「rms.」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dielectric barrier discharge lamp power supply unit which can achieve uniform light emission and reduce the RMS value of the driving voltage applied to a discharge lamp while keeping uniform light emission.例文帳に追加

、均等な発光が実現できるとともに、均等発光を図っても放電灯に印加する駆動電圧の実効値を低く抑えることができる誘電体バリア放電灯電源装置を提供する。 - 特許庁

The piezoelectric layer 5B in the peripheral area has a rocking curve half-value width of X-ray diffraction, which is less than or equal to two degrees, and a surface roughness indicated by RMS fluctuations of the top surface height of the base, which is less than or equal to 2 nm.例文帳に追加

周辺領域の圧電体層５Ｂは、Ｘ線回折のロッキングカーブ半値幅が２．０度以下で、下地の上面の高さのＲＭＳ変動で表される表面粗さが２ｎｍ以下である。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film has at least two polyester film layers in which the square mean square root roughness RMS of a transfer surface is below 10 nm, and the square mean square root roughness RMS of a non-transfer surface is at least 10 nm and below 100 nm.例文帳に追加

転写面の自乗平均平方根粗さＲＭＳが１０ｎｍ未満、非転写面の自乗平均平方根粗さＲＭＳが１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満である、少なくとも２層以上のポリエステルフィルム層を有する二軸延伸ポリエステルフィルムであって、少なくとも転写面の面配向係数が０．１５以下、フィルムのＭＤ方向とＴＤ方向の破断伸度の平均値が１８０％以上、１５０℃において３０分加熱したときのフィルムのＴＤ方向の熱収縮率が０．８％以下、さらに非転写面に以下の（１）および（２）の要件を満たす帯電防止層を有すること。 - 特許庁

The inner surface of this process kit is coated with a first material layer having a smaller RMS surface roughness and is further subjected to a texturing by arc spraying a second material layer or additional material layer.例文帳に追加

プロセスキットの内部表面は、より小さいＲＭＳ表面粗さを有する第１の材料層によりその表面をコーティングされ、より大きいＲＭＳ値を有する第２の材料層若しくは追加の材料層によりアークスプレーすることによってテクスチャード加工される。 - 特許庁

In the crystal, the homotetramer more preferably comprises two crystallographically independent subunits (chain A and chain D) and two subunits (chain C and chain B) positioned symmetrically to them and r.m.s Cα deviation between the two the crystallographically independent subunits (chain A and chain D) is ≤1Å.例文帳に追加

この結晶は、さらに好ましくは、ホモ四量体は結晶学的に独立な2個のサブユニット（Ａ鎖とD鎖）とこれらと対称に位置する２個のサブユニット（C鎖とB鎖）とからなっており、結晶学的に独立な２個のサブユニット間（Ａ鎖とD鎖間）のr.m.s. Cα偏差が１Å以下である。 - 特許庁

The toner comprises at least a binder resin and a colorant, wherein the toner base particles of the toner have (1) a surface roughness Ra of 18-50 nm and (2) a standard deviation RMS of the surface roughness of 0.5-9.9 nm.例文帳に追加

少なくとも、バインダ樹脂、着色剤を含んで構成されるトナーにおいて、該トナーのトナー母材粒子は、（１）表面粗さＲａが１８〜５０ｎｍで、（２）表面粗さの標準偏差ＲＭＳが０．５〜９．９ｎｍであることを特徴とするトナー。 - 特許庁

To satisfy the RMS wavefront aberration and the ray aberration for both DVD and CD by using a means which shifts a part of the faces of lenses in the direction of the optical axis of optical elements including an objective lens in a region which is used for both DVD and CD.例文帳に追加

対物レンズを含む光学素子のＤＶＤとＣＤの両方に用いられる領域において、レンズ面の一部を光軸方向にシフトさせる手段を用いて、ＤＶＤ，ＣＤ共に、ＲＭＳ波面収差と光線収差とを満足すること。 - 特許庁

The RMS processing part 15 calculates an effective value each period of the vibration of the deviation, sends a trigger signal to the auto-tuning part 12 when detecting that the effective value continuously increases over a plurality of periods, and reduces a value of Kp of the PID control part 11.例文帳に追加

