| 例文 |
process parameterの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 528件
After a support vector machine is trained using a set of the simulation diffraction signals as an input and a set of profile parameter value as an expected output, process of production is performed so that the structure may be fabricated on a wafer.例文帳に追加
入力としてシミュレート回折信号の組を、予期される出力としてプロファイルパラメータの値の組を用いて、サポートベクトルマシンが訓練された後、ウェハ上に構造を製造するように製造プロセスが実行される。 - 特許庁
In particular, the excitations may be iteratively determined and applied to the conduit, and motion signals 107 representing the motion of the excited conduit may be processed to generate process parameter estimates, such as mass flow rate estimates.例文帳に追加
特に、励振は反復的に決定されて導管に加えられ、励振された導管の運動を表す運動信号107は、質量流量推定値などのプロセス・パラメータ推定値を生成するよう処理される。 - 特許庁
During authentication, like the registration process, similarity search of a feature y is carried out and the feature y is transformed by using transform parameter R[i*] corresponding to the nearest neighboring dummy feature D[i*] (transformed feature V).例文帳に追加
認証時は、登録時と同様に、特徴量yの類似検索を行い最近傍ダミー特徴量D[i^*]し、対応する変換パラメータR[i^*]を用いて特徴量yを変換する(変換特徴量V)。 - 特許庁
A method for sealing tissue electrically and surgically comprises a process (A) for applying first pulse of RF energy to this tissue and a process (B) for applying following RF energy pulse at least a time to this tissue and maintaining RF energy parameter of individual pulse of the following RF energy pulse at fixed parameter or fluctuating it in accordance with at least one feature of transient electricity generated among individual RF energy pulses.例文帳に追加
組織を電気外科的に密封するための方法は、以下:(A)RFエネルギーの第一パルスをこの組織に適用する工程;および(B)この組織に、少なくとも1回の引き続くRFエネルギーパルスを適用し、そして個々のRFエネルギーパルスの間に生じる一過性電気の少なくとも1つの特徴に従って、引き続くRFエネルギーパルスの個々のパルスのRFエネルギーパラメータを一定に維持するかまたは変動させる、工程、を包含する。 - 特許庁
To surely detect any failure generated in a semiconductor manufacturing process even in a semiconductor integrated circuit in which the current values of the rest time power source currents of each element constituting a semiconductor integrated circuit and the fluctuation of the current values are both large, and the inter-semiconductor integrated circuit fluctuation due to a process parameter is large.例文帳に追加
半導体集積回路を構成する各素子の静止時電源電流の電流値とこの電流値のばらつきとが大きく、さらにプロセスパラメータによる半導体集積回路間のばらつきが大きな半導体集積回路であっても、半導体製造プロセスで発生した不具合を確実に検出すること。 - 特許庁
This image processing method is characterized in including an analysis process for finding a fractal dimension of the input image and a noise parameter setting process for determining the type and the intensity of the noise superposed on the input image for converting the input image into a prescribed image based on the found fractal dimension.例文帳に追加
入力画像のフラクタル次元を求める解析工程と、求めたフラクタル次元に基づいて、入力画像を所定の画像に変換するために入力画像に重畳するノイズの種類およびノイズの強さを決定するノイズパラメータ設定工程とを含むことを特徴とする画像処理方法である。 - 特許庁
The use of this continuously scheduled process model parameter update method provides for smoother transitions between the tuning parameters used in the PID controller during adaptive tuning procedures which are implemented based on changes in the operating region or the operating point of the process, thereby providing for better overall control.例文帳に追加
この連続的にスケジュールされるプロセスモデルパラメータ更新方法の使用により、プロセスの稼動領域または稼動点における変更に基づいて実行される適応調整手順中に、当該PID制御装置で使用される調整パラメータ間でのより円滑な遷移が実現されるため、全体的な制御が向上する。 - 特許庁
