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process interfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 557件
Each of the graphic elements is an executable object that includes a property or a variable that may be bound to an associated process entity, like a field device, and that includes multiple visualizations, each of which may be used to graphically depict the associated process entity on a user interface when the graphic element is executed as part of the graphic display.例文帳に追加
図形エレメントはおのおのが実行可能なオブジェクトであって、フィールドデバイスのような関連のプロセスエンティティに拘束されるプロパティや変数を含み、複数のビジュアライゼーションを含むが、これはおのおのが、図形エレメントが図形ディスプレイの一部として実行されると、関連のプロセスエンティティをユーザインタフェース上でグラフで描写するために用いられる。 - 特許庁
To increase an operating efficiency by solving the problem of improving an interface characteristic and a hole-filling material characteristic in a manufacturing process based on an existing phase change memory technique, making small a contact surface area of layer materials different in simple manufacturing processes, stabilizing a component characteristic, simplifying the manufacturing process, and decreasing an operational current.例文帳に追加
既存の位相変化メモリ技術が持つ製造プロセスでインターフェイスの特性と穴込め材料の特性を改良する問題を解決し、簡単な製造プロセス条件で異なる層材料における接触面積を小さくし、部品特性の安定化を図り、製造プロセスを簡略化し、使用電流を少なくし操作効率を高めることを目的とする。 - 特許庁
The information processing apparatus includes a communications interface 11 which receives the input of an initializing command consisting of machine language codes transferred from a host device, and a central processing unit 12 which performs the process of initializing circuits within the apparatus according to the initializing command transferred from the host device via the communications interface.例文帳に追加
ホスト装置から転送される機械語コードからなる初期設定コマンドの入力を受ける通信インターフェース11と、前記通信インターフェース経由で前記ホスト装置から転送された前記初期設定コマンドに基づいて、装置内の回路の初期設定処理を行う中央演算処理装置12とを具備したことを特徴とする情報処理装置を以って課題の解決に当たる。 - 特許庁
The peeling apparatus 1 includes a process 14 which sucks and holds the transfer destination substrate 40, a suction pad 24 as a suction unit which applies a force for separating the transfer source device 30 and the transfer destination substrate 40 in a lamination direction while sucking the transfer source substrate 30, and a nozzle 50 which injects fluid from its tip to the lamination interface along the lamination interface.例文帳に追加
剥離装置1は、転写先基板40を吸着して保持するステージ14と、転写元基板30を吸着して、転写元基板30と転写先基板40とを積層方向に引き離す力を印加する吸着部としての吸着パッド24と、上記積層界面に対して上記積層界面に沿った方向に、先端から流体を噴射するノズル50と、を有する。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a photoelectric conversion element exhibiting good interface characteristics to both an oxide based transparent conductive film and a photoelectric conversion layer in which a high conductivity is ensured while suppressing the quantity of light absorption by preventing the film quality of a p-layer from deteriorating due to the discomposition effect of hydrogen from a semiconductor layer of impurities while securing good interface characteristics.例文帳に追加
良好な界面特性を確保しながら不純物の半導体層からの水素の引き抜き効果によるp層の膜質低下を防止して高導電率を確保し、かつ光吸収量を抑制し、しかも酸化物系透明導電膜や光電変換層の双方に対して良好な界面特性をもつ光電変換素子を製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method of forming a metal film, by which the metal film having excellent adhesiveness to a substrate and an interface with a small unevenness between the substrate and itself can be formed by a simple process, without need of a large amount of energy.例文帳に追加
本発明の目的は、多大なエネルギーを必要とせず製造が可能で、基板との密着性に優れ、且つ、基板との界面における凹凸が小さい金属膜を簡便な工程により形成しうる金属膜形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a system which instructs a user about which dimension is to be measured through a graphic interface so as to automate the maintenance process, which automates the acqusition and the storage of its measured value, and by which the measured value is compared with corresponding engineering specifications and history data.例文帳に追加
