「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

A controller 100 partially adds or deletes the pixel piece to/from one pixel in a prescribed scanning period through the use of a shift register 45 while aiming to change the period of a PWM signal as a luminous pattern signal outputted from a PWM signal generation circuit 41.例文帳に追加

コントローラ１００は、ＰＷＭ信号生成回路４１から出力される発光パターン信号であるＰＷＭ信号の周期を変更することを意図して、シフトレジスタ４５を用い、１画素に対して画素片の追加もしくは削除を所定の走査期間において部分的に行う。 - 特許庁

The control means 21 controls the scanning of the deflection means 2 by superposing a scan signal on a deflection signal, when electron beam profiles such as an emission pattern are displayed on a displaying means based on x-ray detection data obtained by the x-ray detection means 20.例文帳に追加

制御手段２１は偏向信号にスキャン信号を重畳して各偏向手段２を走査制御し、そのとき表示手段には前記Ｘ線検出手段２０で得られたＸ線検出データに基づいて電子ビームプロファイル、例えばエミッションパターンが表示される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, capable of being substituted for a printer, which forms images of high quality by correcting positions in a main scanning direction and a subscanning direction and misregistration correction amounts of skews of lead, side skews, etc. even if there are errors in the attaching position of a detection means for detecting a pattern for misregistration detection.例文帳に追加

レジずれ検出用パターンを検出する検出手段の取り付け位置に誤差がある場合であっても、主走査方向及び副走査方向の位置、リードのスキュー、サイドのスキュー等のレジずれ補正量を補正して、印刷機に代替可能な高画質な画像を形成する。 - 特許庁

To provide a printed matter in which a scanning padded with machine readable information in an arbitrary gradation image, and reproducing gradation and information becomes as a minute geometric pattern; in a precious printed matter such as a security printed matter including bank note, a certificate printed matter such as a passport, and a qualification certificate.例文帳に追加

銀行券を始めとする証券印刷物、パスポートや資格証等の証明印刷物等の貴重印刷物において、任意の階調画像に機械読取情報を埋め込み、かつ、階調及び情報を再現する画線が細密な幾何学模様となる印刷物を提供する。 - 特許庁

A restriction information computing section 113 generates restriction information that is referred to by the halftone processing section 108 about a second color to be processed next, on the basis of the scanning duty calculated about a first color, the dot pattern, and an amount of satellites detected by a satellite amount detecting section 207.例文帳に追加

そして制約情報演算部１１３では、第１の色について算出された走査Ｄutyとドットパターン、サテライト量検出部２０７で検出されたサテライト量とに基づいて、次に処理される第２の色についてハーフトーン処理部１０８で参照される制約情報を作成する。 - 特許庁

To provide an apparatus difference control apparatus capable of reducing a measured dimension difference among a plurality of apparatuses by simply estimating generation factors of the apparatus difference to calibrate a scanning electron microscope apparatus based on the estimation result, and allowing further accurate dimension control of a wiring pattern.例文帳に追加

機差の発生要因を簡便に推定し、この推定結果を元に走査電子顕微鏡装置を較正することで、複数台の装置間における計測寸法差を低減させ、より高精度な配線パターンの寸法管理を可能とする機差管理装置を提供することにある。 - 特許庁

The surface of a substrate is irradiated and scanned with a linearly polarized laser beam by using a femtosecond laser to plot a pattern having a plurality of concave and convex parts extending to the direction which is perpendicular to the polarization direction of the laser beam and has a crossing with the scanning direction.例文帳に追加

フェムト秒レーザを用いて直線偏光のレーザ光を基材の表面に照射すると共に走査することにより、レーザ光の偏光方向と直交する方向であって、かつ走査方向と交差する方向に延在する複数の凹凸を有するパターンを描画する。 - 特許庁

An edge detection method detects the second edge orthogonal to the edge to be detected, and sets a final scan range inside the second edge by scanning an image area which is slightly larger, including the edge of the semiconductor pattern among observed images.例文帳に追加