ＲＭＳ処理部１５は偏差の振動の１周期ごとに実効値を算出し、複数周期連続して増加していることを検出したときに、オートチューニング部１２にトリガー信号を送出し、ＰＩＤ制御部１１のＫpの値を下げる。 - 特許庁

The thermal dye transfer type image forming donor element of the present invention comprises a yellow dye donor comprising a combination of at least two yellow dyes, and is characterized in that an RMS error indicated by the combination of the yellow dyes is smaller than 0.015.例文帳に追加

本発明による感熱色素転写式画像形成ドナー要素は、２種以上のイエロー色素の組合せを含有するイエロー色素ドナーを含んで成り、該イエロー色素の組合せが示すＲＭＳエラーが０．０１５未満であることを特徴とする。 - 特許庁

The surface of a base material is roughened (110), a polyimide precursor is applied to the roughened surface of the base material (103), imidated by heating (104), and thus a rough film 110 with a roughened surface (not less than 0.05 μm Rms) corresponding to the roughened surface of the base material, is obtained.例文帳に追加

基材の表面を粗化面化し（１１０）、その基材の粗化面にポリイミド前駆体を塗布して（１０３）、加熱イミド化する（１０４）ことにより、基材の粗化面に対応した粗化面（Ｒｍｓ０．０５μｍ以上）を有する粗化フィルム１１０を得る。 - 特許庁

In a formed product comprising a base material and an antifogging thin film on the outermost surface of the base material, the antifogging thin film is characterized in that it has an assemblage of fine asperity having 20-500 Å RMS value on the whole surface.例文帳に追加

本発明の成形体は、基材と、該基材の最表面に防曇性薄膜を具えた成形体であって、該防曇性薄膜は、全面にＲＭＳ値が２０Å以上、５００Å以下の深さの微細凹凸の集合体を有することを特徴とする防曇性薄膜を具える。 - 特許庁

Then, since the element resistance Rms of the cell 120 of the control cell is suitably corrected in response to the change amount of the element resistance Rps of the cell 110, the detecting error in association with the aging or temporary change of the element temperature due to the heater control the sensor 100 can be corrected.例文帳に追加

このとき、ポンプセル１１０の素子抵抗Ｒpsの変化量に応じて制御セルであるモニタセル１２０の素子抵抗Ｒmsが適切に補正されるため、ガス濃度センサ１００のヒータ制御による素子温度の経時的または一時的な変動に伴う検出誤差を補正することができる。 - 特許庁

In the method for inspecting the compound semiconductor substrate, the surface roughness Rms of the compound semiconductor substrate is measured by using an atomic force microscope at pitches of 0.4 nm or less in a visual field in a square of 0.2 μm or less.例文帳に追加

化合物半導体基板の検査方法は、化合物半導体基板の表面の検査方法であって、０．２μｍ以下四方の視野で、０．４ｎｍ以下のピッチで、原子間力顕微鏡を用いて化合物半導体基板の表面粗さＲｍｓを測定する。 - 特許庁

A monitoring method derives a time history response waveform regarding load signals of a guide wheel 5 inputted by a load cell 13 provided on a guide arm 4, derives maximum values or RMS values from the present back to a constant period in the past and stores it for a certain sampling number of times.例文帳に追加

案内アーム４に設けたロードセル１３より入力される案内輪５の荷重信号について、時刻歴応答波形を求め、現時点より過去一定時間までの最大値又はＲＭＳ値を求めて、それを或るサンプリング回数分記憶する。 - 特許庁

To provide a machining method by which both of ≤100 nm flatness and ≤0.15 nm RMS (Root-Mean-Square) of surface roughness are satisfied in a Ti-doped low thermally expansive quartz glass substrate for a reflection type photomask which is used in the exposure by a short wave in UV region or below.例文帳に追加

ＵＶ領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Ｔｉドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦１００ｎｍ、表面の自乗平均平方根粗さ≦０．１５ｎｍＲＭＳを同時に満足する加工法を提供する。 - 特許庁