保守プロセスを自動化すべく、グラフィックインターフェースを通してどのディメンションを測定すべきかユーザーに指示し、これらの測定値の取得及び記憶を自動化し、かつそれらを対応する工学仕様及び履歴データと比較するシステムを開発する。 - 特許庁
With the use of the silicon film 110, the boron ion implanted from above the pillar part 103 in a later process is suppressed from moving/diffusing at the interface between the granular part 102 and the pillar part 103, thus punch-through to the base layer 101 side is prevented.例文帳に追加
このようなシリコン膜110によれば、後の工程で柱状部103の上部から注入されたホウ素イオンは、粒状部102と柱状部103との界面で移動・拡散が抑制され、基層101側への突き抜けが防止される。 - 特許庁
To set a function of an external device 2 connected through an interface 3 from a printer 1, a print start switch 18b of a panel operation part 18 of the printer 1 is pressed first to print a dedicated check sheet by a printing process part 13.例文帳に追加
印刷装置1からインターフェイス3を介して接続された外部器2の機能設定を行う際、まず印刷装置1のパネル操作部18の印刷開始スイッチ18bを押して、印刷処理部13により専用チェックシートを印刷する。 - 特許庁
In this process, the YSZ particles 8 penetrate into the pores 20A in a cathode substrate 20 deeply and form a three-dimensional network at the interface with the cathode substrate 20 to develop an anchor effect.例文帳に追加
このとき、吸引ポンプ15の吸引力によって、YSZ粒子8はカソード基材20における細孔20Aの奥方まで進入していき、カソード基材20との界面で3次元的なネットワーク構造を形成してアンカー効果を発揮する。 - 特許庁
To provide a control system for a laundry machine for engaging a laundry machine in a drop-off mode, allowing an operator to use the machine as necessary to process customer's garments without being required to activate the machine via a payment interface.例文帳に追加
洗濯機用の制御システムは、洗濯機をドロップオフモードにするためのシステムを提供し、それにより、支払いインタフェースを介して洗濯機を起動させる必要なくオペレータが必要に応じて洗濯機を使用して顧客の衣類を処理できるようにする。 - 特許庁
To manufacture a steel sheet having stable magnetic properties by inhibiting variation (destabilization) in secondary recrystallization caused by reaction of inhibitors at an interface in a process for manufacturing a mirror- finished, grain-oriented silicon steel sheet by applying an annealing separator in the form of a water slurry.例文帳に追加
焼鈍分離剤を水スラリー状で塗布する鏡面方向性珪素鋼板の製造方法において、界面でのインヒビター反応に起因する二次再結晶のバラツキ(不安定化)を無くし、磁気特性の安定した製品を製造する。 - 特許庁
To provide an adhesive attached to a supporting body adapted such that a peel-off of the adhesive from an interface between the adhesive and supporting body during a slit process can effectively be prevented to allow a drastic improvement of yields in mass production, and to provide a connected circuit structure employing the adhesive.例文帳に追加
スリット時に接着剤と支持体の界面から接着剤が剥離することを効果的に抑制し、量産時の歩留まりを飛躍的に向上できる支持体つき接着剤及びそれを用いた回路接続構造体を提供する。 - 特許庁
A navigation apparatus which may be used by personnel in charge for rapid intervention to a location while adding safety and reliability to the process, is provided with a computer system having an operating system, memory, and a user interface.例文帳に追加
ある地点への迅速な到着のために係官によって利用されることができる一方、その過程に安全性と信頼性とを付加することができるナビゲーション装置は、オペレーティングシステムとメモリとユーザインターフェースとを有するコンピュータシステムを備えている。 - 特許庁
The exemplary method includes displaying a plurality of panels through the graphical user interface, and displaying a part of the process control information associated with the runtime application through the runtime work space application on at least one of the plurality of panels.例文帳に追加
例の方法はグラフィックユーザインタフェースを介して複数のパネルを表示し、実行時作業空間アプリケーションを介して複数のパネルの内の少なくとも1つに実行時アプリケーションと関連付けられたプロセス制御情報の一部を表示する。 - 特許庁
To provide a new method for surface defect detection and its device which can quantitatively measure a defect in atom size generated on the surface and interface of a sample in a manufacturing process for semiconductor devices or the like in real time with high precision.例文帳に追加
