「micro pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photo-alignment film excellent in photo-alignment of a lyotropic liquid-crystalline dichroic compound, to provide a manufacturing method of the photo-alignment film, and to provide a manufacturing method of a micro-pattern polarizing element using the photo-alignment film.例文帳に追加

リオトロピック液晶性二色性色素化合物の配向性に優れた光配向膜とその製造方法並びにこれを用いたマイクロパターン偏光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a metal mask for printing for improving the printing tact and printing efficiency, a micro-printing pattern, and improve the printing quality, and provide further a manufacturing method thereof.例文帳に追加

印刷タクトを向上させて印刷能率を上げることができ、しかも微細印刷パターンを得ることができ、印刷品質の向上も図ることができる印刷用メタルマスクとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a paste material developing both excellent conductivity at low-temperature treatment and excellent adhesiveness to a printed body, having thixotropy suited for screen printing having a micro pattern.例文帳に追加

低温処理で良好な導電性を発現するとともに被印刷体への良好な接着性を発現し、かつ、微細パターンを有するスクリーン印刷に適するチキソトロピーを有するペースト材料を提供する。 - 特許庁

The micro mold is manufactured by forming a metal film to be the mold with electrolytic plating after forming an electrode film on a master mold made of elastomer material having a desired recessed pattern on the surface.例文帳に追加

表面に所望の凹型パターンが形成されたエラストマー材料からなる母型に、電極膜を形成した後、金型になる金属皮膜を電解めっきにより成膜して製造された微細金型。 - 特許庁

A micro metal structure is manufactured by forming or exposing a pattern-formed area of enhanced conductivity, and then by forming a conductor on the area using electrodeposition.例文帳に追加

導電率が高められたパターン形成された領域を生成し、または露出させ、次いでこの領域上に、電着を使用して導体を形成することによって、微小金属構造が製造される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board by which even a substrate having a micro copper pattern with high density of L/S=50/50 μm or less can be selectively plated by nonelectrolytic metal.例文帳に追加

Ｌ／Ｓ＝５０／５０μｍ以下の高密度な微細銅パターンを有する基板であっても、選択的に無電解金属めっき処理を行うことのできるプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent the generation of a micro pattern defect or dust and to prevent the abrupt deterioration of a chemical filter even if the concentration of chemical contaminants contained in air in a clean room is increased.例文帳に追加

クリーンルームの空気中に含まれる化学汚染物質の濃度が高くなっても、微細なパターン欠陥又は異物の発生を防止できるようにすること及び化学フィルタが急激に劣化しないようにする。 - 特許庁

This method for manufacturing the micro lens includes processes of: forming a resist pattern on a base surface; forming a thermal contraction membrane on the surface of the resist pattern; performing thermal processing at temperature equal to or higher than glass transition temperature of the resist pattern and equal to or hither than contraction starting temperature of the thermal contraction membrane and exfoliating the thermal contraction membrane.例文帳に追加

基体表面にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターン表面に、熱収縮性皮膜を形成する工程と、前記レジストパターンのガラス転移温度以上であってかつ、前記熱収縮性皮膜の収縮開始温度以上の温度で熱処理を行う工程と、前記熱収縮性皮膜を剥離する工程とを含む。 - 特許庁

This projection apparatus receives an input of the pattern data representing the pattern to be formed on the projection plane, and comprises a spatial light modulator (micro-mirror array 3) for spatially modulating incident light according to the pattern data and a projecting optical system 5 for projecting the light reflected by the spatial light modulator onto the projection plane.例文帳に追加

本発明による投影装置は、投影面に形成すべきパターンを表現するパターンデータの入力を受けとり、パターンデータに応じて入射光を空間的に変調する空間光変調器（マイクロミラーアレイ３）と、空間光変調器で反射された光を投影面上に縮小投影する投影光学系５とを備えた投影装置である。 - 特許庁

In a measurement of a micro high-aspect-ratio pattern using an elongated probe, when the probe sticks to a sidewall of the pattern, touch of the probe and the sidewall is detected and contact force between the probe and an object is temporarily increased so that the probe reaches the bottom of the sidewall.例文帳に追加