本発明に係るエッジ部分検出方法では、観察画像のうち半導体パターンのエッジ部分を含む大きめの画像領域を走査することにより、検出対象のエッジ部分と直交する第２エッジ部分を検出し、最終的な走査範囲を第２エッジ部分よりも内側に設定する。 - 特許庁

To provide a size analysis program accurately determining parameters such as a correlation distance and variance required to evaluate the roughness of a pattern of a semiconductor device by using a size measurement apparatus such as a scanning electron microscope or the like, and a size measurement apparatus.例文帳に追加

本発明は、走査電子顕微鏡等の寸法測定装置を用いて、半導体デバイスのパターンのラフネスを評価する際に要する相関距離や分散といったようなパラメータを、正確に決定することが可能な寸法解析プログラム、寸法計測装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus using microlens arrays capable of aligning an image of a mask pattern with a prescribed position, even if the size of a substrate to be exposed is changed due to changes in the characteristics of the exposure apparatus and manufacturing conditions such as temperature conditions.例文帳に追加

マイクロレンズアレイを使用した露光装置において、露光装置特性及び温度条件等の製造条件の変動に起因して、被露光基板の大きさの変動が生じても、マスクパターンの像を所定位置に合わせることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。 - 特許庁

A scanning electrode 21 and a sustaining electrode 22 are constructed of electrode lines 23 that are split into plural lines in the arranging direction of the electrode, and the space between the electrode lines 23 are made an electrode pattern joined electrically by the short bars, and above short bars 24 are arranged at random.例文帳に追加

走査電極２１および維持電極２２をこの電極の配列方向に複数本に分割された電極ライン２３で構成するとともにその電極ライン２３間をショートバー２４で電気的に結合した電極パターンとし、かつ前記ショートバー２４をランダムに配置した。 - 特許庁

The LCD display driving circuit 48 successively plots the inputted image data on the image screen of the LCD display 12 according to the plotting starting point and the lateral scanning direction specified by the plotting switching circuit 48A, and displays an image of a variable pattern on the LCD display 12.例文帳に追加

そして、ＬＣＤ表示器駆動回路４８は、入力される画像データを描画切換回路４８Ａによって特定される描画開始点及び左右走査方向に従ってＬＣＤ表示器１２の画面上に順次描画して、変動図柄の画像をＬＣＤ表示器１２に表示する。 - 特許庁

In the test pattern, a first region where the formation density of first dots is higher than that of second dots, and a second region where the formation density of second dots is higher than of the first dots are mixed in main and sub-scanning directions.例文帳に追加

このテストパターンは、第１のドットの形成密度が第２のドットの形成密度よりも高い第１の領域と、第２のドットの形成密度が第１のドットの形成密度よりも高い第２の領域とが、主走査方向および副走査方向に混在するテストパターンである。 - 特許庁

This failure position detecting method includes irradiating an X ray 3 from an X ray source 1 toward a semiconductor device 7, scanning, measuring a current value which flows out from a conductive layer (TEG pattern 8) of the semiconductor device 7 by a current meter 6, and detecting a failure position in the conductive layer.例文帳に追加

半導体装置７にＸ線源１からＸ線３を照射し、走査して、この半導体装置７の導電層（ＴＥＧパターン８）から流出する電流の値を電流計６で測定し、導電層内の欠陥位置を検出するようにした欠陥位置検出方法。 - 特許庁

To determine steps or unevenness formed on a sample by a simple technique or obtain three-dimensional information by using a charge particle beam device such as a scanning electron microscope, and particularly to provide a determination method or its device suitable for unevenness determination of a line and space pattern formed on a sample.例文帳に追加

走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは３次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

In a method, in which the image of a photomask pattern provided on a photomask is projected and exposed upon and on a surface to be exposed by irradiating the photomask with light from an exposure light source by means of a projection optical system, the image is projected and exposed upon the surface to be exposed by scanning the photomask, while the photomask is housed in a hermetically sealable enclosure.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して、フォトマスクパターンの像を、投影光学系により被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを、密閉可能な筐体に収装し、前記筐体内部において走査させ、投影露光する。 - 特許庁

