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process deviceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 19598件
In the method, an impurity ion is implanted to a silicon substrate 11, thus manufacturing a semiconductor device with a process for forming the diffusion layer of source or drain region 25 or 19.例文帳に追加
本発明に係る半導体装置の製造方法は、シリコン基板11に不純物イオンを注入することにより、ソース領域25又はドレイン領域19の拡散層を形成する工程を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
The composition for forming a resist underlay film to be used in a lithographic process in manufacturing a semiconductor device contains a resin (A) comprising a polysilane resin, a polysiloxane resin or their mixture, a polycarbosilane resin (B), a crosslinking catalyst (C) and a solvent (D).例文帳に追加
ポリシラン樹脂、ポリシロキサン樹脂、又はその混合物からなる樹脂(A)、ポリカルボシラン樹脂(B)、架橋触媒(C)、及び溶剤(D)を含む半導体装置の製造のリソグラフィ−工程において使用されるレジスト下層膜形成組成物。 - 特許庁
To provide a treatment method which can prevent scale generation by a low cost and simple step without using a dephosphorization/denitrification device, in a process for treating aqueous liquid containing rich phosphorus, ammonia, and magnesium generated by culture and activated sludge treatment.例文帳に追加
培養および活性汚泥処理によって生じたリン、アンモニア、マグネシウムを豊富に含む水性液を扱う工程において、脱リン・脱窒装置を介さず、より安価且つ簡易な措置でスケール生成を防止できる処理方法を提供する。 - 特許庁
In particular, the electronic device includes one or more inductors that are inserted on a line connecting the semiconductor component and the piezoelectric element and that protects the semiconductor component from a discharge phenomenon generated from the piezoelectric element in a soldering process.例文帳に追加
とりわけ、電子装置は、半導体部品と圧電素子とを結ぶライン上に挿入され、半田付け工程において圧電素子から発生する放電現象から半導体部品を保護する1つ以上のインダクタを備えている。 - 特許庁
In a configuration to execute a correction process by inputting output signals individually corresponding to divisional regions of an image pickup device, a digital signal processor (DSP) performs correction using individual correction parameters corresponding to the divisional regions.例文帳に追加
撮像素子の分割領域各々に対応する出力信号を入力して補正処理を実行する構成において、デジタル信号処理部(DSP)が、各分割領域に対応する個別の補正パラメータによる補正を行う。 - 特許庁
In this manufacturing method of a semiconductor device, in a process S102 of plasma-nitriding an insulation film formed on a semiconductor substrate, and containing oxygen, a plasma nitriding treatment is executed two or more times at an interval of ≥100 μsec.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、半導体基板上に形成された酸素を含んだ絶縁膜をプラズマ窒化する工程(S102)において、連続して実行するプラズマ窒化処理を、100マイクロ秒以上の間隔をあけて2回以上行う。 - 特許庁
In addition, the presence-enabled email application process allows the message receiver to automatically respond, for example, by an email, an instant message, or a telephone call to a device where the sender is believed to be present.例文帳に追加
さらに、このプレゼンス使用可能電子メール・アプリケーション方法により、メッセージ受信者は、例えば、電子メール、インスタント・メッセージ、または電話の通話によって、送信者が存在すると思われる装置に対して自動的に応答することができる。 - 特許庁
To reduce etching residue of a metal layer which constitutes the electrode of a capacitance element by eliminating depression caused by step coverage of etching in a process for fabricating a semiconductor integrated circuit device which performs thickness adjustment of an LOCOS film.例文帳に追加
LOCOS膜の膜厚調整を行う半導体集積回路装置の製造方法において、エッチングの回り込みによる窪みの無い、その結果容量素子の電極を構成する金属層のエッチング残りの発生を少なくする。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which contains an I/O buffer or an output buffer which can control a switching speed of a buffer transistor to be an appropriate value even when process conditions and/or temperatures, etc., change.例文帳に追加
プロセス条件及び/又は温度等が変化した場合にも、バッファ用トランジスタのスイッチング速度を適正値に制御することができる入出力バッファ又は出力バッファを含む半導体装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a means for detecting a tracking error signal which has an easy assembly process and also resists variations in track pitch, and to provide a diffraction grating, an optical pickup, and an optical disk device for attaining the means.例文帳に追加