細長探針を用いた微細な高アスペクト比パターンの測定において、探針がパターンの側壁に吸着された場合、探針のパターン側壁への吸着を検知し、探針−試料間の接触力を一時的に増加させることによって、探針を側壁の底まで到達させる。 - 特許庁

The mold for resin molding is a sheet made of 4-methyl-1-pentene base polymer, at least the surface of one side of which a micro-pattern comprising of a pattern having tongues and/or grooves is provided under the condition that the tongue width and/or the groove width is 10 nm-50 μm.例文帳に追加

少なくとも片方の表面に微細パターンを有し、その微細パターンが凸部および／または凹部を有するパターンからなり、その凸部および／または凹部の幅が１０ｎｍ〜５０μmである、４−メチル−１−ペンテン系重合体を含む樹脂からなるシート、そのシートである樹脂成形用モールド。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micro dimensions and capable of avoiding partial insolubilization in over-exposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Subsequently, as shown in Fig. 1(c), anisotropic dry etching is performed using the above passage pattern 14A as an etching mask to form a micro passage 12A having a width of about 10 μm and a depth of about 20 μm on the substrate 12.例文帳に追加

次に、図１（ｃ）に示すように、上記流路パターン１４Ａをエッチングマスクとして異方性ドライエッチングにより、基板１２上に幅約１０μｍ、深さ約２０μｍのマイクロ流路１２Ａが形成される。 - 特許庁

A bump pad 29, bonding pads 31, 32 and a wiring pattern 30 for electrically connecting these pads are formed on an insulating layer 104 separating between the primary-side coil 103 and the secondary-side coil 102 of the micro transformer 100.例文帳に追加

マイクロトランス１００の１次側１０３と２次側１０２を隔てる絶縁層１０４に、バンプ用パッド２９およびボンディングパッド３１，３２と、これらを電気的に接続する配線パターン３０を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting element array chip, and the like, in which high precision is achieved with respect to thickness, protrusion of a transparent resin is suppressed and a micro-lens including a suitable pattern can be formed in a light emitting element.例文帳に追加

厚さに対し高い精度を有し、また透明樹脂のはみ出しを抑制して適切なパターンを有するマイクロレンズを発光素子に形成することができる発光素子アレイチップの製造方法等を提供する。 - 特許庁

A conductor pattern 44, which is left near the center of the conductor non-forming part 43 electrically connects the inner part 41 and an outer part 42, which are separated by the conductor non-forming part 43 and function as a micro inductance.例文帳に追加

導体非形成部４３の中央付近に残された導体パターン４４は、導体非形成部４３により分離される内側部４１と外側部４２とを電気的に接続し、微小インダクタンスとして機能する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a master plate for making a stamp for micro contact printing (μCP), which is capable of making a stamp for μCP, allowing uniform pattern printing in a wide area, using a simple method.例文帳に追加

大面積で均一なパターン印刷を行うことが可能なμＣＰ用スタンプを、簡易な方法で製造することが可能なμＣＰ用スタンプ作製用マスター版の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To obtain a heat control molding die capable of transferring a highly precise mirror-finished surface or micro-fine pattern, by bringing mainly an insulating layer into a high strength, and to shorten a molding cycle.例文帳に追加

主に、断熱層を高強度とすることによって、高精度な鏡面や微細パターンを転写できる熱制御成形用金型を得ることができるようにし、以て、成形サイクル短縮を実現することができるようにする。 - 特許庁

To provide a fixture used for accurately measuring a flexible sheet material on which fine patterns are formed, a manufacturing method of the same, a measurement method for sheet material, and a pattern formation method by micro-contact printing.例文帳に追加

微細なパターンが形成されたフレキシブルなシート基材を高い精度で計測するための固定治具とその製造方法およびシート基材の計測方法とマイクロコンタクトプリントによるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Thus, a process for separately applying ultraviolet resin in order to use the resin as resist is omitted, thereby simplifying a pattern formation process and forming micro/nano complex patterns through a single imprint process.例文帳に追加

これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 - 特許庁

To provide an improved SiGe device including an SiGe-embedded dummy pattern which surrounds the SiGe device and is specially designed so as to reduce micro loading effect during epitaxial growth of SiGe.例文帳に追加

