「process interface」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A remote controller interface is configured to sense and process wireless control signals, received from a set of secondary remote controllers associated with a set of secondary consumer devices.例文帳に追加

遠隔制御装置インタフェースは、二次消費者装置のセットに関連付けられる二次遠隔制御装置のセットから受信される無線制御信号を検知及び処理するように構成される。 - 特許庁

To obtain an nitride semiconductor thin film which satisfies sufficiently low dislocation density, homogeneity over a wide surface area, manufacturing process convenience, and economy, and which also has high resistance in the vicinity of a substrate interface.例文帳に追加

十分に低い転位密度、広い面積にわたっての均質性、作製プロセスの簡便さ、経済性を満足し、基板界面付近が高抵抗の窒化物半導体薄膜を得る。 - 特許庁

A user interface process part 270 determines whether or not it is possible to run the piece of software selected by the user, by referring to the unlocking information stored in an unlocking information storage part 328.例文帳に追加

ユーザインタフェース処理部２７０は、解錠情報格納部３２８に格納される解錠情報を参照して、ユーザにより選択されたソフトウェアの実行可否を判断する。 - 特許庁

A first transmitting-receiving processor 23 executes a transmitting-receiving process in the first communication system to transfer signals to/from an interface 30 at a first rate corresponding to the first clock CK1.例文帳に追加

第１送受信処理部２３は第１通信方式で送受信処理を行い、第１クロックＣＫ１に対応する第１レートでインタフェース３０との間の信号の授受を行う。 - 特許庁

To remove an etching product adsorbed onto a semiconductor substrate substantially thoroughly in an interface cleaning process for removing an oxide film on the semiconductor substrate by dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング処理により半導体基板上の酸化膜を除去する界面清浄化処理において、半導体基板上に吸着させたエッチング生成物をほぼ確実に除去可能にする。 - 特許庁

To provide an oxide film of atom layer level wherein entrance of impurities into an oxidizing process of a silicon crystal surface is suppressed for flatter and evener interface between the oxide film and a semiconductor.例文帳に追加

シリコン結晶表面の酸化工程での不純物混入を抑制し、且つ酸化膜と半導体の界面をより平坦で均一にした原子層レベルの酸化膜を提供すること。 - 特許庁

A programmable logic circuit interface 23 interprets the header part to specify the first circuit information, a programmable logic circuit 21 reconfigures the processing circuit to process the processing data.例文帳に追加

プログラマブル論理回路インタフェース２３は、ヘッダ部を解釈して最初の回路情報を特定し、プログラマブル論理回路２１に処理回路を再構成し、処理データの処理を行わせる。 - 特許庁

The cutting process (S2) is to obtain the substrate by cutting the laminated body in a direction crossing the extending direction of an interface between the first conduction type layer and the second conduction type layer.例文帳に追加

切断工程（Ｓ２）とは、積層体を、第１導電型層と第２導電型層との界面の延在方向と交差する方向に切断することにより基板を得る工程である。 - 特許庁

Consequently, the roughness of the peeling interface of the active layerr 10A is inhibited, the in-plane uniformity of the thickness of the active layer 10A after a peeling is enhanced, and the quantity of a polishing in a polishing process is reduced.例文帳に追加

その結果、活性層１０Ａの剥離界面のラフネスが抑えられ、剥離後の活性層１０Ａの厚さの面内均一性が高まり、研磨工程での研磨量が低減される。 - 特許庁

With the two- layer PZT film lamination process, a Pb concentration in the interface between the electrode 6 and the film 4b is restrained, and the generation of a by oxygen defect due to Pt catalytic action is restrained.例文帳に追加

二層のＰＺＴ膜積層工程により、上部電極６とＰＺＴ膜４の界面でのＰｂ濃度が抑えられ、Ｐｔ触媒作用による酸素欠陥の発生が抑えられる。 - 特許庁

Then, in a process of transmitting the unit data from a serial interface 21d to a display unit 22b, the unit data is converted into parallel data in a format requested from the display unit 22b.例文帳に追加