The process for the decomposition treatment of polymer- containing solid matter involvers a process which decomposes the polymer- containing solid matter holding an aramid fiber or a polyimide by bringing the above polymer-containing solid matter into contact with a polymer- decomposing agent containing solvent of a solubility parameter of 18 (MJ/m^3)^1/2 or more at 200°C or higher.例文帳に追加
アラミド繊維またはポリイミドを含有する高分子含有固体を、18(MJ/m^3)^1/2以上の溶解パラメータを有する溶剤を含有する高分子分解材料に、200℃以上の温度で接触させ、前記高分子含有固体を分解する工程を包含する、高分子含有固体の分解処理方法。 - 特許庁
A calibration control circuit 34 switches a current set value S2 by a plurality of values, acquires the current calibration value S4 corresponding to each current set value S2 for each of the current set values S2, and calculates a parameter S3 for calibration in the calibration process.例文帳に追加
校正制御回路34は、校正プロセスにおいて、電流設定値S2を複数の値で切りかえ、各電流設定値S2ごとに、それに対応する電流校正値S4を取得し、校正用パラメータS3を演算する。 - 特許庁
A correction coefficient is calculated based on a spin speed error, and it is applied to at least one data transfer parameter such as a channel reference frequency or read/write gate activation timing before it is applied to a subsequent data transfer process.例文帳に追加
回転速度エラーに基づいて補正係数を計算し且つ爾後のデータ転送処理に適用する前に、チャンネル基準周波数又は読取/書込ゲート活性化タイミング等の少なくとも1つのデータ転送パラメータに対して適用する。 - 特許庁
The data collection means 3 regularly collects data for lot processing state in each process of a production line 1, and a statistic analysis part 4 statically processes these data and the facility operation data to form statistic data corresponding to a set parameter.例文帳に追加
さらに、データ収集手段3は、生産ライン1の各工程でのロット処理状況に関する常時収集したデータと設備稼働データを統計解析部4で統計処理して設定パラメータに対応する統計データを作成する。 - 特許庁
When it is determined in the process (S7, S17, S27) that the external light is present, a parameter acquired in S5, S15, or S25 in which it is determined that the external light is present is modified to a set value or a reacquired value.例文帳に追加
そして、これらのS7,S17,S27の処理の中で、外光有りと判断された場合は、その外光有りと判断されたS5,S15,またはS25で取得されたパラメータを既定値または再取得された値に修正する。 - 特許庁
To reduce burden on a subject by shortening time for the whole process of an examination through reducing time spent on setting a parameter and a position for an image region or on reading or analyzing images and by improving a throughput for a patient.例文帳に追加
パラメータの設定や撮影領域の位置設定、あるいは撮影された画像の理解、評価の時間をそれぞれ短縮化することにより、検査時間全体を短くし、患者スループットを向上させ、被検体の負担を軽減する。 - 特許庁
An output data expanding unit 4 generates output image data based on the fetched output data as referring to the adjustment parameter, and outputs data subjected to a subtractive color process to an output device such as a printer from a processed data output terminal 5.例文帳に追加
出力データ展開部4は、調整パラメータを参照し、取り込んだ出力データに基づき出力画像データを生成して、処理済みデータ出力端子5からプリンタなどの出力装置に減色したデータを出力する。 - 特許庁
With a smaller number of measurements required than the prior-art multiple-model calibration, the focus-exposure model provides more predictive and more robust model parameter values that can be used at any location in the process window.例文帳に追加
従来技法の複数モデルキャリブレーションよりも少ない必要とされる測定値数で、フォーカス露光モデルは、プロセスウィンドウ内のいかなる位置でも使用することができる、より予測的でありより堅固なモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁
The amount of change to change the value of a game parameter used in the game process is calculated on the basis of at least one of the first data and the second data so that the amount of change is greater as the degree of similarity is greater.例文帳に追加
ゲーム処理に用いられるゲームパラメータの値を変化させる変化量は、上記類似度が大きいほど当該変化量が大きくなるように、第1データおよび第2データの少なくとも一方に基づいて算出される。 - 特許庁
In the plurality of hot-forgings, the hot-forging at the last process is performed while controlling the working temperature of the based part S of a flange 10 for fitting the wheel, an introduced von-Mises strain quantity and a hot-forging parameter P_F.例文帳に追加