After treating the group III-V semiconductor substrate by the method, the bulk metal contamination can be substantially completely removed from the substrate while the obtained surface roughness of the substrate after treatment is less than 0.5 nm RMS for a surface grid of 2 μm×2 μm.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る方法を用いてＩＩＩ−Ｖ族半導体基板を処理した後、バルク金属汚染は、基板からほぼ完全に除去できるとともに、処理後の基板の表面粗さは、２μｍ×２μｍの表面グリッドに関して０．５ｎｍＲＭＳ未満とすることができる。 - 特許庁

To obtain a hardness evaluation value as a point value with respect to a contact load under an actual contact load tolerance, in a hardness measurement in which root-mean-square (RMS) values of acceleration are measured when a sinusoidal force is applied under a prescribed contact load in order to obtain the hardness evaluation value of a skin.例文帳に追加

所定の接触荷重のもとで正弦波の力を印加したときの加速度の実効値を測定して皮膚の硬さの評価値を得る硬さ測定において、“点”としての接触荷重における硬さ評価値を、現実的な接触荷重の許容範囲のもとで得る。 - 特許庁

A diamond wafer 13 is characterized in that a recess 17 formed by the irradiation of a gas cluster ion beam and having a bottom 17c with a surface roughness Rms of 0.1 to 10 nm is formed at a position where a absorber 16 for absorbing radiation light, etc., is arranged on the surface of a permeable membrane 12 facing a material to be transferred.例文帳に追加

ダイヤモンドウェハ１３は、透過膜１２の被転写体側の面であって照射光等の吸収体１６を配設する部位にガスクラスターイオンビームの照射によって表面粗さがＲｍｓ＝０．１〜１０ｎｍの底面１７ｃを有する凹部１７が設けられたことを特徴とする。 - 特許庁

Its preparation method includes a step of finishing a rim surface at both ends of a layer in which a curable resin and a reinforced fiber are mixed into a rough surface having a root mean square roughness (RMS) of 0.5-20 μm and a wetting exponent of 56 or more by concave-convex transfer of a fabric tape with a fineness of 40-500 denier or sanding.例文帳に追加

その製造方法は、硬化性樹脂と強化繊維の混ざり合った層の両側縁表面を、繊度が４０〜５００デニールの織物テープの凹凸転写か研磨により、自乗平均粗さ（ＲＭＳ）０．５〜２０μｍで濡れ指数５６以上の粗面に仕上げる工程を含む。 - 特許庁

To satisfy the RMS wave aberration and the ray aberration for both DVD and CD by using a means which shifts a part of the faces of lenses in the direction of the optical axis of optical elements including an objective lens in a region which is used for both DVD and CD.例文帳に追加

対物レンズを含む光学素子のＤＶＤとＣＤの両方に用いられる領域において、レンズ面の一部を光軸方向にシフトさせる手段を用いて、ＤＶＤ，ＣＤ共に、ＲＭＳ波面収差と光線収差とを満足すること。 - 特許庁

A semiconductor film 5 having a flat main surface (having an RMS value less than 10 nm as a surface roughness and a P-V value less than 70 nm) is formed by crystallizing a silicon film 3 containing (several % of or preferably 0.1-10 atoms of) germanium and irradiating the film with a laser beam.例文帳に追加

ゲルマニウム（数％、好ましくは０．１〜１０原子）を含むシリコン膜３を結晶化させてレーザー光を照射することによって、平坦な主表面（表面粗さとしてｒｍｓが１０ｎｍ未満、且つ、Ｐ−Ｖ値が７０ｎｍ未満）を有する半導体膜５を形成する。 - 特許庁

The reflector layer has at least one among an electrical conductivity exceeding about 5.0×10 (Ω.cm) an RMS surface roughness below about 1.0 nm in measurement by an atom force microscope and a refractive index below about 0.5 at a read-out wavelength.例文帳に追加

反射体層は、約５．０×１０^4（Ω・ｃｍ）^-^1を超える導電率、原子間力顕微鏡による測定で約１．０ｎｍ未満のＲＭＳ表面粗さ、および読出波長において約０．５未満の屈折率のうちの少なくとも１つを有する。 - 特許庁

Related to safety diagnosis against an abrupt external force, a reference point displacement is estimated for the object 91, and the energy transmissibility (RMS ratio) is used to calculated an estimated maximum value of an interested physical amount which is compared with a tolerable maximum displacement (step 1010, step 1012, and step 1013).例文帳に追加