その後、シリアルインタフェース２１ｄからディスプレイユニット２２ｂへ単位データが伝送される過程で、当該単位データが、ディスプレイユニット２２ｂから要求されるフォーマットのパラレルデータに変換される。 - 特許庁

To provide a technique to process a high-quality organic field effect device by improving an interface of an organic semiconductor and a gate insulator by the choice of materials and preparation conditions.例文帳に追加

有機半導体とゲート絶縁体の界面を、材料および製造条件の選択によって改善し、高品質の有機電界効果デバイスを加工する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a barrier layer capable of reducing the process number, realizing good step coverage, and suppressing the increasing resistance value of the interface portion between a Ti film and a silicon layer.例文帳に追加

工程数を少なくし、ステップカバレジも良好にし、しかも、Ｔｉ膜とシリコン層との界面部分の抵抗値の増加を抑制することが可能なバリヤ層の形成方法を提供する。 - 特許庁

The PPPoE process function unit 86 responding to each cession is designed to transmit and receive the PPPoE packet, including the host unique tag via a network interface unit 58 to and from the WAN.例文帳に追加

そして、各セッションに対応するＰＰＰｏＥ処理機能部８６は、対応するホストユニークタグを含むＰＰＰｏＥパケットをネットワークインタフェース部５８を介してＷＡＮとの間で送受信する。 - 特許庁

This system and method allows a user to add masking regions to the dynamic range of a screen for selectively ignoring the region range of user interface layout expected to change during a verification process.例文帳に追加

ユーザが、検証プロセス中に変化することが予想されるユーザインタフェースレイアウトの領域範囲を選択的に無視するために、画面の動的範囲にマスキング領域を追加する。 - 特許庁

The web server 15 is cooperatively realized by a CGI having an interface with a browser to be executed by a client 13 and a resident process for always maintaining a session with the mail server 11.例文帳に追加

ウエブサーバ１５は、クライアント１３で実行されるブラウザとのインタフェースを有するＣＧＩと、メールサーバ１１とのセッションを常時維持する常駐プロセスとの共同で実現される。 - 特許庁

With the two-deposition process, it is possible to maximize the doping at the gate electrode/gate dielectric interface while minimizing risk of boron penetration of the gate dielectric.例文帳に追加

この２つの堆積プロセスにより、ゲート電極／ゲート誘電体界面におけるドーピングを最大にする一方で、ホウ素がゲート誘電体に浸透するリスクを最小にすることができる。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a silicon oxide film formed on a silicon substrate or on the interface of a silicon layer and a high-permittivity insulating film are made thin easily.例文帳に追加

シリコン基板又はシリコン層と高誘電率絶縁膜の界面に形成されるシリコン酸化膜を容易に薄膜化することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Data in a digital signal processing process are taken into the CPU 11 through a CPU interface circuit 10, and graphing operation thereof is performed by the CPU 11, and bitmap data thereof are recorded in a RAM 12.例文帳に追加

このディジタル信号処理過程のデータをＣＰＵインターフェース回路１０を介しＣＰＵ１１に取込み、ＣＰＵ１１でグラフ化演算を行い、そのビットマップデータをＲＡＭ１２に記録する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which hydrogen can be supplied sufficiently to the interface of the gate insulating film and the semiconductor substrate of a transistor, without having to elevate the processing temperature.例文帳に追加

処理温度を高温にしなくてもトランジスタのゲート絶縁膜と半導体基板の界面に水素を十分に供給することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor laser in which the interface of a GaAs semiconductor region and an InGaAs semiconductor region can be made more steep.例文帳に追加

ＧａＡｓ半導体領域とＩｎＧａＡｓ半導体領域との界面をより急峻することを可能な、半導体レーザを作製する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An authenticity information process part 13 receives a bit sequence (question bit sequence) sent out of a host microprocessor 11 on the side of a device main body 6 through an authenticity judging circuit interface part 12.例文帳に追加