複数工程の熱間鍛造のうち最終工程の熱間鍛造は、車輪取り付け用フランジ10の付け根部分Sの加工温度、導入されるvon Mises歪の量、熱間鍛造パラメータP_F を制御しつつ行う。 - 特許庁
To prevent an excessive power to be applied to a recording medium in an OPC process, to prevent low modulation degree of a reproduced RF signal to be used in recording at low power, and to use only one parameter in the OPC.例文帳に追加
OPC処理において、過大なパワーを記録媒体に与えず、また低いパワーで記録した場合の再生RF信号の低い変調度に基づく処理としないこと、さらにパラメータを1つとしてOPCを実行できるようにする。 - 特許庁
In the surface-roughening process, all or partial peeling does not occur on the cover layer and the surface-roughening is performed such that the reflectance on the surface of the cover layer or a parameter calculated based on the reflectance falls into the prescribed range.例文帳に追加
粗面化工程では、被覆層に全面的又は部分的な剥離が発生せず、且つ、被覆層の表面の反射率又は当該反射率に基づいて計算されるパラメータが所定の範囲となるように粗面化を行う。 - 特許庁
Further, at this time, the movement search parameter is determined so that a remaining time of a movement search is calculated by acquiring a time spent for the movement search within a frame, and the movement search process can be completed within the remaining time.例文帳に追加
更に、このとき、フレーム内で動き探索に費やした時間を求めることで動き探索の残り時間を算出して、その残り時間以内に動き探索処理を完了できるようにと動き探索のパラメータを決定する。 - 特許庁
Users can influence the scheduling of a process by specifying a parameter ( nice ) that weights the overall scheduling priority, but are still obligated to share the underlying CPU resources according to the kernel's scheduling policy. 例文帳に追加
スケジューリングの優先度全体に重みづけする特別なパラメータ (nice)によって、ユーザはプロセスの実行優先度に影響を与えることができますが、カーネルのスケジューリングポリシに従って、基本となる CPUリソースを共有する必要があります。 - FreeBSD
Parameters for the respective parts of a receiver are set on the basis of the parameter information of transmission data streams acquired by receiving the synchronizing signal, thereby easily and speedily performing the receiving process of transmission data streams.例文帳に追加
そこで、同期信号の受信により取得された各伝送データ系列のパラメータ情報に基づいて受信機の各部のパラメータを設定することで、各伝送データ系列の受信処理を容易かつ迅速に行うことができる。 - 特許庁
The device comprises one or more storage devices which are configured so as to store data, a first DHCP server which is configured so as to process a DHCP message, and redirect the communication regarding a configuration parameter for the storage devices to a second DHCP server, and a configuration data store which is configured so as to store the configuration parameter for the storage devices.例文帳に追加
本発明は、データを記憶するように構成された一つ又は複数の記憶装置と、DHCPメッセージを処理して、前記記憶装置用の構成パラメータに関する通信を第2のDHCPサーバにリダイレクトするように構成された第1のDHCPサーバと、前記記憶装置用の構成パラメータを記憶するように構成された構成データストアと、を含む。 - 特許庁
In only case where the print job data is an EMF file, the EMF file is converted into an XML file by a converter 41, and a parameter is set in the XML file so as to perform an adjustment process of a print region.例文帳に追加
そして,印刷ジョブデータがEMFファイルの印刷ジョブデータと判別された場合にのみ,そのEMFファイルをコンバータ41によってXMLファイルに変換し,当該XMLファイルに印刷領域の調節処理を行うようなパラメータをセットする。 - 特許庁
The digital camera 100 is designed to determin whether the decompressed image data is less than a predetermined level, and to repeat the compression process by changing the compression parameter, when it is determined as being less than the predetermined level, until the image quality becomes not less than the predetermined level.例文帳に追加
デジタルカメラ100は伸長した画像データの画質が所定の水準以上であるか否かを判定し、所定の水準以上でない場合は圧縮パラメータを変更して、画質が所定の水準以上になるまで圧縮処理を繰り返す。 - 特許庁
When the regulating operation of the gamma curve is performed by the user through an operating unit 38, a controller 32 regulates the gamma curve selected by the user in response to the operation, and updates the gamma curve stored in an image process parameter storage unit 34.例文帳に追加
