知見を反映し、その耐震裕度を向上させていくことが重要であるとの認識により、平成13年7月から開始された国の耐震設計審査指針改訂の審議を契機として、自主的に耐震裕度向上工事を実施した。 - 経済産業省

To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving performance proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to specifically provide a positive resist composition having small mask coverage dependence, high post-coating delay stability (PCD) and high post-exposure delay stability (PED), and to further provide a positive resist composition excellent also in process margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、マスク被覆率依存性が小さく、塗布後の経時安定性（ＰＣＤ）、露光後の経時安定性（ＰＥＤ）が大きいポジ型レジスト組成物、更に加えてプロセスマージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When jumping the focusing from a spot 41 on a signal recording layer L1 to a spot 43 on a signal recording layer L0, this pickup device always sets up the power of the liquid crystal element 25 producing discrete power aberration so as to set the spot like a spot 42 outside a ±5 μm margin from a desired location L0 on a light incident disk surface side 45.例文帳に追加

信号記録層Ｌ１上のスポット４１を、信号記録層Ｌ０上のスポット４３にフォーカスジャンプさせるとき、離散的なパワー収差を発生させる液晶素子２５のパワー発生量を、スポット４２のようにジャンプ先であるＬ０の位置から±５μｍのマージン外、光が入射するディスク表面側４５の領域に常に位置するよう設定する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a self-light emission type speed hump, simply informing a driver of a location of a speed hump in the case of a dark environment such as nighttime, and allowing the driver to surely decrease the operating speed with a margin in passing, so that shock from the road surface is decreased to give no shock to a passenger and baggages, and drive a car with relief.例文帳に追加

夜間等の暗い環境の場合に、ドライバーにスピードハンプの所在位置を簡単に知らしめることができ、通過時にドライバーは、余裕をもってしかも確実に運転速度を落とすことができるので、路面からの衝撃が軽減されて、乗客や荷物にショックを与えることなく、安心して運転することが出来るようにした自発光式スピードハンプを提供する。 - 特許庁

Nevertheless, there is concern that the net debt to foreign countries as a percentage of GDP will increase in the future, in light of (a) the flattening out of the nominal effective exchange rate of the US dollar from 2005 onward, (b) the continued worsening of the trade balance, (c) the unlikelihood of external asset prices of the United States, including stock prices, continuing to rise in the long term, and (d) the decrease in the margin of surplus for the balance on income for two consecutive years from 2005 onward. It is thus necessary for the United States to try to control this by reducing its trade deficit to a certain degree (Figure 1-2-11).例文帳に追加

しかしながら、① 2005 年以降ドルの名目実効為替レートは横ばいに転じていること、②貿易収支は引き続き悪化を続けていること、③株価等米国の対外資産価格が長期的に上昇し続けるとは考えにくいこと、④2005 年以降 2 年連続で所得収支黒字幅が減少していることにかんがみれば、今後、対外純債務残高の名目GDP 比が増加することが懸念されることから、米国は、貿易赤字を一定程度縮小させることで、その抑制を図ることが必要である（第1-2-11図）。 - 経済産業省