| 意味 | 例文 |
micro patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 363件
To provide a rugged substrate and its manufacturing method suppressing voids and pinholes easily formed when forming a rugged pattern on a polyimide resin surface in the substrate with micro-ruggedness suitable for a solar cell or a light emitting device.例文帳に追加
太陽電池や発光装置用として好適な微細凹凸付き基板において、ポリイミド樹脂表面に凹凸パターンを形成する際に発生しやすいボイドやピンホールを抑制した凹凸付き基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To form a circuit pattern of a micro semiconductor element by a method wherein the thickness of a photoresist is made thin, and a high etching selectivity ratio is made possible between the photoresist and the lower thin film to be etched.例文帳に追加
フォトレジストの厚さを薄くし、フォトレジストとエッチングされる下部薄膜との間で高いエッチング選択比を実現することで微細な半導体素子の回路パターンを形成することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
An organic silicon resin coating film 2 consisting of polysilane is fromed on a glass substrate 3 and the coating film 2 is irradiated with an ultraviolet-ray through a mask forming a pattern having openings corresponding to those at lens areas of micro lenses to produce.例文帳に追加
ポリシランから成る有機ケイ素樹脂被膜2をガラス基板3上に形成し、その被膜2に対し、製造しようとするマイクロレンズのレンズ領域に開口をもつパターンを形成したマスクを通して紫外光を照射する。 - 特許庁
To provide a method and a device for deciding movement of small drops arranged on a surface of a nano structure or a micro structure by at least one characteristic of a nano structure feature pattern, or at least one characteristic of small drops.例文帳に追加
ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも1つの特性または小滴の少なくとも1つの特性によって決定される方法および装置を提供する。 - 特許庁
Still further, after at least one layer of the wiring layer 110 among one and more layers of the wiring layers 113, 115 is processed to the wiring pattern, annealing of the substrate 100 is performed by irradiation of micro waves on the substrate 100.例文帳に追加
さらに、基板100上に、1層以上の配線層113,115のうちの少なくとも1層の配線層110が配線パターンに加工された後に、基板100上にマイクロ波を照射して基板100のアニールを行う。 - 特許庁
There is provided a process method for easily manufacturing various forms of molds which have disadvantages in applying a nano imprint process by using nano imprint and a dry etching process by patterning a molding resin of a substrate having a metal pattern patterned thereon, and forming a nano-class pattern and a complicated three-dimensional micro pattern using a nano imprint process with the manufactured molds without executing a complicated process several times.例文帳に追加
金属パターンがパターニングされている基板のモールド用レジンをナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった様々な形態のモールドを容易に製作し、複雑な工程を数回行うことなく、製作されたモールドでナノインプリント工程を用いてナノ級パターンや複雑な3次元形状の微細パターンの成形を可能にする工程方法を提供する。 - 特許庁
According to a QR code 10 related to this embodiment, since a micro QR code 16 is recorded instead of a bright module or dark module of the same color arranged in a square n×n module 11' being an aggregate of unit modules 11 or unit cells constituting a functional pattern, the micro QR code 16 can be recorded without reducing data patterns DP and regions thereof.例文帳に追加
本実施形態に係るQRコード10によると、機能パターンを構成する単位モジュール11または単位セルの集合体で正方形状のn×nモジュール11’に配置される同一色の明モジュールまたは暗モジュールに代えて、マイクロQRコード16を記録していることから、データパターンDPやその領域を減らすことなく、マイクロQRコード16を記録することができる。 - 特許庁
The method for manufacturing the plate having micro openings each having the predetermined size and arranged at predetermined intervals includes a step of forming a UV curable resin layer on a substrate, a step of performing UV exposure to the UV curable resin layer to form a pattern corresponding to the micro openings, a step of performing development and a step of peeling off the UV curable resin layer from the substrate to obtain the plate.例文帳に追加
本発明による、所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートの製造方法は、基板上に紫外線硬化樹脂層を形成するステップと、紫外線硬化樹脂層に、微細開口部に対応したパターンの、紫外線露光を行うステップと、現像を行うステップと、紫外線硬化樹脂層を基板から剥離させてプレートを得るステップと、を含む。 - 特許庁