ユーザによりガンマカーブの調整操作が操作部38を介してなされると、制御部32は、その操作に応じて、ユーザにより選択されたガンマカーブを調整し、画像処理パラメータ記憶部34に記憶されているガンマカーブを更新する。 - 特許庁
The voiced/unvoiced sound judging process 13 judges the frame as a voiced sound part when the speech power of the frame changed in the parameter is larger than a predetermined threshold, and the frame is judged as an unvoiced part when the speech power is smaller than the threshold.例文帳に追加
有音無音判定工程13では、変更されたパラメータにおけるフレームの音声パワーが、予め設定する閾値より大きいときには、そのフレームを有音部と判定し、また、その閾値より小さいときには、そのフレームを無音部と判定する。 - 特許庁
The model parameter in the steel production process is corrected within a scope designated beforehand by using an optimizing method with restrictive conditions so that the result of calculations obtained with the above model is consistent with the result obtained from actual measurement data.例文帳に追加
鉄鋼プロセスのモデルのパラメータを制約条件付き最適化法を用いることで、予め指定した範囲内で、前記モデルによって得られる計算結果が実際に計測された実績データから得られる結果と一致するように修正する。 - 特許庁
At that time, the switching timing from the delta connection to the star connection is determined according to an operation parameter which is characteristic to the heating process and the switching is made when the required heating power is decreased to 30% of the total heating load.例文帳に追加
その際に三角結線から星形結線への切換え時点は、加熱過程に対して特徴的な動作パラメータに応じて決定されるとともに、切換えは、必要な加熱電力が加熱全負荷の30%に低下した場合に行われる。 - 特許庁
For example, where one or more technical features of a product claim cannot be clearly defined by either features of structure or features of parameter, it is allowed to define the technical features by virtue of features of process. 例文帳に追加
例えば、製品の請求項における1つ又は複数の技術的特徴は、構造的特徴によってもパラメータ特徴によっても明確に特徴づけることができない場合には、方法的特徴を介して特徴づけることを許容する。 - 特許庁
An acoustic adjustment process for making the acoustic verification means verify the reproduction sound and making the acoustic adjustment means set the parameter, is started after shipment of the mobile communication terminal by a user's operation of the mobile communication terminal or the acoustic characteristics correction server.例文帳に追加
音響検証手段に再生音の検証をさせ、音響調整手段にパラメータの設定をさせる音響調整処理を、移動通信端末の出荷後に、移動通信端末又は音響特性補正サーバのユーザの操作により開始する。 - 特許庁
In forming an image on the OHP film, the control section 4 sets a parameter whereby a proper image is formed onto the OHP film to an image processing section 2 to allow the processing section 2 to process the image and allows the image forming section 3 to form the image on the OHP film.例文帳に追加
OHPに画像を形成する際には、制御部4は画像処理部2に対してOHPに最適な画像が形成されるようなパラメータを設定して画像処理を行わせ、画像形成部3でOHPに画像を形成させる。 - 特許庁
A feature parameter sequence is extracted by analyzing input noise voices to be recognized in a feature extracting process by a feature extracting part 2, and an optimum model is selected by a model selection determining part 4 from the space of the noise/voice models.例文帳に追加
特徴抽出部2による特徴抽出過程で、認識対象となる入力雑音音声を分析して特徴パラメータ列を抽出し、木構造雑音音声モデル空間から最適なモデルをモデル選択判定部4で選択する。 - 特許庁
The process of source and channel encoding and decoding with the selected parameter values and transmit power level per quality layer minimize a total energy consumption for delivery of multimedia content from a transmitting terminal to a receiving terminal.例文帳に追加
品質レイヤ毎の選択されたパラメータ値および送信電力レベルを用いてソースおよびチャネルを符号化および復号化するプロセスは、送信端末から受信端末へのマルチメディアコンテントの配信のための総エネルギー消費量を最小にする。 - 特許庁
Next, the convolution integration of a probability density function and the original optical image I_0 which expresses the broadening of process factors is repeated by varying the value of a parameter σ, showing the variance degree of the probability density function and a slice level Ith specifying a pattern size.例文帳に追加
