「micro pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a micro pattern by proximity field exposure by which a micro pattern having a high aspect ratio can be formed in an image formation layer with film thickness enough not to generate any defect such as pin hole or the like, when forming the micro pattern by proximity field exposure while the mask is made close to the image formation layer.例文帳に追加

マスクを像形成層に近接させて近接場露光によって微細パターンを作製するに際して、ピンホール等の欠陥の生じない厚さの膜厚に形成された像形成層に対して、高アスペクト比を有する微細パターンを作製することが可能となる近接場露光による微細パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁

A pattern image forming position adjusting part 46 changes the position of the pattern image of the reference light formed by the micro mirror device 27 by a pixel unit and determines the position in which the best reproduction pattern image is obtained.例文帳に追加

パターン像形成位置調整部４６は、マイクロミラーデバイス２７に形成される参照光のパターン像の位置を画素単位で変化させ、最良の再生パターン像が得られる位置を決定する。 - 特許庁

To detect and inspect a micro circuit pattern with high sensitivity in defect inspection of a pattern to be inspected for inspecting a defect/foreign matter on the pattern to be inspected such as a semiconductor wafer, a liquid crystal display, a photomask or the like.例文帳に追加

半導体ウェーハや液晶ディスプレイ、ホトマスクなどの被検査パターンにおける欠陥・異物を検査する被検査パターンの欠陥検査において、微細な回路パターンを高い感度で検出し、検査する。 - 特許庁

The one or more micro structure layers have a plurality of separated micro-patterns and form a predetermined pattern for changing transmissivity of the optical device so as to reduce heterogeneity of luminance.例文帳に追加

この１つ以上のマイクロ構造層は分離した複数のマイクロパターンを有し、輝度の不均一性を低減するように光学デバイスの透過性を変化させる所定のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a production method of excellent productivity for a micro-fine resin structure, can restrain a transfer pattern from being damaged, when transferring micro-fine structure from a resin mold by a nano-inprint method.例文帳に追加

樹脂製モールドからナノインプリント法により微細構造を転写する際に、転写パターンへの損傷を抑制し、生産性に優れた微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A measure is prepared in a multi-beam charged particle beam apparatus, the measure that can change micro-field size so that each beam will not make a micro field size that is to be drawn become an even-numbered multiple of a drawing pattern size.例文帳に追加

マルチビーム荷電粒子線装置において各ビームが描画する微小フィールドサイズを描画パターンサイズの偶数倍にしない為に、微小フィールドサイズを変更する手段を設ける。 - 特許庁

To make a test pattern necessary for inspecting micro delays to a scan-designed semiconductor integrated circuit producible and to inspect micro delays.例文帳に追加

スキャン設計された半導体集積回路に対して、過小遅延の検査に必要なテストパターンを生成できるようにすると共に、過小遅延に対する検査を行なえるようにする。 - 特許庁

To provide a micro pattern correction method capable of obtaining a stable calcination result free from generation of microcrack.例文帳に追加

微小クラックの発生しない安定した焼成結果を得ることのできる、微細パターン修正方法を提供する。 - 特許庁

One of a plurality of nozzles of the micro-deposition head is assigned to each of a plurality of sub-characteristics in the characteristic pattern.例文帳に追加

マイクロデポジションヘッドの複数のノズルの一つは特徴パターンにおける複数の副特徴の各々に割り当てられる。 - 特許庁

To provide a method for forming a solder metal film even for a nonconductive micro pattern by applying electroplating.例文帳に追加

不導通微小パターンに対しても、電気メッキ法を適用してはんだ金属膜を形成し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which efficiently manufactures a micro-pattern in a component of electronic device such as a color filter.例文帳に追加

カラーフィルタ等、電子機器の構成要素における微細パターンを効率よく製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which a micro pattern of a porous organic polymer formed on the surface of a base material can be easily manufactured.例文帳に追加

基材の表面に形成された、多孔性の有機ポリマーの微細パターンを容易に製造する方法を提供する。 - 特許庁

The nano/micro machine designing/machining method is composed of process design, machining database, machining pattern formation and machining processes.例文帳に追加

ナノ・マイクロマシン設計・加工方法は、プロセス設計、加工データベース、加工パターン生成及び加工工程から構成される。 - 特許庁

To provide a heat-seal connector, and its manufacturing method, restraining micro cracks on a fine-pitch conductive pattern.例文帳に追加

ファインピッチの導電パターンに微細なクラックが生じるのを抑制できるヒートシールコネクタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a wiring pattern which can finely and accurately form a micro wiring pattern, and to provide a method of manufacturing a wiring substrate using the same.例文帳に追加

微細な配線パターンを微細にかつ高精度に形成することを可能にする配線パターンの形成方法およびこれを用いた配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a micro nano pattern structure of effectively forming a continuous ultrafine pattern composed of an unltrafine particle, and also to provide its advantageous manufacturing method.例文帳に追加

超微粒子によって構成される連続的な超微細パターンが効果的に形成されてなるマイクロ・ナノパターン構造体と、その有利な製造方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern capable of forming a micro-pattern equal to a lithographic forming method with the same easiness as that of a print forming method.例文帳に追加