They are briefly introduced below and categorized into those related to macro phenomena and those related to micro structural changes.They are briefly introduced below and categorized into those related to macro phenomena and those related to micro structural changes.The general view is that none of these causes alone brought about “the Great Moderation,” but instead multiple causes together produced a trend of a new pattern of economic cycles.(a)例文帳に追加
以下においては、これらのうち主なものを、マクロ的な現象に起因するとするもの、ミクロ的な構造変化に起因するとするもの、に大きく分けた上で簡単に紹介するが、これらの要因のうちいずれかが単独で「グレート・モデレーション」を発生させたのではなく、複数の要因が重なって新たな景気循環パターンの傾向をもたらしたとする見方が一般的である。 - 経済産業省
To provide a manufacturing method of a semiconductor device of a higher integration degree which is better in productivity and by which a pattern such as a hole of a micro-diameter is formed without causing deterioration of productivity due to an increase of the number of processes.例文帳に追加
工程数の増大による生産性の低下を招くことなく、微小径の孔等のパターンを形成することができ、集積度の高い半導体装置を生産性良く製造することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a recording apparatus which can check not only an absorbing capacity of ink by a recording medium, but also the presence or absence of band irregularities and the presence or absence of micro beading when bidirectional recording is carried out, and to provide a recording method and a test pattern recording method.例文帳に追加
記録媒体によるインクの吸収能力だけでなく、双方向記録が行われる際のバンドムラの有無及びマイクロビーディングの有無を確認することができる記録装置、記録方法及びテストパターン記録方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition which solves the problem of the occurrence of development defects and scum in development in micro-photofabrication using far ultraviolet light and which is capable of giving a resist pattern excellent in adhesion to a substrate.例文帳に追加
遠紫外光を使用するミクロフォトファブリケ−ションにおいて、現像の際の現像欠陥発生及びスカムの発生の問題を解消し、更には基板密着性に優れたレジストパターンを与え得るポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
In comparison with the existing generated and transmitted power system, both of output power of micro gas turbine having excellent energy generating efficiency in itself and high heat exhaust gas is utilized to the heating-operation under a desired heat-pattern for continuous heating furnace as it is and in this position.例文帳に追加
既存の発送電方式に比して、それ自体が優れたエネルギー発生効率のあるマイクロガスタービンの出力電力とその高熱排ガスとの双方を、そのままで且つその場で、連続加熱炉の所望のヒートパタン下での加熱運転に利用する。 - 特許庁
To manufacture a semiconductor device excellent in element characteristics with a better yield by removing a resist by wet cleaning and by sufficiently removing particles and metal impurities without damaging a micro pattern after dry etching in a lithographic process.例文帳に追加
リソグラフィ工程のドライエッチング後において、ウェット洗浄によりレジストを除去するとともに、微細パターンにダメージを与えることなくパーティクルや金属不純物を十分に除去し、素子特性に優れた半導体装置を歩留まりよく製造する。 - 特許庁
This micro-opto-electromechanical apparatus comprises: a silicon wafer comprising a plurality of layers; the reflector formed in one of the plurality of layers; and a pattern on the reflector to focus or collimate an incident beam of radiation into a reflected beam.例文帳に追加
本出願は、複数の層を備えるシリコン・ウェハと、複数の層の1つの中に形成される反射器と、放射線の入射ビームを反射ビームに合焦またはコリメートするための反射器上のパターンとを備えるマイクロオプトエレクトロメカニカル装置を開示する。 - 特許庁
The invention relates to the method for manufacturing of the mechanical part including a step providing a substrate 53 made of micro-machinable material, and a step etching, with help of photo-lithography, a pattern that includes the mechanical part over the entire substrate 53.例文帳に追加
マイクロ機械加工可能材料から構成される基板53を用意するステップと、フォトリソグラフィを用いて、前記基板53の全体にわたって機械パーツを含むパターンをエッチングするステップとを含む、機械パーツを製造する方法に関する。 - 特許庁