ＳｉＧｅ装置を取り囲んで、ＳｉＧｅのエピタキシャル成長時にマイクロローディング効果を軽減できるように特別に設計されたＳｉＧｅ埋め込みダミーパターンを備えた改良されたＳｉＧｅ装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, the resin is kept in a low melt viscosity when filled in the cavity CV, making it relatively easy to mold resin articles MP with a micro-pattern etc., especially a high precision lens LP.例文帳に追加

よって、キャビティＣＶに充填される際の樹脂溶融粘度を低い状態で維持することができ、微細パターン等を有する樹脂成形品ＭＰ、特に高精度のレンズＬＰの成形が比較的容易になる。 - 特許庁

To provide a polymeric thin film in which a microphase separation phenomenon of a polymeric block copolymer is used, thereby a pillar-shaped micro domain is oriented in the penetration direction of the film, and which has a regulated arrangement pattern.例文帳に追加

高分子ブロック共重合体のミクロ相分離現象を用いて、柱状ミクロドメインが、膜の貫通方向に配向するとともに規則配列パターンを有する高分子薄膜を提供することを課題にする。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of an electrodeposition grinding wheel, which achieves an automated unmanned masking process and high-efficient formation of a masking with a micro-complicated pattern, and which is sufficiently suitable for mass production.例文帳に追加

電着砥石の製造工程において、マスキング工程を自動化、無人化できるだけでなく、微細で複雑なパターンのマスキングでも高能率に形成でき、しかも量産に十分に対応可能なものを提供する。 - 特許庁

Thus, similarity can be retrieved by relatively few patterns without being influenced by micro-vibration of the pattern, and a travel duration can be predicted even when there is no past actual data like when starting operation.例文帳に追加

このため、パターンの小刻みな振動に影響されることなく、また、比較的少ないパターンにより類似検索が可能であり、さらに、運用開始時のように過去の実績データがない場合でも予測が可能になる。 - 特許庁

It becomes easy to form the etching pattern representing information in a desired shape and size under control by imposing a negative bias to the micro chip 50 and using heat up and melt by the electron beam 30 generated from the micro chip 50 with imposed by the prescribed voltage without applying strong mechanical force like in a conventional way.例文帳に追加

マイクロチップ５０に負のバイアスを印加することにより、従来のように機械的な強い力を加えずに、所定電圧を印加したマイクロチップ５０から発生された電子ビーム３０による加熱及び溶解を実行する方式を用いて、情報を表すエッチングパターンを所望の形状と大きさに制御して形成することが容易となる。 - 特許庁

To provide a polishing pad for polishing semiconductor wafer capable of meeting conflict requirement of uniformity of polishing degree all over the wafer and planarization characteristic of concavity and convexity of micro region in the polishing process for planarizing concavity and convexity of micro pattern formed on the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、ウエハ全面内において研磨量の均一性と、微小領域での凹凸平坦化特性という相反する要求に応え、なおかつスクラッチの発生の少ない半導体ウエハ研磨用パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an array substrate for a liquid crystal displaying apparatus that can form a low molecular organic semiconductor material with very weak moisture resistance, without using a shadow mask, by a micro pattern that is adjustable up to several μm, and then utilizes the low molecular organic semiconductor material without damaging a micro patterned low molecular organic semiconductor layer.例文帳に追加

本発明は、水分に非常に弱い特性を有する低分子有機半導体物質をシャドーマスクを利用しないで数μｍまで調節可能な微細パターンで形成することができ、微細パターンされた低分子有機半導体層の損傷なしに低分子有機半導体物質を利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The micro strip line 21 consists of a conductive pattern 23 for mounting and connecting the tip part of the central contact of the conductor 11, a dielectric substrate 25 for forming the pattern 23 on one surface and a grand plane formed on a surface opposite to the substrate 25 to be connected to a cylindrical outer conductor 13.例文帳に追加