真偽情報処理部１３は、装置本体６側のホストマイクロプロセッサ１１から真偽判定回路インタフェース部１２を介して送出されるビット列（質問ビット列）を受信する。 - 特許庁

With this, a laser beam does not leak outside, even if an error occurs, for example, at the release between a transmitter interface unit 30 and an optical cable unit 50 or the reception side interface unit 40 and the optical cable unit 50, or a mounting process, so that safety is assured.例文帳に追加

これにより、例えば、送信側インタフェースユニット３０と光ケーブルユニット５０又は受信側インタフェースユニット４０と光ケーブルユニット５０との間の離脱時や装着手順の誤りがあってもレーザ光が外部に漏洩することがなく安全性を確保することができる。 - 特許庁

The chip structure for a multiply integrated circuit is provided with chip-to-chip interface circuits for selective connection of internal circuits in an integrated circuit for testing an interface circuit having the ESD protection circuit and the input/output circuit for establishing communication with an external testing system during a test and a burn-in process.例文帳に追加

多重集積回路チップ構造は、テストおよびバーン・イン手順中に外部テスト・システムと通信するためのＥＳＤ保護回路および入出力回路を有するインターフェース回路をテストするため集積回路の内部回路を選択的に接続するチップ間インターフェース回路を有する。 - 特許庁

In a prior art, an effective process of controlling a capture level of both a polycrystalline silicon film and a MOS interface at low temperatures is not clear, but it becomes possible to form extremely high-grade polycrystalline silicon and MOS interface by a method for manufacturing a thin film transistor.例文帳に追加

従来の技術では、多結晶シリコン膜およびＭＯＳ界面両方の捕獲準位を低温で制御する有効なプロセスが明確でなかったが、本発明の薄膜トランジスタの製造方法を用いることにより極めて高品質な多結晶シリコンおよびＭＯＳ界面形成が可能となった。 - 特許庁

A user interacts with this remote processing system through a unified interface, while this unified interface can be installed in the medical institutions for providing a dialogue process, not depending on a platform with the remote processing system, and the remote processing through the remote processing system.例文帳に追加

ユーザはこの遠隔処理システムと統一インタフェースを介して対話しており、またこの統一インタフェースは遠隔処理システムとのプラットフォームに依存しない対話操作、並びに遠隔処理システムによる遠隔処理を提供するために医療機関に配置することができる。 - 特許庁

The method for producing a frozen fried food cookable with a microwave oven comprises the following process: immediately and super- rapidly freezing a frozen fried food at a freezing interface advancing speed of >20 cm/h followed by freezing the resultant food at a freezing interface advancing speed of 0.1-20 cm/h.例文帳に追加

油チョウ後のフライ類食品を、直ちに２０ｃｍ／ｈを超える凍結界面前進速度で超急速凍結させ、次いで、０．１〜２０ｃｍ／ｈの凍結界面前進速度で凍結させることからなる、電子レンジ対応冷凍フライ類食品の製造方法。 - 特許庁

The inside of an interface station S3 located between a processing station S2, at which a development process is carried out and an exposure system S4 is cooled down to a temperature of 10 to 15°C at which a resolution reaction hardly proceeds, and a heating section 31 promoting a resolution reaction in resist is provided inside the interface station S3.例文帳に追加

現像処理等を行う処理ステ−ションＳ２と露光装置Ｓ４との間のインターフェイスステーションＳ３内をレジストの解像反応の進行を抑える程度の温度例えば１０〜１５℃程度に冷却すると共に、ここにレジストの解像反応を促進させる加熱部３１を設ける。 - 特許庁

In the Schottky diodes, the semiconductor area forming a Schottky interface is formed in the same process in which an N well area forming the channel region of a PMOS transistor or a P well area forming the channel region of an NMOS transistor is formed, and the metal area forming the Schottky interface is formed in the same process in which a silicide area forming the contact area of a MOS transistor is formed.例文帳に追加