Furthermore, in the scanning charged particle microscope for semiconductor test and semiconductor measurement, by using a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like by using the image after image restoration, measurement precision improvement and high precision of defect detection and defect classification or the like become possible.例文帳に追加

さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁

If a setting is performed so that an image-formation position is conformed to a reading image surface 16, a scattered light from the light scattering pattern 13 is input to the reading image surface 16 without futility and a spatial light intensity distribution in sub scanning direction can be made uniform.例文帳に追加

そこで、この結像位置と読み込み画像面１６とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン１３からの散乱光が無駄なく読み込み画像面１６に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁

To provide a scanning charged-particle microscope in which distortion of measurement, even of an insulator pattern, in the field of view can be suppressed by suppressing the impact of charging due to primary charged-particle beam irradiation during photographing, and suppressing change in the detection rate of secondary charged-particles.例文帳に追加

絶縁体パターンであっても，撮影中一次荷電粒子線照射起因帯電の影響を抑制し，二次荷電粒子の検出率の変化を抑制することにより視野内の計測歪みを抑制することのできる走査型荷電粒子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

For example, whether or not a read can be made by using only binary data is classified by kinds of optical information, a characteristic pattern is detected corresponding to the kind of optical information by scanning the binary data to specify the kind, and the correspondence relation to the kind is only viewed.例文帳に追加

例えば光学情報の種類毎に２値データのみを用いて読み取り可能か否かを予め分類しておき、２値データを走査して光学情報の種類に応じて特有のパターンを検出することで種類を特定し、その種類との対応関係を見ればよい。 - 特許庁

A pattern P1 obtained by arranging a plurality of single-color marks 50 comprising a pair of parallel line segments (L1 and L3 or the like) and a skew line segment (L2 or the like) located between both parallel line segments in the sub scanning direction so that the colors of the adjacent marks 50 may differ is formed on a belt.例文帳に追加

ベルト上に、一対の平行線分（Ｌ１，Ｌ３等）と両平行線分間に位置する斜行線分（Ｌ２等）とからなる単一色のマーク５０を、隣り合うマーク５０同士の色が異なるように、副走査方向に複数並べたパターンＰ１を形成する。 - 特許庁

In the scanning charged particle microscope designed for semiconductor tests and measurements, the use of an image after image restoration to perform a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like enables the improvement of the precision of measurement and the rise in the precision of detection and classification of a defect.例文帳に追加

さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁

The data on the sampled reflected wave is amplified by a computer 201 according to the predetermined pattern so as to generate the data corresponding to a smooth reflection waveform, and the inspection result is displayed on a display device 202 based on the amplified data and the data on the scanning position by a distance measuring unit 107.例文帳に追加

採取した反射波のデータをあらかじめ決めたパターンに従って計算機２０１で増幅して滑らかな反射波形に相当するデータに生成し、その増幅後のデータと、距離測定装置１０７による走査位置データを基に表示装置２０２に検査結果を表示する。 - 特許庁

The light beam emitted by the semiconductor laser device 31 travels to the substrate 9 through an optical system 4, and a stage 2 holding the substrate 9 is moved by a stage driving unit 21 for the scanning of positions on the substrate 9 irradiated with the light beam for drawing a desired pattern.例文帳に追加

半導体レーザ３１から出射された光ビームは光学系４を介して基板９に向かって照射され、基板９が保持されたステージ２がステージ駆動部２１により移動して基板９上の光ビームの照射位置が走査され、所望のパターンが描画される。 - 特許庁

This object detection device 30 performs scanning for detecting an obstacle by pattern matching processing about an image imaged by a camera 12 from a nearby place toward a distant place of the vehicle to detect the obstacle close to the vehicle having the strong possibility of the collision with the vehicle in a short time.例文帳に追加

対象物検知装置３０は、カメラ１２により撮像された画像について車両の近方から遠方に向かってパターンマッチング処理により障害物を検知する走査を行うため、車両との衝突の可能性が高い車両の近方の障害物を短時間で検知することができる。 - 特許庁