印刷的形成方法と同様な簡易さで、リソグラフィ的形成方法に匹敵する微細パターンを形成することが可能なパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

A molding die in which a micro pattern is formed on the surface of a fibrous core material is manufactured, metal is filled in the pattern by plating, and then the molding die is removed.例文帳に追加

繊維状の芯材の表面に微細パターンが形成された鋳型を製造すると共にメッキによりそのパターンに金属を充填し、その後鋳型を除去する。 - 特許庁

An etching rate difference caused by etching mask micro effect between the narrow contact hole pattern 25 and the wide trench pattern 26 is canceled out, by the difference of thickness between the coating layer 27 on the bottom of the narrow contact hole pattern 25 and the coating layer 27 on the bottom of the wide trench pattern 26.例文帳に追加

トレンチの幅の比により被覆層の達成できる階段被覆性が制限され、ホトレジストに対しては開口の幅により制限されるため、狭い開口底部の被覆層の厚さは広い開口底部の被覆層の厚さより小さくなる。 - 特許庁

Alternatively, micro-lens-array, micro-pinholes, liquid crystal pinholes, varifocal micro-lens arrays and varifocal index-gradient lens, etc., are used together with high-resolution and high-speed pattern generating means with photo-sensors and photo-emitters.例文帳に追加

代りに、マイクロレンレンズアレイ、マイクロ−ピンホール、液晶ピンホール、可変焦点のマイクロ−レンズアレイ、及び、焦点可変なインデックス−勾配レンズ等が、光学センサー、及び、フォト−エミッタを持つ高解像度、及び、高速のパターン−発生させる方法と共に使われる。 - 特許庁

To provide a stamp for pattern transferring to a workpiece with high accuracy in the micro contact print, a master plate for manufacturing the stamp, a method of manufacturing these, and a pattern forming method of high accuracy by a micro contact print method.例文帳に追加

マイクロコンタクトプリントにおいて被加工物に高い精度でパターン転写をすることができるスタンプと、このスタンプを製造するためのマスター版と、これらの製造方法、および、マイクロコンタクトプリント法による高精度のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The image processor for translating a multilevel image into a binary image of a smaller pixel size calculates the number of micro pixels to be painted out based on the pixel value of a remarked pixel and makes a decision whether the pattern of the micro pixels to be painted out in correspondence with that remarked pixel is a sub-pattern or a core pattern based on the paint-out pattern of the processed peripheral pixel.例文帳に追加

多値画像をより画素サイズの小さい２値画像へ変換する画像処理装置に、注目画素の画素値に基づいて、塗潰す微画素の数を算出させるとともに、その注目画素に対応して塗潰す微画素の塗潰しパターンがサブパターンであるか、コアパターンであるかを処理済み周辺画素の塗潰しパターンに基づいて判定させる。 - 特許庁

To provide a wiring substrate wherein a metal layer having a nano- and micro-pattern is accurately and locally formed, and its manufacturing method.例文帳に追加

ナノレベルの微細パターンの金属層を局所的に精度良く形成された配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To decrease the number of micro figures generated in large quantity owing to a difference in position of very small steps of opposite edges of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの対向するエッジの微小段差の位置の相違により大量発生する微小図形の数を削減する。 - 特許庁

MICRO-PATTERN, METHOD FOR FORMING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING MOLD FOR TRANSFERRING AND FORMING THE SAME, AND THE MOLD例文帳に追加

マイクロパターンの形成方法、マイクロパターン、マイクロパターン転写形成用モールドの作製方法、及びマイクロパターン転写形成用モールド - 特許庁

To prevent continuity and periodicity of a pattern which is formed on a substrate from deteriorating, and to manufacture an accurate and high quality micro device.例文帳に追加

基板上に形成されるパターンの連続性や周期性の悪化を防止し、高精度、高品質なマイクロデバイスを製造する。 - 特許庁

At an LSI design phase, a region indicating the circuit treating the micro signal is created as a region pattern, excluding a wiring.例文帳に追加

ＬＳＩ設計段階に、微小信号を取り扱う回路を示す領域を配線除外領域パターンとして作成しておく。 - 特許庁

To provide a system and a method of performing micro-deposition of small droplets of fluid material for forming a characteristic pattern on a substrate.例文帳に追加

基板上に特徴パターンを形成するた流体材料の小滴をマイクロデポジションするシステムおよび方法の提供。 - 特許庁

Many micro light sources Pa, Pb,... are defined on the respective three-dimensional surfaces 11, 12 constituting the original picture 10 and the information on the micro light sources is recorded as a hologram pattern on a recording surface 20.例文帳に追加

原画像１０を構成する立体の各面１１，１２上に多数の微小光源Ｐａ，Ｐｂ，…を定義し、これら微小光源の情報を記録面２０上にホログラムパターンとして記録する。 - 特許庁

The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide an exposure device and a resist pattern miniaturization material capable of forming a micropattern transcending a limit caused by wavelength, and to provide a method for forming a micro resist pattern using them.例文帳に追加