半導体デバイスの製造プロセス等において試料の表面および界面に発生する原子サイズの欠陥を実時間で、且つ高精度で定量測定することのできる、新しい表面欠陥検出方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which excess components (mainly Pb) of a ferroelectric film can be removed effectively, while maintaining proper interface state between the ferroelectric film and the upper electrode, and to provide a ferroelectric capacitor structure.例文帳に追加
強誘電体膜と上部電極の界面状態を良好に保つと共に、強誘電体膜の過剰成分(主にPb)を効果的に除去することのできる半導体装置の製造方法及び強誘電体キャパシタ構造を提供する。 - 特許庁
To provide a process for controlling the intermingling or inversion at the interface between each coated film layers when an intercoat and a top coating are successively applied by a wet-on-wet method, and for forming a lamellar coated film possessing an excellent chipping resistance.例文帳に追加
中塗り塗膜及び上塗り塗膜を順次ウエットオンウエットで塗装した場合の、各塗膜層間の界面でのなじみや反転を制御し、更に優れた耐チッピング性を有する積層塗膜を形成する方法を提供することにある。 - 特許庁
In the image display apparatus, a system composed of a general-purpose operation system and a general-purpose Window system includes a control process which controls drawing timing so as to display an image on a memory display device by a GUI (graphical user interface) application.例文帳に追加
汎用のオペレーションシステムと汎用のウインドウシステムとから構成されたシステムに、GUI形式のアプリケーションにてメモリ性表示デバイスへの表示が行われるように描画タイミングを管理するための管理プロセスを備えた画像表示装置。 - 特許庁
To provide a silicon carbide semiconductor device, which can greatly lower an interface level between a silicon carbide substrate and a silicon dioxide film by using a practical process being superior in mass productivity, and which is superior in reliability and electric characteristics as a device.例文帳に追加
量産性に優れた実用的なプロセスを用いて、炭化珪素基板と二酸化珪素膜との間の界面準位を大幅に低減することができ、デバイスとしての信頼性と電気特性が優れた炭化珪素半導体装置を提供する。 - 特許庁
In the sealing process, the light 10 is made incident on the photopolymerizable material 8 at an incident angle above the critical angle, and the light is totally reflected by the interface of the photopolymerizable material 8 and the medium 4 in contact with the photopolymerizable material 8.例文帳に追加
そして、この密封工程では、光10を臨界角以上の入射角で光重合性材料8に入射させ、光重合性材料8及び光重合性材料8と接触している媒体4の界面で光を全反射させる。 - 特許庁
To simultaneously process communication processings in accordance with other multifunctional processings even in the case of execution of a printing processing request from a host by processing a transfer processing of PDL data and a communication processing based on the control command in parallel in one network interface.例文帳に追加
1つのネットワークインタフェースで、PDLデータの転送処理と制御コマンドに基づく通信処理とを並列処理して、ホストからの印刷処理要求実行時においても、他の複合機能処理に伴う通信処理を同時に処理することである。 - 特許庁
In a process in which an interface including an insulation layer composed of an insulation membrane covering a TFT on a substrate and a flattened membrane, an electrode and pixel separation membrane or the like is formed, a dehydration treatment is carried out in an environment where a dew-point temperature is controlled at -60°C or lower.例文帳に追加
基板上のTFTを覆う絶縁膜と平坦化膜からなる絶縁層や、電極、画素分離膜等を含むインターフェースを形成する工程において、露点温度を−60℃以下に管理した環境下で脱水処理を行う。 - 特許庁
In the interface unit of a coating/developing process system 1, a partitioning plate 42 is arranged, and a first gas-feed device 80 is arranged on the upper part of a region S1 for pre-exposure substrates, while a second gas-feed device 81 is arranged on the upper part of a region S2 for post- exposure substrates.例文帳に追加
塗布現像処理システム1のインタフェイス部に仕切板42を設け,露光前の領域S1の上部に第1の気体供給装置80を,露光後の領域S2の上部に第2の気体供給装置81をそれぞれ設ける。 - 特許庁
To provide a crystal Si solar battery electrode that can reduce a resistance for having a sufficient sintering property in a general production process of a crystal Si-type solar battery, and has a small resistance of an interface with a Si substrate at low cost.例文帳に追加
安価で、結晶Si型太陽電池の一般的な作製プロセスにおいて十分な焼結性を有するため低抵抗化が実現でき、Si基板との間の界面抵抗が少ない結晶Si太陽電池用電極を提供する。 - 特許庁