In this case, the plurality of write electrodes 3b are set in an electrode pattern in which one end parts of bases of triangles of adjacent write electrodes 3b overlap in a direction orthogonal to the axial direction of the latent image carrier 2 (rotation direction of the latent image carrier 2; vertical scanning direction).例文帳に追加

その場合、複数の書込電極３ｂの電極パターンは互いに隣接する書込電極３ｂの三角形の底辺の一端部どうしが潜像担持体２の軸方向と直交する方向（潜像担持体２の回転方向；副走査方向）にオーバーラップされて設けられている。 - 特許庁

The charged particle beam microscope acquires a plurality of frame images by scanning the field of view of the sample (S304, 305), adds the images together (S307), computes the dimensions of the pattern formed on the sample (308), and at the same time acquires pattern information (314) using a separated image (309, 310) composed of a single frame image comprising a frame image, a subframe image, and the like.例文帳に追加

荷電粒子線顕微鏡において、試料の観察視野を走査して得られたフレーム画像を複数枚取得し（Ｓ３０４、Ｓ３０５）、それらの画像を積算し（Ｓ３０７）、試料上に形成されたパターンの寸法を算出（Ｓ３０８）すると共に、フレーム画像を構成する１フレーム画像またはサブフレーム画像等からなる分別画像（Ｓ３０９，Ｓ３１０）を用いてパターン情報を取得する（Ｓ３１４）。 - 特許庁

When a test pattern for confirming the recording characteristics of each recording element is recorded in a serial recorder having a recording head arranged with a plurality of recording elements, a plurality of straight line patterns (patterns 1-10) having a specified length in the scanning direction are recorded by driving three adjacent recording elements in parallel such that all recording elements are used for recording at least one straight line pattern.例文帳に追加

複数の記録素子が配列された記録ヘッドを有するシリアル型の記録装置において、各記録素子の記録特性を確認するためのテストパターンを記録する際に、隣接する３つの記録素子を並列に駆動して走査方向に所定の長さを有する直線パターン（パターン１〜パターン１０）を、全ての記録素子が少なくとも１つの直線パターンの記録に使用されるように、複数記録する。 - 特許庁

In the tape inspection device for inspecting the pattern 21 formed on the tape surface by the scanning of a line sensor 11, the line sensor 11 is disposed along the longitudinal direction of a tape 1, and a sensor driving means for driving and sensing the line sensor 11 in the width direction of the tape is provided.例文帳に追加

本発明のテープの検査装置は、テープ面に付されたパターン２１を、ラインセンサー１１で走査して検査するテープの検査装置において、前記ラインセンサー１１を、テープ１の長さ方向に沿って配置するとともに、前記ラインセンサー１１をテープの幅方向に駆動走査するセンサー駆動手段を備えたものである。 - 特許庁

When an image forming means forms a gradation pattern chart 100, respective gradation patterns 101/101 are formed so as to avoid emphasis of an electric field due to difference in electric potentials in boundary parts in electrostatic latent images of respective gradation patterns 101/101 being adjacent in the sub-scanning direction of an image forming part.例文帳に追加

画像形成手段が読取用階調パターンチャート１００を形成する場合に、画像形成部の副走査方向に隣接する各階調パターン１０１・１０１の静電潜像における境界部位での電位差の違いによる電界の強調を回避するように、各階調パターン１０１を形成する。 - 特許庁

The pigment 20 is formed of inks discharged from a plurality of the nozzles 111a which are aligned in a scanning direction perpendicular to the transfer direction of the printing medium 10, and the drop-amount increase and decrease part performs the increase and decrease processing of the drop amount 21 at an increase and decrease pattern which is reverse to those of the inks discharged from the adjacent nozzles.例文帳に追加

画素２０は、印刷媒体１０の搬送方向と直交する走査方向に配列された複数のノズル１１１ａから吐出されるインクにより形成され、ドロップ量増減部は、隣接するノズルから吐出されるインクとは逆の増減パターンでドロップ量２１の増減処理を行う。 - 特許庁