ショットキーダイオードは、ショットキー界面を構成する半導体領域が、ＰＭＯＳトランジスタのチャネル領域を構成するＮウェル領域、または、ＮＭＯＳトランジスタのチャネル領域を構成するＰウェル領域と同一の過程で形成し、ショットキー界面を構成する金属領域はＭＯＳトランジスタのコンタクト領域を構成するシリサイド領域と同一の過程で形成する。 - 特許庁

This user interface application development program has: a step for reading specification data for application development allowing association between a screen and/or a process, and an object inputting/outputting data; and a step for automatically interpreting the specification data including the association between the screen and/or the process, and the object, and creating the user interface application program.例文帳に追加

ユーザインタフェースアプリケーション開発プログラムにおいて、画面および／または処理とデータを入出力するオブジェクトとの間の関連付けを行うことが可能なアプリケーション開発用仕様書データを読み込むステップと、画面および／または処理とオブジェクトとの間の関連付けを含んで仕様書データを自動的に解釈し、ユーザインタフェースアプリケーションプログラムを生成するステップとを備える。 - 特許庁

An in-circuit emulator 10 to verify the chip design divided into internal logic design and external interface design to communicate with the target system 12 by at least one interface protocol includes a processing engine 101 to process algorithm of the logic function by design of an internal logic and a pin signal generating part 102 to generate a plurality of pin signals by design of an external interface.例文帳に追加

内部ロジック設計と、少なくとも一つのインターフェースプロトコルによって目標システム１２と通信するための外部インターフェース設計とに分かれるチップ設計を検証する回路内エミュレータ１０は、内部ロジックの設計によってロジック関数のアルゴリズムを処理するプロセシングエンジン１０１と、外部インターフェースの設計によって複数のピン信号を生成するピン信号生成部１０２とを含む。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material having high shielding power which can be produced inexpensively through a simple process and in which scattering of light does not take place on the interface of a substrate and an adhesive because no adhesive is used and a high light transmittance is ensured, and to provide its production process.例文帳に追加

接着剤を用いないことで、基材と接着剤との界面の光散乱のない、また高い光線透過率を有し、かつ低コストで簡易な工程で製造でき、高い電磁波遮蔽能を有した電磁波遮蔽材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor substrate, which is high in productivity, by optimizing BMD (bulk micro defect) forming process inside of a wafer and interface oxide film removing process, in the manufacturing method of the semiconductor substrate consisting of two sheets of semiconductor wafers joined directly.例文帳に追加

２枚の半導体ウェーハが直接接合した半導体基板の製造方法であって、ウェーハ内部のＢＭＤ形成プロセスと、界面酸化膜除去プロセスを最適化することにより、生産性の高い半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The etching method includes: a layer formation process for forming an etching gas layer including an etching material activated chemically by irradiation of light on the body to be treated; and a light irradiation process for applying the light to an interface between the body to be treated and the etching gas layer.例文帳に追加

光の照射を受けて化学的に活性化するエッチング材料を含んだエッチングガス層を被処理体上に形成する層形成工程と、前記被処理体と前記エッチングガス層との界面に前記光を照射する光照射工程とを含む。 - 特許庁

To provide a conductive layer-laminated material which abates or eliminates the adverse effects to be caused by the formation of a brittle alloy layer in a joint interface following a high temperature process or a significant residual stress resulting from a high rolling rate joining process and the parts using the conductive layer-laminated material.例文帳に追加

高温プロセスに伴う接合界面での脆弱合金層の形成や、高圧延率接合に伴う大きな残留応力などの悪影響を軽減もしくは排除しうる導電層積層材および導電層積層材を用いた部品の提供。 - 特許庁

The BIOS is also adapted to receive TPM authentication data from the user for initiating a boot process and adapted to interface with the TPM to request validation of the TPM authentication data by the TPM for initiating the boot process using the user key.例文帳に追加

ＢＩＯＳはまた、ブートプロセスを開始するためにユーザからＴＰＭ認証データを受け取るように適合され、ＴＰＭとインタフェースして、ブートプロセスを開始するためにＴＰＭによるユーザキーを使用するＴＰＭ認証データの検証を要求するように適合される。 - 特許庁