The drawing apparatus 1 for drawing a pattern includes: a light splitting section 15 for splitting laser light by a reflection surface 150; spatial optical modulation devices 16, 17 equipped with a plurality of micro-mirrors; and a parallel flat plate 18 for inverting the phase by 1/4.例文帳に追加
パターンを描画する描画装置1に、反射面150によってレーザ光を分割する光分割部15、複数の微小ミラーを備えた空間光変調デバイス16,17、1/4だけ位相を反転させる平行平面板18を設ける。 - 特許庁
To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.例文帳に追加
微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にKrFレーザー、ArFレーザー、F_2レーザー、極短紫外線、電子線、X線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
電子線、X線又はEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、X線又はEUV光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A control means 61 for changing the pattern of the voltage applied to the unit electrodes 20b disposed in the matrix by controlling the switch means 60 changes the pattern of the voltage applied to micro electrodes so that an electrostatic force is generated between a sheet S and the electrode array 20 in the sheet conveying direction and in the direction perpendicular to the sheet conveying direction.例文帳に追加
そして、スイッチ手段60を制御し、マトリックス状に配置された単位電極20bに印加する電圧のパターンを変化させるコントロール手段61は、シートSと電極アレイ20との間にシート搬送方向及びシート搬送方向と直交する方向の静電気力が発生するよう微小電極に印加する電圧のパターンを変化させる。 - 特許庁
This method for producing the micro-patterning culture substrate 2 includes coating the cell culture substrate 2 with the water-soluble photocurable polymer 3, and then irradiating the water-soluble photo-curable polymer 3 with light via a master pattern 4 and patterningthe water-soluble photo-curable polymer 3 on the cell culture substrate 2.例文帳に追加
細胞培養基材2上に水溶性光硬化性ポリマー3を塗布し、水溶性光硬化性ポリマー3へマスクパターン4を介して光照射して細胞培養基材2上に水溶性光硬化性ポリマー3をパターニングすることで作成される。 - 特許庁
To provide a double surface treatment method of a substrate increasing adhesive strength between metal ink and the substrate and forming a micro-wiring pattern of high density by reducing spread of ink, and to provide a surface-treated substrate by the method.例文帳に追加
金属インクと基板との間の接着力を向上させることができ、かつインクの広がりを低減して高密度の微細配線パターンを形成することができる、基板の二重表面処理方法及びこの方法により表面処理された基板を提供する。 - 特許庁
A pattern formed on the substrate 1 and indicating a specific area on the substrate 1 is recognized, the plurality of films only in the specific area is irradiated with X-rays having a micro spot diameter and the characteristics of each film are measured by X-ray reflectivity measurement.例文帳に追加
この基板1上に形成され上記基板1上の特定エリアを示すパターンを認識し、この特定エリアのみの上記複数の膜に、X線をマイクロ化されたスポット径で照射して、X線反射率測定によって、上記各膜の特性を測定する。 - 特許庁
During this movement, a string-pull part PS of the paste P appears from the applying end position E1 but cuts until the nozzle 13 reaches a position above the micro-shift position E2, and it turns down and is absorbed together with the applied and written paste P pattern.例文帳に追加
この移動とともに、塗布終了位置E1からペーストPの糸引き部PSが生ずるが、ノズル13が微小移動位置E2の上方位置に達するまでに糸引き部PSが切れ、これが倒れて塗布描画されたペーストPのパターンと一体吸収される。 - 特許庁
To realize an optical disk device having a high efficiency and a high density, capable of performing highly precise tracking control without providing a special servo pattern on a disk, in an optical disk using high density micro bits of the order of submicron to sub-submicron shorter than a wavelength of light.例文帳に追加
光の波長以下のサブミクロンからサブサブミクロンのオーダの高密度微小ピットを用いる光ディスクにおいて、ディスク上に特別なサーボパターンを設けずに高精度のトラッキング制御を可能にし、高効率、高密度の光ディスク装置を実現することにある。 - 特許庁
Micro electrode patterns 21 in a fine comb teeth shape with left-right symmetry centering on belt shaped parts are formed on a pixel electrode 5 at even intervals and furthermore, belt shaped dielectric layers 22 are pattern formed in display pixels at even intervals so as to cover them.例文帳に追加
画素電極5に帯状部位を中心とした左右対称の微細な櫛歯状にパターン形成された微細電極パターン21が等間隔に形成され、更にこれを覆うように帯状の誘電体層22が表示画素内に等間隔でパターン形成される。 - 特許庁