本発明は、組み立て工程の安易で、かつまたトラックピッチ変動に強いトラッキングエラー信号検出の手段、およびその手段を実現するための回折格子、光ピックアップ、光ディスク装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device 20 includes a process of forming a nitride film 23 having an opening to expose a semiconductor substrate 21 and forming a groove 24 in the semiconductor substrate 21 using the nitride film 23 as a mask.例文帳に追加
半導体装置20の製造方法は、半導体基板21を露出させるように開口部を有する窒化膜23を形成し、且つ窒化膜23をマスクとして半導体基板21に溝24を形成する工程を有する。 - 特許庁
When forming an embedded contact in the semiconductor device composed by fabricating one or more semiconductor elements on a silicon substrate 101, an interlayer insulation film 109 is formed on the entire surface of a semiconductor element layer (first process).例文帳に追加
シリコン基板101上に1又は複数の半導体素子が作り込まれてなる半導体装置に埋め込みコンタクトを形成するにあたり、半導体素子層の全面に層間絶縁膜109を形成する(第1工程)。 - 特許庁
To provide an optical pickup whose collision preventing device for preventing collision of an optical disk and an objective lens when a movable part of the optical pickup and the optical disk come close to each other can be inexpensively manufactured in a simple production process.例文帳に追加
光ピックアップの可動部と光ディスクとが接近したときの光ディスクと対物レンズとの衝突を防止するための衝突防止装置を、簡素な製造工程で極めて安価に製造することができる光ピックアップを提供する。 - 特許庁
In the manufacturing process of dispersing the toner raw material by using an agitation device having a high shearing force, the angle between agitation blades and operation conditions are optimized and, thereby, the toner particles having a sharp grain size distribution are manufactured.例文帳に追加
高剪断力を有する撹拌装置を用いてトナー用原料を分散させるトナーの製造工程において、撹拌翼間の角度と運転条件を最適化することにより、粒度分布のシャープなトナー粒子を製造する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing carbon nanotube capable of forming a carbon nanotube by a simple process and of accomplishing mass-production and area-enlargement of the carbon nanotube, and to provide a carbon nanotube device and an electrical double layer capacitor using the same.例文帳に追加
簡単なプロセスでカーボンナノチューブを形成することができるとともに量産化および大面積化が可能なカーボンナノチューブの製造方法、それを用いたカーボンナノチューブデバイスおよび電気二重層キャパシタを提供することである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device and a semiconductor manufacturing apparatus, wherein etching finish point is set at high precision, even if an etching rate changes variously for high accuracy etching process with good reproducibility.例文帳に追加
エッチングレートが様々に変化してもエッチング終了点を高精度に設定することができ、高精度なエッチング処理を再現性良く行うことのできる半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for creating photomask data by which design data can be easily converted into photomask data on forming an integrated circuit pattern through a sidewall leaving process, and to provide a method for manufacturing a photomask and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
側壁残しプロセスで集積回路パターンを形成する場合に、設計データからフォトマスクデータへ容易に変換することが可能なフォトマスクデータの作成方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor device of multilayer wiring structure in which the height or shape of solder bumps can be prevented from becoming uneven, and to provide its manufacturing process and an electronic apparatus employing it.例文帳に追加
多層配線構造の半導体装置において、はんだバンプの高さや形状が不均一になるのを防ぐことができる半導体装置、およびその製造方法、ならびにこの半導体装置を用いた電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide an energy effective use device simply and efficiently converting energy of surplus steam used for driving a steam turbine or process demand into power of high utility value or electric power generation energy via the steam turbine.例文帳に追加
蒸気タービンの駆動やプロセス需要に利用した余剰蒸気のエネルギーを、簡便かつ効率よく、蒸気タービンを介して利用価値の高い動力や発電エネルギーに変換するエネルギー有効利用装置を提供することである。 - 特許庁
To form an isolation channel of stable quality with high yield, in the manufacture of a semiconductor device which includes a process for forming an isolation groove for dividing the active region on a semiconductor substrate.例文帳に追加