A service provider interface means 320 applies a specified process to the output from the conversion means 310 to provide an output to a service provider apparatus 100, and applies a specified process to an answer from the service provider apparatus 100 to provide an output.例文帳に追加

サービス提供装置インタフェース手段３２０は、サービス要求変換手段３１０の出力に所定の処理を行った後にサービス提供装置１００に出力し、さらにサービス提供装置１００からの応答に所定の処理を行って出力する。 - 特許庁

The system sends the formatted transactional process control information to a transactional information server via a web services interface and maps the formatted transactional process control information to an extensible markup language output schema associated with one of the plurality of information technology systems to form mapped transactional process control information.例文帳に追加

そして、前記フォーマット済みトランザクションプロセス制御情報を前記トランザクション情報サーバに前記ウェブサービスインターフェイスを介して送信し、前記フォーマット済みトランザクションプロセス制御情報を、前記複数の情報技術システムの一つと関連する拡張可能マークアップ言語出力スキーマにマップしてマップ済みトランザクションプロセス制御情報を形成する。 - 特許庁

A data editing part 19 edits process data for the present cycle and process data for the past fixed period inputted from a plant process 12 as a transmission text based on monitor information from a system state monitoring part 20, and a real time data transmitting part 21 transmits the transmission text edited by the data edit part 19 to an operator interface part 15.例文帳に追加

データ編集部１９は、システム状態監視部２０からの監視情報に基づいてプラントプロセス１２から入力した現在周期分のプロセスデータおよび過去の一定周期分のプロセスデータを伝送テキストとして編集し、リアルタイムデータ伝送部２１は、データ編集部１９で編集された伝送テキストをオペレータインターフェース部１５に送信する。 - 特許庁

To provide an image display and an image display program capable of providing a user interface for a user to process an image intuitively when retrieving a desired image or when arranging the image.例文帳に追加

所望する画像を検索する際や画像の整理などを行なう際にユーザが直感的に画像を取り扱えるユーザインターフェースを実現可能な画像表示装置およびプログラムを提供する。 - 特許庁

This system is basically composed of a yard planning simulation device 2, three-dimensional(3D) animation preparing device 3, plant main body process data 4, plant main body 3D design data 5, topographical data 6 and input/output interface 1.例文帳に追加

本システムは基本的にヤード計画シュミレーション装置２、三次元アニメーション作成装置３、本体プラント工程データ４、本体プラント三次元設計データ５、地形データ６、入出力インターフェース１より成る。 - 特許庁

To provide a highly reliable micro-lens substrate for a liquid crystal display device, capable of preventing deflection or exfoliation on an adhesive interface or the like, even if a heating treatment is executed in a manufacturing process of the liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置の製造工程で加熱処理を行っても歪みや接着剤界面での剥離等の生じない、信頼性の高い液晶表示装置用マイクロレンズ基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a film transistor in which an etch stop material remains in a source/drain isolation etching process, and which solves a problem of deterioration of source/drain interface characteristics, and decreases the required number of optical masks.例文帳に追加

ソース／ドレーン分離エッチングプロセスでエッチストップ材質が残留し、ソース／ドレーンインターフェース特性が悪くなる問題を解消し、必要な光マスク数を減少するフィルムトランジスタ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a group III nitride based compound semiconductor laser in which the ohmic characteristics of an electrode are improved by suppressing damage on the interface between a p-electrode and a p-type contact layer, and residue of mask material.例文帳に追加

ｐ電極とｐ型コンタクト層との界面のダメージ、マスク材料の残存を抑制して、電極のオーミック特性を改善したIII族窒化物系化合物半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

By such a constitution, increases in manufacturing process and cost caused by the conventional forming of an interlayer are prevented, and a decline in reliability and the degradation of efficiency of optical extraction caused by an increase in interface are prevented.例文帳に追加

従って、従来の中間層形成による製造工程及びコストの増加を防止し、かつ界面増加による信頼性低下及び光抽出の効率低下を防止することができる。 - 特許庁