つぎに、プロセスファクタの広がりを表す確率密度関数と原光学像I_0との畳み込み積分を、確率密度関数のばらつき度合を表すパラメータσの値と、パターン寸法を規定するスライスレベルIthとを変えながら繰り返す。 - 特許庁
So, a rating result of the map accuracy of a region around the current position of the vehicle is stored, and then a parameter used for the map matching process is temporarily changed into a value having a large correction range when travelling in the area whose map accuracy is poor.例文帳に追加
そこで、車両の現在位置周辺における地図精度の評定結果を記憶しておことで、その後、地図の精度が低い地域を走行する際、マップマッチング処理に用いるパラメータを補正範囲が大きくなる値に一時的に変更する。 - 特許庁
An output from a 1st response part for outputting a signal concerned with process quantity and an output from a 2nd response part for preparing a model response signal for a process from a manipulated variable are inputted to an evaluation part, which offsets the influence of the manipulated variable by utilizing that these input signals are influenced by the manipulated variable to obtain a control parameter.例文帳に追加
プロセス量に関連する信号を出力する第1の応答部の出力と、操作量からプロセスのモデル応答信号を作成する第2の応答部の出力を評価部に入力して、これらの信号が共に操作量の影響を受けていることを利用して、この評価部で操作量の影響を相殺して制御パラメータを求めるようにした。 - 特許庁
The system and the method provide a unified set of model parameter values that result in better accuracy and robustness of simulations at nominal process conditions, as well as the ability to predict lithographic performance at any point continuously throughout a complete process window area without a need for recalibration at different settings.例文帳に追加
システムおよび方法は、公称プロセス条件でのシミュレーションのよりよい精度および堅固性、ならびに、異なる設定での再キャリブレーションの必要なく、完全なプロセスウィンドウ領域全体に連続的にわたるいずれかの点でリソグラフィの性能を予測する能力を結果としてもたらす、統合された1組のモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁
Since it is possible to judge whether a parameter in an epitaxial growth process which decides property of a semiconductor laser device is proper or not rapidly, yield can be improved effectively, thus reducing the number of rejected products and reducing production cost of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体レーザ装置の特性を左右するエピタキシャル成長工程のパラメータが適切であるか否かが迅速に判定できるので、良品率を効果的に向上でき、不合格品の数を少なくできて、半導体装置の生産コストが低減できる。 - 特許庁
A response model such as a mechanism impedance model is applied to a converting process by a motion controller 3-1, the parameter in this response model is variable on every element of a coordinate system discribing the motion of the virtual object or the motion of the ride apparatus 3.例文帳に追加
モーション制御装置3−1による変換処理に、機構インピーダンスモデルなどの応答モデルを応用するとともに、この応答モデルにおけるパラメータは、仮想物体の運動ないしはライド装置3の運動を記述する座標系の要素毎に変更可能とした。 - 特許庁
Parameter change requests and internal information acquisition requests from a display/keyboard 21 to the servo driver 11 and characteristic change requests from a motion command generating part 101 are sent from a communication process part 18 to the servo driver 11 via a slow network 13.例文帳に追加
表示器・キーボード21からのサーボドライバ11に対するパラメータ変更要求や内部情報取得要求、及びモーション指令生成部101からの特性変更要求は、通信処理部18から、低速ネットワーク13を介してサーボドライバ11へ送信する。 - 特許庁
An adjustment instruction generating device 14 calculates parameter correction quantity concerning a process to be adjusted based on normal data stored in the normal data storage device 13 and the qualitative or quantitative changing amounts calculated by the sensitivity calculating device 12.例文帳に追加
調節指示生成装置14は規準データ記憶装置13に記憶されている規準データおよび感度算出装置12により算出された定性的又は定量的変化分に基づいて、調節すべき工程に関してパラメータ修正量を算出する。 - 特許庁