本発明は半導体基板に活性領域を区分する分離溝を形成する工程を含む半導体装置の製造方法に関し、安定した品質を有する分離溝を高い歩留まりで形成することを目的とする。 - 特許庁
To shorten a charging time for a camera equipped with a flashing device having a charging circuit so structured to stop charging when a charged voltage reaches a target voltage through repeated detection of charged voltage during a charging process.例文帳に追加
充電過程において充電電圧を繰り返し検出し、充電電圧が目標電圧に達したとき充電を停止させるようにした充電回路を有する閃光装置を備えたカメラにおいて、充電時間を短縮する。 - 特許庁
An ERC rule data generation part 20 automatically generates ERC rule data for deciding the ERC rule of the semiconductor device by an automatic conversion program based on the process rule data inputted from the input part 10.例文帳に追加
ERCルールデータ生成部20は、入力部10から入力されたプロセスルールデータに基づいて、その半導体装置のERCルールを判定するためのERCルールデータを自動変換プログラムによって自動的に生成する。 - 特許庁
In the fabrication process of a semiconductor device having a gate electrode, a gate insulation layer, a semiconductor layer, a source electrode and a drain electrode, the gate insulation layer is formed by irradiating microwave.例文帳に追加
ゲート電極、ゲート絶縁層、半導体層、ソース電極及びドレイン電極を有する半導体デバイスの製造方法において、前記ゲート絶縁層をマイクロ波を照射して形成することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。 - 特許庁
To provide a device for quantitative feed of articles that can cope with articles of diverse shapes and sizes and feed housed articles to the next process by delivering easily by predetermined quantities as required.例文帳に追加
種々の形状,大きさの物品に対応することができ、収納された物品を必要に応じて所定の数量ずつ容易に払い出して次工程へ供給することのできる物品定量供給装置を提供する。 - 特許庁
In a process for applying catalyst for crystallizing an amorphous silicon film formed on a substrate surface, the catalyst is deposited by applying a catalyst solution by using a semiconductor manufacturing device such as a spin coater at the time of applying the catalyst.例文帳に追加
基板表面上に形成した非結晶シリコン膜を結晶化するための触媒を塗布する工程において、触媒の塗布にはスピンコータ等の半導体製造装置を用いて触媒溶液を塗布して触媒を析出させる。 - 特許庁
The image forming section of the image forming apparatus is constituted by providing the device with the plurality of process cartridges having photoreceptor drums 21 for forming toner images, cleaning devices 26 for removing residual toners and waste toner containers 27 for storing the waste toners.例文帳に追加
トナー像を形成する感光体ドラム21と、残余トナーを除去するクリーニング装置26と、残余トナーを貯留する廃トナー容器27とを有するプロセスカートリッジを複数設けて画像形成装置の画像形成部を構成する。 - 特許庁
The bypass device is operated together with a duct combustion process in the HRSG so that steam inlet pressure to the steam turbine can be kept at an optimal level in both operations of ignition and nonignition of the HRSG.例文帳に追加
HRSGに於けるダクト燃焼過程と共に側路装置を作動することにより、HRSGの点火及び非点火の両方の動作の間、蒸気タービンに対する蒸気入口圧力を最適レベルに保つことが出来る。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device comprises a process for cleaning a semiconductor substrate having a copper electric wiring by a cleaning liquid for the semiconductor substrate, containing a saccharide and a basic compound, having the copper electric wiring.例文帳に追加
糖類と、塩基性化合物とを含有してなる銅配線を有する半導体基板用洗浄液および当該洗浄液で銅配線を有する半導体基板を洗浄する工程からなる半導体デバイスの製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a process for making an absorbable polylactone copolymer having properties suitable for converting to a transplantable medical device such as a "soft" monofilament suture thread, and the absorbable polylactone copolymer prepared thereby.例文帳に追加
「軟質」モノフィラメント縫合糸等の移植可能な医療用装置に転換するのに適した性質を持つ吸収性ポリラクトン共重合体の製造方法およびそれにより製造された吸収性ポリラクトン共重合体を提供すること。 - 特許庁
To provide a uniform, high-density, large-area carbon nanotube which can be formed through an easy process and enables mass production, its manufacturing method and a carbon nanotube device and an electrical double layer capacitor using the same.例文帳に追加
簡単なプロセスで高密度で均一に形成することができるとともに量産化および大面積化が可能なカーボンナノチューブ、その製造方法、それを用いたカーボンナノチューブデバイスおよび電気二重層キャパシタを提供することである。 - 特許庁
