「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Pattern generators are reduced to one set, and two scanning electromagnet power sources can be controlled by one pattern generator.例文帳に追加

パターン発生装置を１台に削減し、１つのパターン発生装置で２台のスキャン電磁石電源を制御できる。 - 特許庁

A Nyquist space frequency ladder pattern is read at an initial image forming position in a main scanning direction is read in a 1st scanning, the optical flat glass plate 4 is tilted in a 2nd scanning to read the same Nyquist space frequency ladder pattern.例文帳に追加

第１の走査で主走査方向のイニシャル結像位置でのナイキスト空間周波数ラダーパターンを読み込み、第２の走査で光学平板ガラス４を傾けて、同じナイキスト空間周波数ラダーパターンを読み込む。 - 特許庁

To provide a bit-compressed test pattern to a scanning chain of a circuit under a test, and to handle test patterns of different scanning chain lengths when a decompressed test pattern thereof is applied to the scanning chain.例文帳に追加

テスト中回路中の走査チェーンにビットの圧縮したテストパターンを提供し、これが解凍されたテストパターンを走査チェーンに適用するに際して、異なる走査チェーンの長さのテストパターンを扱えるようにする。 - 特許庁

PATTERN CONTOUR EXTRACTION METHOD, IMAGE PROCESSING METHOD, PATTERN EDGE RETRIEVAL METHOD, PROBE SCANNING METHOD, PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加

パターン輪郭の抽出方法、画像処理方法、パターンエッジの探索方法、プローブの走査方法、半導体装置の製造方法、パターン検査装置およびプログラム - 特許庁

To improve the accuracy of a drawing position in the circumferential direction of each pattern when a fine pattern formed by alternately disposing a groove pattern and a servo pattern in the circumferential direction is drawn by electron beam scanning.例文帳に追加

周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a new technology for converting an image scanning pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、画像の走査パターンを変換する新たな技術を提供することである。 - 特許庁

The velocity of the scanning and the moving speed of a phase of the periodic pattern have a specific relation.例文帳に追加

走査の速度と、周期的パターンの位相の移動速度が一定の関係を有する。 - 特許庁

A pattern generation section signal for evaluating scanning beams is generated for a pixel to be evaluated.例文帳に追加

評価対象画素に走査ビーム評価用のパターン発生区間信号を発生する。 - 特許庁

Predetermined arithmetic processing is executed to data obtained by scanning operation using a main pattern.例文帳に追加

メインパターンを用いたスキャン動作によって得られたデータに所定の演算処理を実行する。 - 特許庁

In such a way, the gradation pattern of each color is formed being scattered in the main-scanning direction.例文帳に追加

このようにして、各色の階調パターンを主走査方向に分散して形成する。 - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, AND COMPOUND INSPECTION METHOD OF PATTERN BY USING IT例文帳に追加

走査型電子顕微鏡、および走査型電子顕微鏡を用いたパターンの複合検査方法 - 特許庁

To control the temperature of a mask during the scanning exposure for transcription of a pattern to a material.例文帳に追加

物体に対するパターンの転写のための走査露光中にマスクを温度調整する。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING RESIST PATTERN, SCANNING ELECTRON MICROSCOPE TYPE DIMENSION MEASURING DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジストパターン測定方法、走査電子顕微鏡型測長装置及び半導体装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING DIMENSION OF CIRCUIT PATTERN BY USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

走査型電子顕微鏡を用いた回路パターンの寸法計測装置およびその方法 - 特許庁

To provide a method for raster scanning charged particle beam exposure by which a substrate can be exposed to a desired pattern.例文帳に追加

所望パターンを露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device capable of decreasing irregularity occurring in the seam of scanning regions.例文帳に追加

走査領域の繋ぎ目に生じるムラを緩和できるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

An auxiliary pattern board 33 formed with a slit pattern 36 and a pattern 37 for difference in level is set at a position adjacent to a scanning direction to the holding face of a reticle R of a reticle stage 31 of a scanning type exposure device.例文帳に追加

走査型露光装置のレチクルステージ３１のレチクルＲの保持面に対して走査方向に隣接する位置に、スリットパターン３６及び段差用パターン３７が形成された補助パターン板３３を設置する。 - 特許庁

A main scanning resist pattern for each color is produced in the conveyance belt (S104), and a main scanning direction resist distance Rx is calculated (S105).例文帳に追加