突発的外力に対する安全性診断は、対象物９１の基準点変位予測を行い、前述したエネルギ伝達率（ＲＭＳ比）を用いて注目物理量の予測最大値を算出し、許容最大変位と比較して安全性の診断を行う（ステップ１０１０、ステップ１０１２、ステップ１０１３）。 - 特許庁

The substrate for an electronic device has a pair of main surfaces opposite to each other, the surface roughness of the main surface is 0.4 nm or less at RMS (root mean square roughness), and both main surfaces are different in surface roughness.例文帳に追加

基板は対向する一対の主表面を有し、前記主表面の表面粗さがＲＭＳ（二乗平均平方根粗さ）で０.４ｎｍ以下であり、且つ、両主表面の表面粗さが異なるように構成される電子デバイス用基板とした。 - 特許庁

The gas barrier film with a silicon oxide thin film on a polyester film has a thin film thickness of 0.5 to 40nm and a thin film surface roughness Rms in the area of 10 μm square of 3nm or more.例文帳に追加

ポリエステルフィルム上に酸化珪素薄膜を有するガスバリア性フィルムであって、該薄膜の厚さが０．５〜４０ｎｍであり、且つ、該薄膜の１０μｍ角面積の表面粗さＲｍｓが３ｎｍ以上であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 - 特許庁

It also comprises a laser crystal positioned in a resonator cavity, a nonlinear conversion device positioned in the resonator cavity, a diode pump source for supplying a pump beam with a %RMS noise of less than 3% to the laser crystal, and a power supply apparatus for supplying power to the diode pump source.例文帳に追加

共振キャビティに配置されたレーザ結晶と、共振キャビティに配置された非線形変換装置と、レーザー結晶に３％未満の％ＲＭＳノイズを有するポンプビームを供給するダイオードポンプソースと、ダイオードポンプソースに電力を供給する電力供給装置とを備える。 - 特許庁

In the resonant type inverter for an RF generator for a high-frequency thermal therapy which amplifies an oscillating frequency output from an oscillator into high power to supply to an electrode, it includes an resonant type inverter which processes the oscillating frequency output from the oscillator to a high power sine wave having a frequency of 480 KHz and RMS output of 30-200 watt and transmits it to the electrode.例文帳に追加

オシレータから出力される発振周波数を高出力に増幅させて電極に供給する高周波熱治療用ＲＦジェネレータの共振型インバータにおいて、前記オシレータから出力される発振周波数を、周波数が４８０ＫＨｚで、ＲＭＳ出力が３０〜２００ワットである高出力正弦波に処理して電極に伝達する共振型インバータとを含む。 - 特許庁

A surface of a glass substrate containing SiO_2 as main component is polished by a polishing slurry including colloidal silica having an average primary particle size of at most 50 nm, an acid and water, and having pH adjusted to be in a range of 0.5-4, so that the surface roughness Rms measured by an atomic force microscope becomes not higher than 0.15 nm.例文帳に追加

平均一次粒子径が５０ｎｍ以下のコロイダルシリカ、酸および水を含み、ｐＨが０．５〜４の範囲になるように調整してなる研磨スラリーを用いて、ＳｉＯ_２を主成分とするガラス基板の表面を、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さＲｍｓが０．１５ｎｍ以下になるように研磨する。 - 特許庁

Boundary data are extracted from whole surface measured data of the lens array, and divided into each effective divided data and a boundary gray zone relative to each cell, and coordinate transformation for RMS minimization is performed in a design expression of each cell, and the eccentricity, the inclination, a height deviation and a best fit R from a design value are calculated and displayed relative to each cell.例文帳に追加

レンズアレイの全面測定データから境界データを抽出し、セルごとに有効な各分割データと境界グレーゾーンに分割し、各セルの設計式の中でＲＭＳ最小化の座標変換を行い、セルごとに設計値からの偏心、傾き、高さずれ、ベストフィットＲを算出して表示する。 - 特許庁

First low-pass filter processing 410 is applied to an input data sample sequence 405 to obtain a 1st low-pass filter sample sequence 450 and a 1st additional processing (high-pass filter 420 and RMS computing element 430) is applied to the 1st low-pass filtering sample sequence to obtain a 1st measurement value sequence 440.例文帳に追加