露光装置および波長による限界を超える微細パターンの形成が可能なレジストパターン縮小化材料およびそれを使用する微細レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The driving pattern is stored in a feedforward data memory 9-3, and idling of a micro motion actuator 5 is performed by outputting the driving pattern as feedforward data in synchronization with rotation of a spindle.例文帳に追加

駆動パターンはフィードフォワードデータメモリ９−３に記憶され、駆動期間の間、スピンドルの回転に同期させてフィードフォワードデータとして出力して、微動アクチュエータ５のアイドリングを行う。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive film pattern which can form a micro conductive film pattern accurately without using a deposition process in a vacuum or a photolithography method.例文帳に追加

真空下での成膜工程やフォトリソグラフィー法を用いることなく、微細な導電膜パターンを高精度に形成することができる導電膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a molding method of a molded resin body which has a micro-pattern set up closely following a transfer pattern of a die on at least one surface of its front and back faces, and the molded body.例文帳に追加

表裏面の少なくとも一方の面に、微細パターンが金型の転写用パターンに忠実に設けられた樹脂製成形体の成形方法及び成形体を提供する。 - 特許庁

In an information recording and reproducing apparatus 10, the pattern image of information light and a pattern image of reference light are formed by a micro mirror device 27 and information light and reference light having the same axis are generated.例文帳に追加

情報記録再生装置１０は、情報光のパターン像と参照光のパターン像がマイクロミラーデバイス２７により形成され、同軸の情報光と参照光とが生成される。 - 特許庁

A slot is opened around the center of a ground layer, and a feeding point is formed around the center of a body pattern through a micro strip line.例文帳に追加

グランド層のほぼ中央にスロットを穿設し、胴体パターンのほぼ中央に舞いクロスとストリップ・ラインを通じて給電点を設ける。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of detecting micro defects on a sample with high sensitivity without causing speckle noise in signals.例文帳に追加

試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

Then with the alignment pattern (106, 107) used as an etching mask, a base material member is etched to form micro steps (H1, H2).例文帳に追加

次に、アライメントパターン（１０６，１０７）をエッチングマスクとして用いて、下地部材をエッチングして微小な段差（Ｈ１，Ｈ２）を形成する。 - 特許庁

An input device is used to designate a pattern of a hierarchical relation among images of micro films denoted by an image mark in a step S31.例文帳に追加

ステップＳ３１において、入力デバイスを用いてイメージマークが表すマイクロフィルムの複数画像間の階層関係のパターンを指定する。 - 特許庁

Thus, peeling or falling of a micro pattern formed on the substrate W is prevented while output of supersonic vibration is raised.例文帳に追加

これにより、基板Ｗ上に形成された微細パターンの剥離や倒壊を防止しつつ、超音波振動の出力を上げることができる。 - 特許庁

A mask is formed for the characteristic pattern in which the density of defects caused by a function-defective nozzle of a micro-deposition head is reduced.例文帳に追加

マスクは、マイクロデポジションヘッドの機能不良ノズルのために起こる欠陥の密度を低減する特徴パターンに対して形成される。 - 特許庁

The micro-deposition of small droplets of fluid material is performed on the substrate according to the mask in order to demarcate sub-characteristics of the characteristic pattern.例文帳に追加

流体材料の小滴は特徴パターンの副特徴を画定するためにマスクに基いて基板上にマイクロデポジションされる。 - 特許庁

To provide a photo mask having a minute pattern capable of thinning a resist film and a shielding film, avoiding a micro loading phenomenon generated in a pattern forming process or the collapse of a minute pattern, and obtaining a minute and accurate pattern; a photo mask blank; and a photo mask manufacturing method.例文帳に追加

微細パターンを擁するフォトマスクにおいて、レジスト膜および遮光膜の薄膜化が可能であり、パターン形成プロセスにおいて生じるマイクロローディング現象や微細パターンの倒壊を回避して、微細かつ高精度なパターンが得られるフォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask mold and its manufacturing method, and to provide a molding method of a large-area micro-pattern by using the manufactured mask mold which can enlarge a nano-scale micro-pattern area and minimizing interference and a stitching error between large area cells by a simple way and at a low cost.例文帳に追加

簡単な方法と低コストでナノ級の微細パターンの大面積化を可能にし、大面積をなすセル間の干渉及び境界誤差を最小化できるマスクモールド及びその製作方法と、製作されたマスクモールドを用いた大面積・微細パターン成形方法を提供する。 - 特許庁

On a glass, an abrasion-resistance resist pattern 40 is formed, the micro hole 42 is formed on the surface of a glass substrate exposed from an opening of the abrasion-resistant resist pattern 40, and rough faces 43 and 44 of a wall and a bottom of the micro hole on fine rough faces 46 and 47.例文帳に追加

ガラス上に、耐磨耗性レジストパターン４０を形成し、サンドブラストによって、耐磨耗性レジストパターンの開口部から露出したガラス基板表面に微細孔４２を形成し、湿式エッチングによって、微細孔の壁部及び底部の荒い粗面４３、４４を細かい粗面４６、４７に形成すること。 - 特許庁