次に，搬送ベルトに各色の主走査レジストパターンが作成され（Ｓ１０４），主走査方向レジスト距離Ｒｘが求められる（Ｓ１０５）。 - 特許庁

Scanning width of a carriage is kept constant at the time of printing a regulation pattern regardless of the sheet size or the type of regulation pattern.例文帳に追加

調整パターンの印字時のキャリッジの走査幅を、用紙サイズ及び調整パターンの種別にかかわらず、常に一定幅とした。 - 特許庁

To make a plotting pattern of an electronic pen and a bit map pattern based on a detection signal to be similar even if column/row scanning speeds differ.例文帳に追加

列,行走査速度が異なっても電子ペンの描画パターンと検出信号に基づくビットマップパターンとを相似形にする。 - 特許庁

A modulation pattern signal generating unit 42 figures out from a projection pattern a laser beam emission intensity matching the scanning angle that has been figured out.例文帳に追加

変調パターン信号生成部４２は、求められた走査角度に対応するレーザー発光強度を投影パターンから求める。 - 特許庁

An optical scanning part 4 scans the inspected pattern with a laser beam and a photoelectric image processing part 5 generates an image of the inspected pattern.例文帳に追加

光学的走査部４は被検査パターンをレーザービームで走査し、光電画像処理部５は被検査パターンの画像を生成する。 - 特許庁

To improve precision of alignment when forming an upper layer pattern by overlaying it on a lower layer pattern using a scanning exposure apparatus.例文帳に追加

スキャン露光装置を用いて、下層のパターンに重ね合わせて上層のパターンを形成する際、重ね合わせ精度向上を図る。 - 特許庁

In a print process carried out by lithography, a substrate moves in the direction of scanning relatively to a radiation beam with a pattern projected on the substrate, in exposure for scanning a pattern feature.例文帳に追加

リソグラフィによるプリントプロセスにおいて、パターンフィーチャのスキャン露光中に、基板上に投影されているパターン付き放射ビームに対して相対的に、基板がスキャン方向において移動される。 - 特許庁

A first scanning pattern and a second scanning pattern are emitted respectively from reading windows 13a and 13b, and a grip 12 is installed on a head part 11 to enable the reading device to be gripped.例文帳に追加

第一の走査パターンと第二の走査パターンとを読取窓１３ａ と１３ｂとからそれぞれ出射するととも、ヘッド部１１に把手１２を取付け読取装置を把持可能とする。 - 特許庁

Recording dot pitch p in the main scanning direction is equalized to the recording dot pitch q in the sub-scanning direction, a shift dot pattern where the position of dots 35 is shifted by p/2 in the main scanning direction is generated between adjacent lines 31 in the sub-scanning direction, and print out is effected based on that shift dot pattern.例文帳に追加

主走査方向の記録ドットピッチｐと副走査方向の記録ドットピッチｑとを等しく定め、副走査方向で隣接するライン３１間ではドット３５の位置を主走査方向にｐ／２だけずらしたシフトドットパターンを生成し、そのシフトドットパターンに基づいて印字出力する。 - 特許庁

A random number pattern generator 21 generates a scan-in signal and outputs it to a scanning timer 0 (22-1), and a scanning timer 1 (22-2) having the same function as the scanning timer 0 (22-1).例文帳に追加

乱数パターン発生器２１は、スキャンイン信号を生成して、スキャン化タイマ０（２２−１）と、スキャン化タイマ０（２２−１）と同一の機能を有するスキャン化タイマ１（２２−２）とに出力する。 - 特許庁

The scanning beam is detected while the detection section 20 is being moved in the beam main scanning direction, the position of the detection section 20 is stored in synchronization with the pattern for evaluating scanning beams, thus measuring and evaluating the position of the scanning beam according to the position of the scanning beam and that of the detection section 20.例文帳に追加

検出部２０をビーム主走査方向に移動しながら走査ビームを検出し、検出部２０の位置を走査ビーム評価用パターンと同期して記憶して、走査ビーム位置と検出部２０の位置とによって走査ビームの位置を測定評価する。 - 特許庁

To provide a scanning position detector of a scanning optical system with which linearity is measured in a short time and with high precision without requiring a special evaluation pattern and with which versatility is made high, a scanning position detecting method of the scanning optical system, the scanning optical system which is provided with the scanning position detector or the scanning position detecting method and an image forming apparatus.例文帳に追加

リニアリティを短時間に高い精度で測定でき、特別な評価用パターンを必要とせず汎用性の高い走査光学系の走査位置検出装置、走査光学系の走査位置検出方法を提供し、かかる走査位置検出装置あるいは走査位置検出方法を具備した走査光学系および画像形成装置を得る。 - 特許庁