The pattern correcting device is equipped with a substrate table 10, a laser beam irradiating device 1, an optical system 21 that adjusts the laser beam to a micro beam diameter, and a table control means for controlling the movement of the table 10 so that the beam scans the entirety of the area to be corrected.例文帳に追加
基板テーブル10と、レーザ光出射装置1と、レーザ光を微小ビーム径とする光学系21と、そのビームが修正領域の全域を走査するように上記テーブル10の動きを制御するテーブル制御手段を備えるパターン修正装置とする。 - 特許庁
To make possible the automatic complementary division of an original pattern shape difficult to the formed on a charged particle beam transmission mask on a computer and to avoid the occurrence of a micro figure, an acute figure, or the like, by eliminating useless division at the time of complementary division.例文帳に追加
荷電粒子線透過マスク上で形成困難な原パターン形状を、コンピュータ上で自動的に相補分割することを可能にするとともに、その相補分割の際に無駄な分割を無くして微小図形や鋭角図形等の発生を回避する。 - 特許庁
To provide a micro-antenna which not only operates in multiple resonance frequency bands of an AM/FM band, a terrestrial DMB band, a PCS band, and a Wibro band by a single pattern in which a radiation part is optimized to a Hilbert-type meander line, but also greatly reduces the external design and size of a radome by a pattern structure of the optimized antenna.例文帳に追加
輻射部がヒルベルト型のメアンダーラインに最適化した単一パターンによって、AM/FM帯域、地上波DMB帯域、PCS帯域及びWibro帯域の多重共振周波数帯域で動作するだけでなく、最適化したアンテナのパターン構造によってレードームの外形的なデザインと大きさが大幅に減少した超小型アンテナを提供する。 - 特許庁
This pattern type cannel switching micro valve switches channels by reciprocating a piston including channel patterns for connecting or insulating according to pipe ends in plural stages at narrow intervals in a narrow and small cylinder structuring a part of a piping circuit substrate and in which a plurality of the pipe ends open.例文帳に追加
配管回路基板の一部を構成して複数配管端の開口する狭小シリンダー部内を、当該配管端に対応して接続又は遮断する流路パターンを複数段に狭い間隔で内有するピストンが往復して一挙に切換える、パターン式流路切換え微小弁を提供する。 - 特許庁
Alternatively, the light collected by the collectors 38, 52 is filtered by a spatial filter having a circular gap of an angle related to angle difference of expected pattern scattering, and the signals obtained from a narrow angle and a wide angle collection channels may be compared to distinguish between micro-scratches and particles.例文帳に追加
あるいは、集束器38,52によって集束された光線は、予測されるパターン散乱の角度差に対応する角度の環状ギャップを有する空間フィルタによって濾波され、狭角および広角集束経路から得た信号は比較され、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。 - 特許庁
A method to transcribe a conductive substance to the charge transferring layer 13 through the use of an intaglio printing method, a simple method to irradiate a conductive substance containing an ultraviolet setting agent with speckle- pattern ultraviolet rays, or the like is used for arranging the micro plates 18 on a random basis.例文帳に追加
マイクロプレート18をランダムに配設するには、凹版印刷方法を用いて導電物質を電荷輸送層13に転写する方法や、スペックルパターンの紫外線を紫外線硬化剤が含有された導電物質に照射した後、非硬化部を剥離するなどの簡易な方法を用いる。 - 特許庁
In the method for forming a fine pattern, a light shielding film of photomask is brought into contact with a photoresist on a substrate and then pressed against the photoresist thus bringing micro openings, formed by the light shielding film, close to the photoresist before the photoresist is exposed with evanescent light.例文帳に追加
微細パターン作製方法において、フォトマスクの遮光膜を、基板上のフォトレジストに接触させた後、さらに押し付け、遮光膜によって形成された微小開口と前記フォトレジストとの距離を近付けてから、エバネッセント光によってフォトレジストを露光するように構成する。 - 特許庁
A self-organizing monomolecular film (SAM) 12 is patterned on a glass substrate 14 by a micro-contact printing method, and then, silver nanoparticles 24 are deposited locally on a pattern substrate 16 by a silver mirror reaction, wherein a dispersant is added to a solution containing silver complex ions, to thereby produce a SERS substrate 18.例文帳に追加
マイクロコンタクトプリント法により自己組織化単分子膜(SAM)(12)をガラス基板14上にパターニングした後、銀の錯イオンを含む溶液に分散剤を加えた銀鏡反応によりパターン基板16上に銀ナノ粒子24を局所的に析出させて、SERS基板18を作成する。 - 特許庁