To provide an industrially economical monomer useful as a monomer for a base polymer for improving the insulation, heat resistance and substrate adhesivity of a resin for a liquid crystal device, a photoresist for a semiconductor production process, an antireflection film.例文帳に追加
本発明は、液晶デバイス用樹脂、半導体製造プロセスに用いられるフォトレジスト、反射防止膜等の絶縁性、耐熱性、基板密着性向上を目指したベースポリマー用モノマーとして、工業的に経済的なモノマーを提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and its fabricating method in which a contact can be made easily in a diffusion layer located between gate electrodes of relatively narrow interval without short-circuiting the gate electrode even when a salicide process is employed.例文帳に追加
サリサイドプロセスを用いた場合でも、ゲート電極とショートすることなく、比較的間隔の狭いゲート電極の相互間に位置する拡散層に容易にコンタクトをとることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A process controller 100 executes communication and control between devices so as to actualize smart field device standards 132 and other bus-based architecture standards so that standard control operation is transparent to users.例文帳に追加
プロセス制御装置100は、デバイス間の通信および制御が実行され、標準的な制御動作がユーザにとってトランスペアレントであるように、スマートフィールドデバイス規格132およびそれ以外のバスベースのアーキテクチャ規格を実現する。 - 特許庁
To provide a device and a method for coating with a polyimide film capable of improving pinhole defect and line stain by completely removing residue left on an inkjet head in an inkjet-system polyimide coating process.例文帳に追加
インクジェット方式のポリイミド膜塗布工程においてインクジェットヘッド上に残存する残留物を完全にとり除いてピンホール不良や線染みなどを改善することができるポリイミド膜塗布装置及び方法を提供することである。 - 特許庁
To provide an arrangement structure of liquid crystal panels that shortens the time needed for a scribing process and reduces fill consumption while liquid crystal panels while liquid crystal panels of various sizes are positioned in the same base substrate for a liquid crystal display device.例文帳に追加
多様な大きさの液晶パネルを同じ液晶表示装置用ベース基板内に位置させつつ、スクライビング工程に必要とする時間及びフィール消耗量を減少させることができる液晶パネルの配置構造を提供する。 - 特許庁
Because the picture data and the database are managed unitaryly with the above addresses, the personal computer 5 calls a database corresponding to the control target equipment 1 selected, and executes the display control for respective device/terminal layout and the process control.例文帳に追加
各ピクチャデータとデータベースは上記アドレスで一元管理されているので、パーソナルコンピュータ5は、選択された制御対象装置1に応じたデータベースを呼び出し、装置/端子各レイアウトの表示制御とプロセス制御とを実行する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having a gate electrode portion containing a metal which controls oxidation of a metal contained in the gate electrode portion during formation of a film on the side surface thereof and subsequent process.例文帳に追加
メタルを含むゲート電極部を有する半導体装置において、ゲート電極部の側面に形成される膜の形成時およびその後の工程で、ゲート電極部に含まれるメタルの酸化を抑えることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
In a device provided with normal sequence software and a simulation program for preparing simulated input signals for machine and process states inside a PLC, in the case of performing the simulation, the entire sequence is operated at an n-fold speed.例文帳に追加
PLC内に通常のシーケンスソフトウェアと、機械、プロセス状態を模擬的に入力信号を作成するシミュレーションプログラムを持つ装置において、シミュレーションを行なう場合、全体のシーケンスをn倍の速度で動作させるものである。 - 特許庁
To provide a method for producing a pyrene derivative having a tertiary butyl group without containing chlorine in alkylation in a process when an organic compound for providing a long-lived organic electroluminescent (EL) device with little change with time is synthesized.例文帳に追加
経時変化の少ない長寿命な有機EL素子を提供するための有機化合物を合成する際、工程内のアルキル化において、塩素が含まれないターシャリブチル基を有するピレン誘導体の製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a high-precision spectral intensity signal by removing the effect of the stray light generated in a spectrum measuring device and the effect of the unnecessary light caused by the reflection or diffraction on the surface of a detecting element via the process of a detected signal.例文帳に追加