Here, an amount of the extension of the sub-scanning length of the reference color pattern is the maximum value of the sub-scanning displacement between two colors considered as a system.例文帳に追加

ここで、基準色パターンの副走査長さ延長量は、システムとして見込まれる２色間の副走査位置ずれの最大値とした。 - 特許庁

A signal obtained by scanning by each scanning pattern is integrated at an integrating unit and a processing unit compares each integrated value.例文帳に追加

各走査パターンによる走査に基づいて得られた信号は積算ユニットで積算され、各積算値の比較が処理ユニット３３で行われる。 - 特許庁

Then the amorphous silicon is scan-irradiated with a beam pattern 16 in a second scanning direction 15 different from the first scanning direction 12 by 90° (a second crystallization process).例文帳に追加

次に、第１のスキャン方向１２と９０°異なる第２のスキャン方向１５にビームパターン１６をスキャン照射する（第２の結晶化工程）。 - 特許庁

To provide an image scanner and a method for determining a scanning start position by an arcuate calibration pattern.例文帳に追加

弧状の校正パターンで走査開始位置を決める画像走査装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A picture data processor has a pattern recognition part 41, a memory block 42 and a main scanning counting part 45.例文帳に追加

画像データ処理装置は、パターン認識部４１、メモリブロック４２、主走査カウント部４５を有する。 - 特許庁

Pattern data and their scaling values are fed from a controlling CPU 1 to a scanning-signal generator 2.例文帳に追加

制御ＣＰＵ１から走査信号発生器２には、パターンデータと共にスケーリング値が供給される。 - 特許庁

To provide a mask pattern correction method with high dimensional accuracy using a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡を用いた、寸法精度の高いマスクパターン修正方法を提供すること。 - 特許庁

To record pattern data (character data) positioned on an arbitrary horizontal scanning line.例文帳に追加

任意の水平走査線上に位置するパターンデータ（文字データ）を記録することができるようにする。 - 特許庁

Data of each divided rectangular pattern Pa, Pb is sent to the scanning signal generating circuit 6.例文帳に追加

分割された各矩形パターンＰａ，Ｐｂのデータは走査信号発生回路６に送られる。 - 特許庁

However, the scanning lines are connected to the upper part electrode of an electron source 10 by the electrode pattern 39.例文帳に追加

しかし、走査線は電極パターン３９によって、電子源１０の上部電極と接続する。 - 特許庁

A decompressor 36 in the circuit 34 decompresses the compressed pattern to be applied to the scanning chain 26.例文帳に追加

回路３４内のデコンプレッサー３６は圧縮したパターンを解凍し、走査チェーン２６に適用する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, SCANNING CIRCUIT DESIGNING METHOD,TEST PATTERN CREATION METHODS AND SCAN TEST METHOD例文帳に追加

半導体集積回路、スキャン回路設計方法、テストパターン生成方法、および、スキャンテスト方法 - 特許庁

A printer draws unit patterns 31a to 31f which constitute a test pattern by forward stroke scanning.例文帳に追加

プリンタは、往路走査によりテストパターンを構成する単位パターン３１ａ〜３１ｆを描画する。 - 特許庁

Specifically, the sub-scanning length of the reference color pattern is extended, therefore, even if sub-scanning displacement occurs, an amount of sub-scanning displacement can correctly be calculated with a sensor output that is the same as that in the case where sub-scanning displacement does not occur.例文帳に追加

すなわち、基準色パターンの副走査長さを延長しているので、副走査位置ずれがある場合でも、副走査位置ずれがない場合と同様のセンサ出力で、正しく主走査位置ずれ量を算出することができる。 - 特許庁

In this test pattern dots are regularly lined in a main scanning direction and a sub scanning direction, thereby the test pattern is viewed in a uniform condition without unevenness in density when printing in suitable recording timing.例文帳に追加

このテストパターンは、主走査方向および副走査方向に規則正しくドットが並んでいるため、適正な記録タイミングで印刷された場合には、濃淡のムラのない一様な状態として目視される。 - 特許庁

A line width detection unit 18 detects a line width of main scanning direction and a line width of sub scanning direction for a line width detection pattern, respectively, based on input image data from a pattern detection portion 16.例文帳に追加

線幅検出部１８は、パターン検出部１６からの入力画像データに基づいて、線幅検出パターンの主走査方向の線幅および副走査方向の線幅をそれぞれ検出する。 - 特許庁