To stably produce a suede-like artificial leather having various physical properties suitable for applications and having the surface to which an optional pattern exhibiting solid effects is imparted without deteriorating a posh appearance, a soft touch and a feeling specific to the suede-like artificial leather composed of a micro fiber at a relatively low cost.例文帳に追加
極細繊維からなるスエード調人工皮革特有の高級感のある外観、ソフトなタッチ、風合いを損なうことなく、用途に応じた諸物性を有し、任意の立体感のある模様が表面に付与されたスエード調人工皮革を比較的低コストで安定的に製造する。 - 特許庁
To provide a lens centering device and a lens centering method which facilitates the sampling by performing pattern matching of reflection position and transmission position of a spot image by means of a micro-lens, permits the stable sampling even when shape distortions of the spot image and disturbance image are frequently caused and facilitates lens centering adjustment.例文帳に追加
微小レンズによるスポット像の反射位置や透過位置のパターンマッチングによるサンプリングが容易で、そのスポット像や外乱の形状変化が多い場合でも安定したサンプリングを可能で、レンズの芯出調整が容易なレンズ芯出し装置及びレンズ芯出し方法が求められている。 - 特許庁
To provide a mother plate together with its manufacturing method in which such conventional problems related to a multi-pattern method for a circuit board are settled, as a brazing material used for jointing a ceramics substrate to a metal plate remains even after etching, and as micro cracks occur around a split groove when the circuit board is divided.例文帳に追加
従来の回路基板の多数個取り法の問題、すなわちセラミックス基板と金属板を接合するのに用いたろう材がエッチング後にも残留してしまうこと、回路基板分割時の分割溝周辺の微細な割れを解消した母版とその製造方法が提供される。 - 特許庁
The resin composition for an artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, an inner releasing agent, a hardening agent, a patterning material c which expresses an artificial marble pattern, or the like into a thermosetting resin, wherein it is characterized in that micro balloons a and thermal-expansible microcapsules b are added and compounded in combination into the resin composition.例文帳に追加
熱硬化性樹脂に充填剤、内部離型剤、硬化剤、人造大理石柄を表現する柄材c等の添加物を配合して得られる人造大理石用樹脂組成物において、マイクロバルーンaと熱膨張性マイクロカプセルbとを併用して添加配合したことを特徴とする。 - 特許庁
A display control processing part 32 makes a display pattern based on the management data outputted from a game control micro-computer 21, flashing the matrix LEDs 11 in plural display devices 10 disposed in juxtaposition, controlling the flash so that it looks as if the flashing light were flowing like a stream above plural pachinko machines 20.例文帳に追加
また、表示制御処理部32はゲーム用マイコン21から出力される管理情報に基づいて流れ表示パターンを作成し、並設した複数の表示器10におけるマトリクスLED11を明滅せしめて複数のパチンコ機20の上方にて明滅状態が流れるように制御する。 - 特許庁
The mask 109 for exposure having a micro opening pattern is elastically deformed and contacted to or exfoliated from an object 110A to be exposed with the pressurizing and depressurizing operation by a pressurizing and depressurizing means 51, and a controlling means 200 controls the pressurizing and depressurizing operation by the pressuring and depressuring means 51.例文帳に追加
加減圧手段51により、微小開口パターンを有する露光用マスク109を加減圧により弾性変形させて被露光物110Aに接触、又は剥離させると共に、制御手段200により加減圧手段51による加減圧動作を制御する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a wiring board which is superior in forming of micro-wirings, can form a high density circuit pattern more than the conventional one without needing plated leads for lines and through- holes, and keeps the variation accuracy of the circuit height at a high accuracy to avoid deteriorating the connection reliability.例文帳に追加
微細配線の形成に優れ、ラインやスルーホールにめっきリードを必要とせず、これまで以上に高密度回路パターンを形成でき回路の高さのばらつき精度を高精度に押さえて、接続信頼性が損なわれない、配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁
An image of a wedge mark group for measuring the best focusing position and images of box and in-box marks for measuring a coma aberration of the projection optical system are exposed at a plurality of focusing positions Z1 to Z5 at positions near a wafer by a micro-step system, and a resist pattern is formed by the following development.例文帳に追加