マイクロストリップライン２１は、中心導体１１の中心コンタクトの先端部を搭載し接続する導電パターン２３、導電パターン２３を一面に形成する誘電体基板２５、および誘電体基板２５の反対面に形成され筒状外部導体１３に接続されるグランドプレーンから成る。 - 特許庁

To provide an electroless plating catalyst which can be prepared through a simple process without using a reducing agent solution, further can simplify a process where a metal plating pattern is formed from an electroless metal plating film compared with the conventional one, and can correctly form a metal plating pattern on a micro to nano scale.例文帳に追加

還元剤溶液を用いることなく簡便な工程で作成することができる上、無電解金属メッキ膜から金属メッキパターンを形成する工程を従来と比較して簡素化することができ、しかもミクロ〜ナノスケールで金属メッキパターンを正確に形成することができる無電解メッキ触媒を提供する。 - 特許庁

This security medium 1 uses the heat storage agent or the cool storage agent, and a pattern 2 of printing ink containing a material prepared by micro-capsuling the heat storage agent or the cool storage agent is printed, together with another pattern 3, on a part of either the front or back side of the base 1a of the security medium.例文帳に追加

本発明のセキュリティ媒体１は、蓄熱剤または蓄冷剤を使用したセキュリティ媒体であって、当該セキュリティ媒体基材１ａの表裏いずれかの面の一部に、蓄熱剤または蓄冷剤をマイクロカプセル化した材料を含む印刷インキによる絵柄２が、他の絵柄３とともに印刷されている、ことを特徴とする。 - 特許庁

A micro computer (ASIC) comprises a scan chain for the LSSD scanning test, and a clock generating circuit 10 which generates a shift clock which has each latch circuit of the scan chain latch a test pattern and a clock for performing the test which imports the output of an circuit to be tested corresponding to the test pattern, and supplies them to the scan chain.例文帳に追加

マイクロコンピュータ（ＡＳＩＣ）に、ＬＳＳＤスキャンテストのためのスキャンチェーンと、テストパターンをスキャンチェーンの各ラッチ回路にラッチさせるためのシフト用クロックおよびテストパターンに対する被テスト回路の出力を取り込むためのテスト実行用クロックを生成し、スキャンチェーンに供給するクロック生成回路１０とを備える。 - 特許庁

A fine channel such as micro and nano channels is formed by growing vertically a nano wire using plasma CVD or thermal CVD and metal nano fine particles arranged in a pattern on a substrate as growth nuclei after vapor-depositing the metal nano fine particles in a pattern for the growth nuclei of the nano wire on the substrate.例文帳に追加

基板上にナノワイヤの成長核となる金属ナノ微粒子をパターン蒸着した後、プラズマＣＶＤ若しくは熱ＣＶＤを用いて、基板上にパターン配置された金属ナノ微粒子を成長核として、ナノワイヤを垂直成長させて、マイクロ流路やナノ流路の微細流路を製造する。 - 特許庁

Lithographic equipment is provided with an illumination system for supplying a radiation beam, a pattern applying device integrated with the array of respectively controllable elements for applying a pattern to a beam cross-section, a substrate table for supporting a substrate and a projection system integrated with a micro-lens array for projecting a beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射ビームを供給する照明系と、ビーム断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子の配列の組み込まれたパターン付与装置と、基板を支持する基板テーブルと、基板の目標部分にビームを投影する微小レンズ配列の組み込まれた投影系とを備える。 - 特許庁

To provide a method capable of controlling the size of a pattern by finding out a method for preparing a polymer film having a micro-domain structure oriented vertically to the surface of a substrate and changing a mixture composition by the latter method.例文帳に追加

基板表面に対して垂直に配向したミクロドメイン構造を有する高分子膜を作製する方法を見出し、この方法により混合組成を変えることによってパターンのサイズが制御し得る方法を提供する。 - 特許庁

In ultraviolet light reflected on the micro-mirror device, ultraviolet light contributed to pattern exposure straightly moves down, passes through the 1/4 wavelength plate again to become a P wave, is transmitted through the polarization beam splitter approximately in 100%, and moves down.例文帳に追加

マイクロミラーデバイスで反射する紫外光の内、パターン露光に寄与する紫外光は真っ直ぐに下方に進み、再度、１／４波長板を通過することでＰ波となり、偏光ビームスプリッタを１００％近く透過し下方に進む。 - 特許庁