By discriminating a pattern in the main scanning direction for the plural holes Ho and discriminating the length in the subscanning direction or the counted value of the number of lines, the accurate reference position on the belt 4 is detected while it is distinguished from a very small damage hole caused by deterioration due to the secular change of the belt 4.例文帳に追加

複数スリットの基準位置検出孔Ｈｏに対する主走査方向のパターン識別し、かつ、副走査方向の長さ又はライン数のカウント値を識別して、感光体ベルトにおける正確な基準位置を、感光体ベルトの経年変化による劣化などで生じた微小な損傷孔と区別して検出する。 - 特許庁

In the method and the device, by the scanning with the charged particle beams, an image on the sample is formed, part of a region of the formed image is selected, part of the region of the selected image is substituted to another image, and dimension of the pattern is measured with the use of the image substituting part of the image to another one.例文帳に追加

当該方法及び装置では、荷電粒子線の走査によって、試料上の画像を形成し、形成された画像の一部の領域を選択し、選択された画像の一部の領域を他の像に置換し、画像の一部が他の像に置換された画像を用いて、パターンの寸法測定を行うようにしている。 - 特許庁

The pattern width (L1) of a formed reference patch and a detection time (A) when reading the reference patch when assuming that an LED head 40 and a joint default position completely coincide with each other, are compared to specify the amount of discrepancy in a main scanning direction of one LED head 40 and an image position detector 64.例文帳に追加

形成した基準パッチのパターン幅（Ｌ１）と、ＬＥＤヘッド４０とつなぎ目デフォルト位置とが完全に一致していると仮定した場合に基準パッチを読取ったときの検出時間（Ａ）と、を比較して、一つのＬＥＤヘッド４０と画像位置検出器６４との主走査方向のずれ量を特定する。 - 特許庁

When a pattern arranged symmetric with respect to a rotating shaft on a sample is observed automatically or measured in accordance with procedures defined beforehand, a template image, an image at an observing point or a measurement point, or a view area which is to be a scanning area of a charged particle beam is made rotated by an angle which is automatically calculated from the coordinates on the sample.例文帳に追加

試料上に回転軸対称に配置されたパターンを、予め定めた手順に従って自動的に観察又は計測する際、テンプレート画像、観察点若しくは計測点の画像又は荷電粒子線の走査範囲である視野領域を、試料上の座標から算出した角度だけ自動的に回転させる。 - 特許庁

A pattern measuring apparatus 1 contains a base 30 for carrying a sample with multiple kinds of patterns formed thereon, a light irradiation means 10 for making a photoelectrical scanning over the sample by irradiating it with light and a reflected light detection means 50 for detecting reflected light to measure the patterns based on changes in the reflected light.例文帳に追加

複数種類のパターンが形成された試料を載置する載置台３０と、試料面上を光照射し光電的に走査する光照射手段１０と、反射光を検出する反射光検出手段５０と、を含み、反射光の変化に基づいてパターンを測定するパターン測定装置１である。 - 特許庁

A matrix display panel is used and the holding state of each of memory elements of a plurality of pixel parts of the matrix display panel is changed to one of a binary value or the other according to a predetermined fixed pattern; and (m) driving lines are connected in common to obtain one electrode and (n) scanning lines are connected in common to obtain the other electrode.例文帳に追加

マトリックス表示パネルを用いて、所定の固定パターンに対応させてマトリックス表示パネルの複数の画素部各々のメモリ素子の保持状態を２値のうちの一方又は他方の値に変化させ、ｍ本の駆動線を共通接続して一方の電極とし、ｎ本の走査線を共通接続して他方の電極とする。 - 特許庁

To provide an inspection system with a scanning electron microscope for performing an inspection for the purpose of detecting a defect on a substrate with a circuit pattern of a semiconductor device, a liquid crystal, or the like formed thereon which allows the easy identification of a minute defect and a pseudo one which have been hard to identify, and an inspection method thereof.例文帳に追加

半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

The stimulable phosphor sheet of inspection is formed by recording the radiation images 20 for inspection consisting of the density pattern lined up and arranged with at least ≥1 sheet of low-density regions 20A and high-density regions 20B having a contrast difference of at least 1:20 into the direction of the main scanning on the stimulable phosphor sheet.例文帳に追加