前記入力データ・サンプル列（４０５）に第１の低域通過濾波処理（４１０）を実施して、第１の低域濾波サンプル列（４５０）が得られるようにし、該第１の低域濾波サンプル列に第１の追加処理（高域通過フィルタ４２０，ＲＭＳ計算器４３０）を実施して、第１の測定値列（４４０）が得られるようにする。 - 特許庁

Namely, a plurality of or a single toner layer is fixed as an image on a transfer body and the RMS (Root Mean Square) surface roughness (Rq) of the fixed layer is set within a range of a 60° luster degree (5/Gmax[%]<Rq[μm]<5/Gmin[%], where Gmin[%] is a minimum value and Gmax[%] is a maximum value).例文帳に追加

すなわち、複数または単一のトナー層を画像として転写体上に定着する画像形成方法において、定着された層におけるＲＭＳ（Ｒｏｏｔ・Ｍｅａｎ・Ｓｑｕａｒｅ）表面粗さ（Ｒｑ）を、６０度光沢度の範囲（最小値Ｇｍｉｎ［％］、最大値Ｇｍａｘ［％］）において、５／Ｇｍａｘ［％］＜Ｒｑ［μｍ］＜５／Ｇｍｉｎ［％］とする。 - 特許庁

A gas-barrier resin molded article is obtained by plasma-etching the surface of a resin molded article to attain the root-mean square roughness (Rms) into 3 nm or lower and forming a diamond like carbon film of 5-20 nm thickness by a plasma CVD method on a surface of a resin molded article.例文帳に追加

本発明のガスバリア性樹脂成形体は、樹脂成形体の表面にプラズマエッチング処理を施すことにより二乗平均粗さ（Ｒｍｓ）を３ｎｍ以下にする工程、次にプラズマＣＶＤ法により樹脂成形体の表面に膜厚が５〜２０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜を形成することにより得られる。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated substrate includes a step of forming a first buffer film having a surface of 0.1 to 10,000 nm in surface roughness R_rms on at least one of a group III nitride semiconductor substrate and a first support substrate and a step of laminating the group III nitride semiconductor substrate on the first support substrate with the first buffer film interposed.例文帳に追加

この貼り合わせ基板の製造方法は、III族窒化物半導体基板及び第１支持基板のうち少なくとも一方上に、表面粗さＲ_ｒｍｓが０．１〜１００００ｎｍの表面を有する第１緩衝膜を形成する工程と、第１緩衝膜を介して、第１支持基板にIII族窒化物半導体基板を貼り合わせる工程とを含む。 - 特許庁

The silver halide photographic sensitive material has at least two infrared sensitive layers on a transparent base, infrared wavelength λmax giving the maximum sensitivity of its spectral sensitivity curve is 670-840 nm, graininess (RMS value) at the minimum density (Dmin) is 3-10 and an image is formed by black-and-white development after image exposure.例文帳に追加

透明支持体上に、少なくとも２層の赤外感光性層を有し、その分光感度曲線の最大感度を与える赤外波長λｍａｘが６７０ｎｍ以上８４０ｎｍ以下であり、かつ最小濃度（Ｄｍｉｎ）における粒状度（ＲＭＳ値）が３以上１０以下であり、画像露光後、白黒現像処理によって画像を形成する赤外撮影用ハロゲン化銀写真感光材料及び画像形成方法。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film for optical use is a polyester film having a coated layer on at least one side and has a film haze of 1.0-3.0%, a SRa of both film sides of 0.005-0.020 μm and a RMS (root mean square roughness) of 0.010-0.035 μm.例文帳に追加

少なくとも片面に塗布層を有するポリエステルフィルムであり、フィルムヘーズが１．０〜３．０％の範囲であり、フィルム両面のＳＲａが０．００５〜０．０２０μｍ、ＲＭＳ（平均自乗根粗さ）が０．０１０〜０．０３５μｍの範囲にそれぞれあることを特徴とする光学用二軸配向ポリエステルフィルム。 - 特許庁

Since the whole becomes too smooth, the possibility of being joined with the silicon wafer is generated and the slips are caused by a prescribed amount of acid etching for removing contaminations by machining, the surface in contact with the wafer is face roughned to 0.3 μm to 100 μm (RMS) by alkali etching, and thus the slips are remarkably reduced.例文帳に追加