To provide an electromagnetic wave shielding sheet having high shielding power which can be produced inexpensively through a simple process and in which scattering of light does not take place on the interface of a substrate and an adhesive because no adhesive is used and a high light transmittance is ensured.例文帳に追加
接着剤を用いないことで、基材と接着剤との界面の光散乱のない、また高い光線透過率を有し、かつ低コストで簡易な工程で製造でき、高い電磁波遮蔽能を有した電磁波遮蔽シートを提供する。 - 特許庁
This control method of a scanner having an interface applicable to a plurality of communication systems, detects the communication systems used for communication with the scanner (S101), and informs a user of the communication systems detected by a detecting process (S104, S107).例文帳に追加
複数の通信方式を適用可能なインターフェースを有するスキャナの制御方法であって、前記スキャナとの通信に用いられている通信方式を検知し(S101)、前記検知工程で検知した通信方式を通知する(S104、S107)。 - 特許庁
To manufacture a semiconductor device whose capacitance of a capacitor is large, which can suppress the occurrence of defects in the interface of a lower metal electrode and a capacitance insulating film and in the film of the capacitance insulating film in the process to form the capacitance insulating film.例文帳に追加
容量絶縁膜を形成する過程で、下部金属電極と容量絶縁膜との界面および容量絶縁膜の膜中における欠陥が生じるのを抑えることができ、キャパシタ容量の大きな半導体装置を製造することを目的とする。 - 特許庁
To provide a transistor whose manufacturing process is simplified and reduced in cost but which is provided with excellent ON/OFF characteristics, mobility and conductivity under a low-off current low in interface ranking, by employing the same material for the formation of a semiconductor active layer and a gate insulating film.例文帳に追加
半導体活性層およびゲート絶縁膜の形成に用いる材料を同一にすることにより、製造プロセスを簡略化し低コスト化した、界面順位の低い低オフ電流で、良好なオン/オフ特性、移動度、導電率を持つトランジスタを提供すること。 - 特許庁
To provide the manufacturing method and the like of a photoelectric conversion electrode capable of forming a pattern of a metal oxide layer in a simple manufacturing process, increasing adhesion of a sealing interface in cell manufacturing, and enhancing mechanical strength and reliability in long use.例文帳に追加
簡易な製造プロセスにて金属酸化物層のパターン形成が可能であり、セル作製時における封止界面の密着性を高め、機械強度及び長期使用時の信頼性を向上させ得る、光電変換電極の製造方法等を提供すること。 - 特許庁
In other hand, when the application number is inputted from a user terminal 3 of customer A, and display demand of the process information is requested, the managing part 20 searches the information responding to the application number and a web interface 40 displays the information on the user terminal 3.例文帳に追加
一方、顧客A社のユーザ端末3から申込番号が入力されてプロセス情報の表示要求があると、プロセス情報管理部20が当該申込番号に対応するプロセス情報を検索し、ウェブインタフェース40がユーザ端末3に表示させる。 - 特許庁
The software update device 7 has a S/W storage section 9 to store software of an updated version, a second interface circuit 10 and a second CPU 8 to control an operation of the recording device 1 during an update process to update software from an old version to the updated version.例文帳に追加
他方、ソフトウェア更新装置7は、更新ソフトウェアを記憶するS/W記憶部9と、第二のインターフェース回路10と、ソフトウェアを更新ソフトウェアに更新する更新処理の際に、記録装置1の動作の制御を担う第二のCPU8とを、有する。 - 特許庁
By using a completely new insulating film called this phosphorus nitride film, an insulating film can be formed which has low tension/low interface state density as compared with the conventional insulating film, and high reliability process suitable for compound semiconductor can be constituted.例文帳に追加
この窒化リン膜という全く新奇な絶縁膜を用いることにより、従来の絶縁膜に比して、低応力・低界面準位密度の絶縁膜の形成を可能とし、化合物半導体に適した高信頼性プロセスを構築することが可能となる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a conducting sheet laminate which exhibits a sufficient anchor effect by mitigating or eliminating an adverse effect of a significant residual stress attributed to the formation of a brittle alloy layer in a joint interface resulting from a high temperature process and a high rolling ratio joint.例文帳に追加
高温プロセスに伴う接合界面での脆弱合金層の形成や、高圧延率接合に伴う大きな残留応力などの悪影響を軽減もしくは排除し、充分なアンカー効果を有する導電板積層体の製造方法の提供。 - 特許庁