ベストフォーカス位置計測用の楔型マーク群の像、及び投影光学系のコマ収差計測用のボックス・インボックスマークの像を、複数のフォーカス位置Z1〜Z5でウエハ上の近接した位置にマイクロ・ステップ方式で露光し、その後の現像によってレジストパターンを形成する。 - 特許庁
In the solid-state image pickup element sequentially provided with an undercoat layer 13 and multiple micro lenses, the microlens has a resin layer 12 which is selectively made thin on a microlens pattern 11 selectively thick on the gap between the microlens patterns and has an infrared ray absorbing function applied, and disposed thereon.例文帳に追加
アンダーコート層13、複数のマイクロレンズを順次に備えた固体撮像素子において、マイクロレンズパターン11上では選択的に薄く、マイクロレンズパターン間ギャップ上では選択的に厚く赤外線吸収機能を有する樹脂層12を被覆配設したマイクロレンズであること。 - 特許庁
A DMD having a group of micro mirrors to modulate reflected light is equipped on the drawing heads 40, and pattern drawing is conducted by allowing the substrate 9 to be irradiated with space modulated light from the drawing heads 40 while transferring the substrate 9 relative to the drawing heads 40.例文帳に追加
描画ヘッド40には、反射光を変調する微小ミラー群を有するDMDが設けられ、基板9が描画ヘッド40に対して相対的に移動しつつ、描画ヘッド40から空間変調された光が基板9上へ照射されることによりパターンの描画が行われる。 - 特許庁
To provide a method for forming a copper particulate sintered body type micro profile conductive body showing excellent conductivity by applying a reduction treatment to the copper particulates or oxidized copper particulates provided with a surface oxidized film layer in a pattern under comparatively low temperature after a detailed pattern is drawn by using dispersion liquid of copper particulates provided with surface oxidized film layers and then sintering the formed copper particulates.例文帳に追加
表面酸化膜層を有する銅微粒子の分散液を利用して、微細なパターン描画後、比較的に低い温度下において、パターン中の表面酸化膜層を有する銅微粒子または酸化銅微粒子に還元処理を施し、生成する銅微粒子を焼成して、優れた導電性を示す銅微粒子焼結体型の微細形状導電体を形成する方法の提供。 - 特許庁
In the illumination method generating a proximity field light by projecting an irradiation light 210 to a mask 201 having a mask pattern of micro openings not larger than the wavelength size on a mask base material, i.e. a transparent substrate, an illumination means generating the proximity field light is arranged to illuminate the boundary surface of the transparent substrate and the mask pattern with the irradiation light obliquely from the transparent substrate side.例文帳に追加
マスク母材である透明基板上に波長サイズ以下の微小開口によるマスクパターンを有するマスク201に、照射光210を入射させ近接場光を発生させる照明方法であって、前記照射光により、前記透明基板と前記マスクパターンとの境界面を、該透明基板側から斜めに照明するようにして、近接場光を発生させる照明手段を構成する。 - 特許庁
The salient pattern of the letterpress is provided with multiple micro salient patterns 7 on the outside of the edge of the salient pattern 6.例文帳に追加
インク剥離性を有するブランケットにインク液膜を形成する工程と、ブランケット上のインク液膜に凸版を接触させて凸部形状にインク液膜を除去する工程と、残ったインク液膜に基材を接触させてインク液膜パターンを基材に転写させる工程と、を有するパターン形成方法に使用する凸版3であって、該凸版の凸パターンは、凸パターン6の縁の外側に複数の微小凸パターン7を備えることを特徴とする凸版である。 - 特許庁
To perform a test by using a tensile-testing apparatus that is universally used for a fine test piece regarding a tool for testing the strength of micro junction such as the solder junction section of electronic components and a conductive pattern junction section formed on a printed circuit board and a bond section.例文帳に追加
本発明は電子部品のはんだ接合部やプリント回路基板上に形成された導体パターン接着部などのマイクロ接合および接着部の強度を試験するための治具に関し、微細な試験片に対して汎用されている引張試験装置を用いて試験を行ないうるようにすることを課題とする。 - 特許庁
To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加
超LSIや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁
In the pin unit 101 for transferring an adhesive 400 to the surface of a bonding matter 200 at the bonding part thereof, the adhesive transfer plane of the transfer pin unit 101 is made of an elastic member 11 and the adhesive transfer pattern on the adhesive transfer plane is formed of micro uneveness.例文帳に追加
接着剤400を、被接着物200の接着部表面に転写する転写ピンユニット101であって、該転写ピンユニット101の接着剤転写面の材質が弾性部材11で形成され、かつ接着剤転写面の接着剤転写パターンが、微細な凹凸形状で構成されている事を特徴とする。 - 特許庁
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