少なくとも１：２０のコントラスト差を有する１以上の低濃度領域２０Ａおよび高濃度領域２０Ｂを主走査の方向に並べて配列した濃度パターンからなる検査用放射線画像２０を蓄積性蛍光体シートに記録して、検査用蓄積性蛍光体シートを作成する。 - 特許庁

This method has a process step (S1) of condensing exposure light 112 to a master disk 108 coated with a photosensitive material 111 and subjecting the master disk to scanning exposure while modulating the light quantity thereof and a process step (S2) of forming the three-dimensional pattern shapes of the depth meeting exposure energy by developing the exposed master disk 108.例文帳に追加

感光性材料１１１が塗布された原盤１０８に露光光１１２を集光してその光量を変調しながらスキャニング露光する工程（Ｓ１）と、その露光された原盤１０８を現像することで露光量に応じた深さの３次元パターン形状を形成する工程（Ｓ２）と、を備える。 - 特許庁

A light modulation circuit 14 for drawing a pattern with a predetermined doe width and a predetermined density by light modulation of a beam light exposed on a photosensitive surface comprises a light intensity modulation means for modulating the light intensity of the beam light, and a dot width modulation means for modulating the dot width of the beam light in the scanning direction.例文帳に追加

感光面に露光されるビーム光を光変調して所要のドット幅でかつ所要の濃度のパターンを描画するための光変調回路１４に、ビーム光の光強度を変調する光強度変調手段と、ビーム光の走査方向のドット幅を変調するドット幅変調手段を備える。 - 特許庁

A laser beam 103L taken out from an ArF excimer laser 103 of the exposure light source of a scanning aligner 100 is guided through the inside of an aligner main body 101, and is projected on a reticle 115 to expose a wafer 120d in the form of a pattern through a reducing projection lens 117 to the outgoing laser beam through the reticle 115.例文帳に追加

スキャン型露光機１００の露光光源であるＡｒＦエキシマレーザ１０３から取り出されたレーザ光１０３Ｌを、露光機本体１０１の内部を導き、レチクル１１５に照射し、レチクル１１５を出射したレーザ光を縮小投影レンズ１１７を通してウエハー１２０ｄをパターン状に露光する。 - 特許庁

This manufacturing method for the printed board includes a printing process wherein a paste material 4 is extruded toward one printing matter 5 through a cavity part by scanning a screen mask 1 with the cavity part while pressing it by means of a plurality of squeegees 2 and 3, so that a pattern can be formed on the surface of the printing matter 5.例文帳に追加

印刷基板の製造方法は、空隙部を有するスクリーンマスク１を複数のスキージ２，３で押圧しながら走査することによって、ペースト材料４を上記空隙部を通して一つの被印刷物５に向けて押し出して、被印刷物５の表面にパターンを形成する印刷工程を含む。 - 特許庁

To provide an image reader capable of improving detection precision at a reference position in the image reader for detecting a reference position in a vertical scanning direction, by detecting an image pattern for position detection irradiated with light from a light source, and to provide an image-forming device using such an image reader.例文帳に追加

光源によって光が照射された位置検出用画像パターンを検出することにより副走査方向の基準位置を検出する画像読取装置において、基準位置の検出精度を向上することができる画像読取装置、及びこのような画像読取装置を用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The image processing device 13 is equipped with a coloring agent selecting process part 25 which outputs the dot data on the basis of a coloring agent sequence pattern that determines by a predetermined sequence along a main scanning direction, dot positions for expressing pixels with the use of a fluorescent ink, and dot positions for expressing pixels with the use of a non fluorescent ink.例文帳に追加

そして、画像処理装置１３は、蛍光インクを用いて画素を表すドット位置と、非蛍光インクを用いて画素を表すドット位置とを主走査方向に沿って所定の順序で定めた着色剤順序パターンに基づいて、上記ドットデータを出力する着色剤選択処理部２５を備える。 - 特許庁