Since the SiO2 film is formed between the SiN film 34 and the ITO film 36, peelings caused on the interface between the silver alloy film 33 and the SiN film 34 due to stresses produced by heat, etc., in the production process can be prevented.例文帳に追加
SiN膜34とカラーフィルタ電着用ITO膜36との間に、SiO_2膜を形成することによって、製造工程で受ける熱などによって発生する応力で、銀の合金膜33とSiN膜34との界面に生じる剥離を防ぐことができる。 - 特許庁
This hot key connects a concrete operation as a transmitter of an interface with a condition of perception as a receiver, based on an oriental perception process in which seemingly wasteful activities, such as "variability", "stratified property" and "instability", have their meanings in creation activities in wide sense.例文帳に追加
広い意味での創作活動には、「可変性」「重層性」「不安定性」という、一見ムダに思える動作にも意味があるという、東洋的な認知プロセスに基づいて、インターフェイスの送り手である具体的動作と、受け手である認知の様子を結びつけたホットキー。 - 特許庁
To provide a process for producing a semiconductor substrate by bonding two semiconductor wafers directly in which generation of voids in the bonding interface is suppressed effectively by heat treating the wafers to be stuck at a high temperature rise/fall rate.例文帳に追加
2枚の半導体ウェーハが直接接合した半導体基板の製造方法であって、貼りあわせ前のウェーハを高速昇降温熱処理することにより、接合界面でのボイドの発生を効果的に抑制する半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method by which fitness and reversal on the interface between coating film layers are controlled and a multilayer coating film excellent in physical properties, particularly chipping resistance is formed when the top of a substrate is successively coated with an intermediate coating film and a final coating film by a wet-on-wet process.例文帳に追加
基材上に、中塗り塗膜及び上塗り塗膜を順次ウエットオンウエットで塗装した場合に、各塗膜層間の界面でのなじみや反転を制御し、更に、塗膜物性、特に耐チッピング性に優れた積層塗膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method that dispenses with a large-scale apparatus and a number of processes, such as a photolithography process, and can accurately and easily measure the electric characteristics of an SOI wafer, such as electron mobility, interface level density, hole mobility, and BOX layer charge density.例文帳に追加
フォトリソグラフィ工程のような大掛かりな装置と多数の工程を必要せず、電子移動度や界面準位密度、正孔移動度、BOX層電荷密度などのようなSOIウエーハの電気特性を正確かつ簡便に測定する方法を提供する。 - 特許庁
Thereby, any undercut is not produced on an interface between the inter-layer dielectric film pattern and the mask pattern by the protection film spacer in a cleaning process to be made before the conductive film for the pad is formed, any void is not formed in the conductive film when evaporating the conductive film for the pad.例文帳に追加
これにより、パッド用導電膜の形成前に行う洗浄工程で保護膜スペーサによって層間絶縁膜パターンとマスクパターンとの界面にアンダーカットが発生せず、パッド用導電膜の蒸着時に導電膜内にボイドが形成されない。 - 特許庁
Since the silicon oxide film 40, the silicon film 60 and the silicon oxide film 70, are successively formed without exposing them to the atmosphere, the amount of impurity which may be stuck to interfaces between the films 40, 60, 70 during the manufacturing process of the films is reduced and the density of the interface levels is reduced.例文帳に追加
このように、酸化シリコン膜40、シリコン膜60および酸化シリコン膜70を大気に晒すことなく連続して成膜するので、製造プロセス時にそれらの界面に付着する不純物が少なくなり、界面準位の密度が低くなる。 - 特許庁
The SOI substrate is heat-treated at a temperature of 600-1,250°C, and gettering is performed to metal impurities accidentally mixed into the interface of the SOI film and quartz substrate and into the SOI film in the process of plasma processing, or the like to the surface region of the silicon film 12.例文帳に追加
次にこのSOI基板を600℃〜1250℃の温度で熱処理し、プラズマ処理等の工程においてSOI膜/石英基板界面およびSOI膜中に偶発的に混入した金属不純物をシリコン膜12の表面領域にゲッタリングする。 - 特許庁
To provide an electric earthing device of a float glass manufacturing apparatus which inhibits an interface reaction in the manufacturing process so that the flow of direct electric current depending on an electrochemical influence between a melting tank and a downstream float tank is at least minimized.例文帳に追加