機械加工による汚染を除去するために所定量の酸性エッチングを施すことで、全体が滑らかになりすぎてシリコンウエーハと接着する可能性が生じてスリップの発生を招来するため、ウェーハと接触する表面を、アルカリエッチングによる０．３μｍ〜１００μｍ（ＲＭＳ）の表面荒さとなすことで、スリップの発生を著しく低減できる。 - 特許庁

Preferably in the method for processing cylindrical fluoride single crystal with (100) crystal face, the processing is a cylindrical grinding process, and the surface roughness (RMS) of the ground face of single crystal cylinder after the cylindrical grinding processing is 0.1-5.0 μm.例文帳に追加

育成された単結晶インゴットを切断して多角体を得、該多角体をアニール処理した後、さらに切断、加工する、（１００）結晶面のフッ化物単結晶の加工方法であって、上記加工が円筒研削加工であり、該円筒研削加工後の単結晶円筒研削加工面の表面粗さ（ＲＭＳ）が０．１〜５．０μｍであることを特徴とする、（１００）結晶面の円筒状フッ化物単結晶の加工方法等を採用する。 - 特許庁

In the coupling optical system having a positive focal distance, including at least one plastics lens and using a material such as a polyolefin-based resin or a norbornene-based resin having ≤0.5% saturated water absorption, the maximum mount of change in a wavefront aberration by water absorption of the plastics lens in a numerical aperture corresponding to the maximum amount of tracking is suppressed to 0.02 λ rms or less.例文帳に追加

カップリング光学系は正の焦点距離を有すると共に少なくとも１枚のプラスチックレンズを含み、ポリオレフィン系樹脂もしくはノルボルネン系樹脂のような飽和吸水率が０．５％以下の材料を用い、プラスチックレンズの吸水による波面収差の最大変化量を、最大トラッキング時に対応する開口数において、０．０２λｒｍｓ以下に抑える。 - 特許庁

In the silver halide color photographic sensitive material with at least one blue-sensitive layer, at least one green-sensitive layer and at least one red-sensitive layer on the base, when RMS(root mean square) graininess and substantial fog in each minimum density part are represented by PG and S, respectively, at least one of yellow, magenta and cyan densities satisfies 10≤PG/S≤75.例文帳に追加

支持体上に青感光性層、緑感光性層、赤感光性層をそれぞれ少なくとも１層有するハロゲン化銀カラー写真感光材料において、最小濃度部におけるＲＭＳ粒状度をＰＧ、実質カブリをＳとしたとき、イエロー濃度、マゼンタ濃度、シアン濃度の少なくとも１つが、 １０≦ＰＧ／Ｓ≦７５ であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料である。 - 特許庁

Thereby, an area of additional capacitor between gate and source formed by superimposing the gate wiring on a pixel electrode according to a PVA structure is shifted from the main pixel to the sub pixel, a kick back voltage of the main pixel is reduced and the defective image quality caused by pixel RMS can be corrected.例文帳に追加

それにより、ＰＶＡ構造でゲート配線とピクセル電極とが重畳することにより発生する追加的なゲート/ソース間キャパシターの面積をメインピクセルからサブピクセルに移行し、メインピクセルのキックバック電圧を減少してピクセルのＲＭＳ原因によって発生する画質不良を改善することができる。 - 特許庁

As for the achromatic lens, the refractive lens is made of a refractive lens material being at least one selected from a group consisting of lithium fluoride and magnesium fluoride and the diffraction lens is made of a diffraction lens material being at least one selected from a group consisting of lithium fluoride and magnesium fluoride, wherein the mean square deviation value (rms value) of the surface roughness of the grating of the diffraction lens is 5 nm or less.例文帳に追加

この色消しレンズでは、屈折レンズは、フッ化リチウム、フッ化マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である屈折レンズ材料を用いて形成されており、回折レンズは、フッ化リチウム、フッ化マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である回折レンズ材料を用いて形成されており、回折レンズの格子の表面粗さの平均二乗偏差値（ｒｍｓ値）は、５ｎｍ以下である。 - 特許庁