To provide a kneading method and a diluting method in consideration of a diluting process, in a manufacturing method of a coating type magnetic recording medium for reducing a magnetic cluster size as a cohesion parameter of magnetic powder as much as possible and forming a smooth magnetic surface.例文帳に追加
磁性粉末の凝集パラメーターである磁気クラスターサイズの大きさをできる限り小さくしてかつ平滑な磁性面をうることができる塗布型磁気記録媒体の製造方法において希釈工程も考慮した混練方法および希釈方法を提供する。 - 特許庁
Since characteristic parameter is determined to keep exhaust emission within a regulation range and the pulse supercharging valve is operated when the catalyst temperature raise control means executes catalyst temperature raise control, regeneration process of the exhaust emission control catalyst can be executed while keeping exhaust emission within a regulation range.例文帳に追加
触媒昇温制御手段が触媒昇温制御をする際に、排気規制値範囲内となるように特性パラメータを決定して、パルス過給弁を作動するので排気ガスの規制範囲を担保しつつ排気浄化触媒を再生処理できる。 - 特許庁
To provide a carbon material based negative electrode active material having a physical property parameter value in which electrochemical characteristics of a secondary battery are not deteriorated even if a crimping process is conducted in order to manufacture an electrode for the secondary battery, and to provide a method of manufacturing the same or the like.例文帳に追加
本発明は、二次電池用電極の製造のために圧着工程を行っても二次電池の電気化学的特性が劣化しない物性パラメータ値を持つ炭素材料系負極活物質とその製造方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁
In a die structure design process following the layout design, a parameter input related to a plurality of components arranged in a temporary die structure is performed, and the deformation processing of the shapes of the components is performed, and the final press die is displayed in the form of a drawing.例文帳に追加
そしてレイアウト設計工程に続く型構造設計工程では、仮の型構造内に配置された複数の部品に関するパラメータ入力を行って当該部品の形状の変形処理を行って最終的なプレス金型を図面化して表示する。 - 特許庁
One of several spectrum parameters of the laser pulse are specifically modified in order to process the material, or during the processing according to, preferably, a measurement processing parameter.例文帳に追加
本発明によれば、レーザ・パルスの1つまたは数個のスペクトル・パラメータ、即ち、スペクトル振幅および/またはスペクトル位相および/またはそのスペクトル偏波を、好ましくは測定加工変数に応じて、材料を加工するために、あるいは前記加工の実行の間に、特定的に改変する。 - 特許庁
To provide a welder used for AC arc welding or pulsed arc welding in which welding parameter accurately reflecting the heating content without the use of a trial-and-error procedure or in which an on site welding engineer can adjust and control the welding process.例文帳に追加
トライアル・アンド・エラーの手順の使用なしに熱量を正確に反映する溶接パラメータをコントロール可能か、または現場の溶接エンジニアが溶接工程を調節しコントロール可能な、交流溶接またはパルス溶接に使用される溶接機及びその使用方法の提供。 - 特許庁
To provide a semiconductor device that is driven with a low power supply voltage, generates a stable reference voltage in response to the fluctuation of a power supply voltage, and prevents temperature coefficients of the reference voltage from being affected by a change in a parameter in a manufacturing process.例文帳に追加
低い電源電圧で駆動でき、電源電圧の変動に対して安定な基準電圧を生成するとともに、基準電圧の温度係数が製造工程におけるパラメータの変動に影響されにくい半導体装置を提供することである。 - 特許庁
During the treatment of the substrate W by the treatment liquid, a fluctuation is imparted to a process parameter by the control of liquid introduction valves 41-44, flow rate adjustment valves 101-104, a pure water supply source valve 51, a warm pure water supply source valve 52 and a pure water valve 5, etc.例文帳に追加
処理液による基板Wの処理中に、薬液導入バルブ41〜44、流量調整バルブ101〜104、純水供給源バルブ51、温純水供給源バルブ52、純水バルブ5などの制御によって、プロセスパラメータに揺らぎが付与される。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。 |
| Copyright 1994-2010 The FreeBSD Project. All rights reserved. license |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|