製造過程における境界面反応を抑制して溶融タンクと下流のフロートタンク間における電気化学的影響に依存した直流電流の流れが少なくとも最小限に抑えられるフロートガラス製造装置の電気的設置装置を提供する。 - 特許庁
Data loss caused by compression/restoration processing can be solved by judging the transfer speed of the communication interface, compressing data and sending the compressed data when the transfer speed may cause the bottleneck of the whole process or sending the non-compressed data as it is in the other case.例文帳に追加
通信インターフェイスの転送速度を判定し、これがプロセス全体の「ボトルネック」となりうる場合にはデータを圧縮して送出し、そうでない場合には、データを非圧縮のままで送出することによって、圧縮・復元処理に伴うロスを解消することができる。 - 特許庁
Under control of the mode control unit 107 the information processor can be set in a process mode in which it processes normal animations or a memory mode in which all built-in memories are logically coupled together to function as one memory directly accessible from the outside via the interface unit 106.例文帳に追加
モード制御ユニット107の制御により、通常の動画像を処理する「処理モード」と、すべての内蔵メモリが、論理的に結合され、インタフェースユニット106を介して、外部から直接アクセス可能な一つのメモリとして機能する「メモリモード」に設定できる。 - 特許庁
In a pre-process for processing a substrate before forming a gate oxide film on a silicon carbide semiconductor substrate, while keeping the temperature of the substrate in a range from the room temperature to 1200 degree centigrade and applying ultraviolet rays to the substrate, the substrate is exposed to ozone to form the interface between oxide film/silicon carbide.例文帳に追加
炭化珪素半導体基板上に、ゲート酸化膜を形成する前の基板前処理工程において、基板の温度を室温から1200℃の範囲に保ち、紫外線を照射しつつオゾン暴露を行って酸化膜/炭化珪素界面の作成する。 - 特許庁
In such a way, a gate insulating film and a semiconductor layer are continuously formed in a low-temperature deposition process and a heat treatment subsequent to the formation of the gate insulating film and the semiconductor layer is substituted for the first heating treatment at the time of the above crystal growth to contrive a reduction in defects in the interface between the gate insulating film and the semiconductor layer.例文帳に追加
こうして、ゲート絶縁膜と半導体層とを低温デポ工程で連続的に形成し、ゲート絶縁膜/半導体層形成後の熱処理を上記結晶成長時の第1の加熱処理で代行させ、界面欠陥の低減を図る。 - 特許庁
The method for managing the whole service management system by preparing an application program 5, an external server connection part and operation processing parts common to the system for the system and connecting respective parts through a common interface is constituted so as to execute process management for managing an operation processing parts process and system constitution information management for determining the constitution of the system.例文帳に追加
サービス管理システムを、アプリケーションプログラムと、外部サーバ結合部と、サービス管理システム共通の業務処理部品として用意し、これらを共通インタフェースで結合するようにし、サービス管理システム全体のプロセス管理を行う方法が、業務処理部品プロセスを管理するプロセス管理と、サービス管理システムの構成を決めるシステム構成情報管理とを実行するようにする。 - 特許庁
The system includes a decentrally arranged device 1 with a memory 4, in order to detect process parameters and to store data of the thermal spraying apparatus, the data contain identification and operating data of the thermal spraying apparatus and the device 1 additionally includes a bus interface 6 for transmission of the data.例文帳に追加
そのシステムは、工程パラメータを検出するため、また熱溶射装置のデータを記憶するために、メモリ4を有する分散配置されたデバイス1を含み、そのデータは、熱溶射装置の識別及び動作データを含み、そのデバイス1は、データを伝送するためのバス・インタフェース6をさらに含んでいる。 - 特許庁
The system comprises an interface which receives real-time RFID data from a process comprising at least one device collection in the RFID network, wherein a rule engine (RE) component which employs at least one declarative event policy associated with the RFID network as rules.例文帳に追加
システムに、RFIDネットワーク内の少なくともひとつのデバイス集合よりなるプロセスからリアルタイムRFIDデータを受信するインタフェースと、前記RFIDネットワークに関連する宣言的イベントポリシーの少なくともひとつをルールとして採用するルールエンジン(RE)コンポーネントとを備える。 - 特許庁
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