スペクトル測定装置内部に発生する迷光や、検出素子の表面の反射や回折により生ずる不要な光の影響を、検出信号の処理により取り除き、精度のよいスペクトル強度信号を得る。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a semiconductor device, capable of suppressing the lowering of the joint strength reliability of a joining part in the thermal curing process of an underfill resin in the flip-chip mounting of a semiconductor chip with respect to an organic board.例文帳に追加
有機基板に対する半導体チップのフリップチップ実装において、アンダーフィル樹脂の熱硬化工程における接合部の接合強度信頼性の低下を抑制できる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a multi-color impression printing device which can precisely perform a printing registration process, even when meshy cells are formed in the surface of each plate cylinder, a multi-color impression printing method and a printing register mark.例文帳に追加
各版胴の表面に網目状の窪み(セル)が形成されている場合であっても、印刷の見当合わせを精度良く行うことができる多色刷り印刷装置、多色刷り印刷方法ならびに印刷見当マークを提供すること。 - 特許庁
To provide an impact sensor unit for early detection of the anomaly of a machine part by inspecting damage-causing impact received in assembly processes, transport process, etc. for the machine part, before the machine part is built into a mechanical device.例文帳に追加
機械部品の組立工程、輸送工程等で受けたの損傷の原因となる衝撃を、機械部品が機械装置に組み込まれる前に検査可能として、機械部品の異常を早期に検出できる衝撃センサユニットを提供する。 - 特許庁
To provide a method and device for imaging without the background of an object, while suppressing the effect on the object or on other cohabiters as much as possible, using only an optical means with no computer process.例文帳に追加
コンピューター処理によらないで、光学的手段のみによって、被写体や他の共同生活者への影響を極力抑えつつ、被写体の背景を映らないように撮像する方法、及び、その方法を実施する装置を提供すること。 - 特許庁
If an off-state frame opening flag 203a is on, an off-state frame opening command is transmitted to a voice/lamp control device 113 during the starting process, and a pulse signal whose pulse width is approximately 1 millisecond is output to a hall computer 262 thereafter.例文帳に追加
オフ中枠開放フラグ203aがオンであれば、立ち上げ処理内で、音声ランプ制御装置113へオフ中枠開放コマンドを送信し、その後に、ホールコンピュータ262へパルス幅が約1m秒のパルス信号を出力する。 - 特許庁
To provide a single crystal film, which is suitable for making of a device of high performance and stable properties, demarcating with respect to conventional polycrystalline film, and also whose manufacturing process is sufficient with short time, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
従来の多結晶薄膜とは一線を画し高性能で特性の安定したデバイスの作成に好適であってしかもその製造工程も短い時間で十分な単結晶薄膜とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process cartridge having superior usability at low cost, using a longitudinal cartridge insertion method with a rotational coupling mechanism, whereby a rotation passive part on the cartridge side is connected to a drum-driving gear on the image forming device side, when the cartridge is inserted.例文帳に追加
カートリッジ挿入時、カートリッジ側回転受動部を画像形成装置側のドラム駆動ギアに接続する回転カップリング機構をカートリッジ縦入れ方式を採用し、ユーザビリティに優れかつて低コストで済むプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
However, in this process, a first counter weight 79 with prescribed weight is moved by a control device with respect to an X-axis direction in the opposite direction of the movement direction of a stage via first axial linear motors 80A, 80B.例文帳に追加
しかるに、このとき、制御装置により、所定重量を有する第1のカウンタウェイト79が第1軸リニアモータ80A,80Bを介して、ステージの移動方向とは反対方向にX軸方向に関して移動させられる。 - 特許庁
This controller is constituted of a PID controller 101 an interface controller 102 and an operation device 103, a controlled variable is calculated by a prescribed arithmetic operation by process input from the plant in the PID controller 101 and a valve or the like is controlled.例文帳に追加
PID制御器101とインターフェース制御器102と操作器103で制御器を構成し、PID制御器101でプラントからのプロセス入力により所定の演算により制御量を算出して弁等を制御する。 - 特許庁
To provide a portable terminal device capable of carrying out a re-editing process on a receiving side when an original image such as a photographic image is combined with an editorial image and the combined image is transmitted and received.例文帳に追加
写真画像などの元画像に対して編集用画像によって合成処理が行われた画像を送受信する際に、受信した側において、編集処理をし直すことを可能とする携帯型端末装置を提供する。 - 特許庁
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