To provide a method and a device for determining a movement of a small drop put on a surface of a nano structure or a micro structure by at least one characteristic of a nano structure feature pattern, or at least one characteristic of the small drop.例文帳に追加

ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって決定される方法および装置を提供する。 - 特許庁

When the scanner receives the read instruction, reading of a micro image and reading of the image mark depending on a designated pattern are executed in a step S33 and the read image data and the read image mark information are registered to a RAM of a host computer.例文帳に追加

読み取り指示があるとステップＳ３３において指定パターンに応じたマイクロ画像の読み取りとイメージマークの読み取りを実行し、ホストコンピュータのＲＡＭに読み取り及び画像データ、読み取ったイメージマーク情報を登録する。 - 特許庁

In a certifying system for judging whether a user is a regular user or not, an authentication slip in which a hybridization pattern is formed by reacting a DNA array and the DNA of the user and which has a DNA micro array, is used.例文帳に追加

正規のユーザであるかどうかを判定するための認証システムにおいて、ＤＮＡアレイとユーザのＤＮＡとを反応させることによりハイブリダイゼーションパターンが形成されたＤＮＡマイクロアレイを有する認証票が用いられる。 - 特許庁

To avoid transfer failure by preventing members constituting a vacuum molding chamber from being deformed, in a transfer apparatus that transfers a micro transfer pattern formed in a die to an article to be molded in the vacuum molding chamber.例文帳に追加

型に形成されている微細な転写パターンを真空成型室内で被成型品に転写する転写装置において、真空成型室を構成している部材の変形を防止することにより転写不良の発生を回避する。 - 特許庁

To provide a microscopic part having various surface characteristics and functional groups, high in precision in a micro pattern and easy to manufacture by studying a new manufacturing method of the microscopic part using macromolecular particulates.例文帳に追加

本発明は、高分子微粒子を用いた新たなマクロ部品の作製方法を検討し、それにより、種々の表面特性や官能基を有すると共に、ミクロパターンの精度が高く、容易に作製できるマイクロ部品の提供を目的とする。 - 特許庁

A micro-computer 212 of the control section inhibits input from an external interface 211, and a frame memory 213 temporarily stores the check pattern image data and the guide image data, and supplies them to an image control circuit 214.例文帳に追加

制御部２１のマイクロコンピュータ２１２は外部入力インターフェース２１１からの入力を禁止し、フレームメモリ２１３がチェックパターン画像データおよびガイド画像データを一時的に記憶し、画像制御回路２１４に供給する。 - 特許庁

The mold for imprint-processing 12 is composed by covering the mold with perfluoropolyether 11 having a functional group chemically reacted with the material 10 of the mold, and is used for the pattern formation of a semiconductor device or micro-optical element.例文帳に追加

金型の材料１０と化学的に反応する官能基を有するパーフルオロポリエーテル１１で被覆してなるものであり、半導体素子又は微小光学素子のパターン形成に用いることを特徴とするインプリント加工用モールド１２。 - 特許庁

In each bundle, the pattern, size, orientation, and other parameters of the micro-slots are designed to achieve mutual destructive interference of flow disturbances arising due to the suction, and to minimize the excitation of flow instabilities in the boundary layer.例文帳に追加

それぞれの束では、パターン、サイズ、向き、及びマイクロスロットの他のパラメーターは、吸引により発生する流れの外乱の相互の弱めある干渉を実現し、境界層の流れ不安定性の励起を最小化するようにデザインされる。 - 特許庁

When a developing process is conducted by exposing the overcoat material 20 via a photomask 21 (C), the overcoat material 20 is patterned into the pattern shape of photomask 21 and is left only at he center of the surface of the micro-lens 17 (D).例文帳に追加

フォトマスク２１を介してオーバーコート材料２０を露光し（Ｃ）、現像処理を行なうと、オーバーコート材料２０は、フォトマスク２１のパターン形状にパターニングされ、マイクロレンズ１７の表面中央部のみにオーバーコート材料２０が残る（Ｄ）。 - 特許庁