「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an apparatus and method for scanning and driving a PDP that can minimize the level of a displacement current relating to a pattern of specific image data, especially, image data used for a dithering process.例文帳に追加

特定の画像データのパターン、特にディザリングプロセスに使われる画像データと関連する変位電流の大きさを最小化することができるＰＤＰのスキャン駆動装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The memory part 1 is provided with a line memory for a buffer, which corrects sub-scanning-direction displacement between the odd-numbered dot exposure element and the even-numbered dot exposure element, when the exposure elements are arranged in the staggered pattern.例文帳に追加

奇数ドットメモリ部１には、露光素子を千鳥配列型とした場合の、奇数ドット露光素子と偶数ドット露光素子の副走査方向ずれ分を補正するバッファ用のラインメモリを設ける。 - 特許庁

A dither matrix is arranged with dither patterns shifted from each other, so that all gradation level areas which each dither pattern has are arranged in order in the scanning direction which corresponds to gradation stages.例文帳に追加

ディザマトリックスを、各ディザパターンを互いにずらすように配置して、各ディザパターンが有するすべての階調レベル領域が、走査方向において、階調段階に対応して順に配置されるようにする。 - 特許庁

After calculating the chain resistance R by two terminal resistance measuring process, the current wave form is observed by chain pattern while scanning a laser beams for calculating the defect numbers x by the positive-negative frequency of the current wave form.例文帳に追加

２端子抵抗測定法でチェーン抵抗Ｒを求めた後、レーザービームを走査しながらチェーンパターンでの電流波形を観測し、電流波形が正負に変化した回数から欠陥数ｘを求める。 - 特許庁

With this laser marker, a scanning pattern 5 for a resin product is fetched from a memory 13 and the resin product is scanned with a laser beam according thereto when the object for printing is assigned to be the resin product.例文帳に追加

本発明のレーザマーカでは、印字対象物を樹脂製品と指定した場合には、樹脂製品用の走査パターン５がメモリ１３から取り出され、これに従ってレーザ光が走査される。 - 特許庁

A characteristics extracting operator, having a characteristic extracting pattern including defects which are to be detected in advance are held by a characteristic extracting circuit 7A, and defects are detected by scanning this operator.例文帳に追加

特徴抽出回路７Ａであらかじめ検出すべき欠陥を含む特徴抽出パターンを有する特徴抽出演算子を保持しておき、これを走査することによって欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a light irradiation device which gradually can change scanning pattern of a laser beam, while compensating error in accuracy of position detecting element to enable correct position control of an actuator.例文帳に追加

レーザビームのスキャンパターンを徐々に変更することができ、且つ位置検出素子の精度誤差を補正して正確なアクチュエータの位置制御を行うことができる光照射装置を提供すること。 - 特許庁

The marker image formed by energizing a predetermined LED 64 in the main scanning direction and a density image formed by energizing all the LEDs are included in the test pattern.例文帳に追加

テストパターンには、主走査方向の特定のＬＥＤ６４を点灯させることによって形成されるマーカ画像および全ＬＥＤを点灯させることによって形成される濃度画像が含まれる。 - 特許庁

To a substrate 101 on a stage 102, a solution is discharged from two head parts (liquid discharge heads) 100a and 100b individually, while scanning a carriage 100 to form a circuit pattern B.例文帳に追加

ステージ１０２上の基材１０１に対して、キャリッジ１００を走査しながら２つのヘッド部（液体吐出ヘッド）１００ａ、１００ｂからそれぞれ溶液を吐出して回路パターンＢを形成する。 - 特許庁

The distance between the 2 pieces of slits of the auxiliary slit plate 11 is adjusted by a driving device 15 and the first light line of an interference pattern of diffracted waves obtained by the auxiliary slit plate 11 is controlled on a scanning surface.例文帳に追加

駆動装置１５は、複スリット板１１の２個のスリット間の距離を調整し、複スリット板１１で得られた回析波の干渉縞の最初の明線位置を走査面上で制御する。 - 特許庁

The exposure method is provided for scanning a stage mounted with a first substrate in a predetermined direction and transferring the pattern of the first substrate by exposure onto a second substrate through first and second projection optical units disposed along the predetermined direction.例文帳に追加

第１基板が載置されたステージを所定方向に走査し、該所定方向に沿って設けられた第１及び第２投影光学ユニットを介して第１基板のパターンを第２基板に露光する。 - 特許庁

When main scanning is performed to print images of one line on the medium 3, an output picture is printed in an output picture area L1 of the medium 3, and a correction pattern is printed in a correction area L2 of the medium 3.例文帳に追加

主走査を行ってメディア３に１ライン分の画像を印刷する際、メディア３の出力画領域Ｌ１に出力画を印刷し、メディア３の補正用領域Ｌ２に補正用パターンを印刷する。 - 特許庁

Detection time differences ΔTk1, ΔTc1, ΔTm1 and ΔTy1 between perpendicular line segments and inclined line segments of respective resist patterns in a resist pattern group 564 for detecting color shift in the main scanning direction are obtained.例文帳に追加

主走査方向の色ずれ検出用のレジストパターン群５６４における各レジストパターンの垂直線分と傾斜線分の検出時間差ΔＴｋ１、ΔＴｃ１、ΔＴｍ１、ΔＴｙ１を求める。 - 特許庁

The virtual retinal display includes a source of photons, the photons being modulated with video information and scanned by a scanning system in a raster type of pattern directly onto the retina of the user's eye.例文帳に追加

このバーチャル網膜ディスプレイは、光子の源を含み、これらの光子はビデオ情報によって変調され、走査システムによって、ユーザの目の網膜上で、直接、ラスター型のパターンで走査される。 - 特許庁

This etching dispersion estimation device has a length-measuring scanning electron microscope 10 for respectively measuring the line widths of a resist pattern used as a measuring object at a plurality of positions with first and second threshold values.例文帳に追加

複数の位置で、測定対象となるレジストパターンの線幅を、第１および第２の閾値でそれぞれ測定する測長用走査型電子顕微鏡１０を持つエッチングばらつき予測装置である。 - 特許庁

To control an exposing head through adjustment to draw a pattern with higher accuracy on a recording surface in scanning and exposing with a multi-beam emitted from a means for selectively turning ON/OFF a plurality of pixels.例文帳に追加

複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、記録面上に高精度で描画をするように露光ヘッドを調整して制御可能とする。 - 特許庁

A controlling means scans the droplets Fb landed on the pattern forming surface 4Sa along the scanning direction to make the laser beam Le incident on the end part of the droplets Fb positioned at an irradiation position Pe.例文帳に追加

また、制御装置が、パターン形成面４Ｓａに着弾した液滴Ｆｂを走査方向に沿って走査し、照射位置Ｐｅに位置する液滴Ｆｂの端部にレーザ光Ｌｅを入射する。 - 特許庁

A machining control means 13 performs the ON-OFF control of a laser beam source 12, and controls a motor of a scanning unit 20 based on the coordinate data generated based on machining information on the pattern.例文帳に追加

加工制御手段１３は、レーザ光源１２をオンオフ制御するとともに、パターンに関する加工情報に基づいて生成された座標データに基づいて走査ユニット２０のモータを制御する。 - 特許庁

The conductive pattern having conductivity approximately equal to that of graphite is obtained by irradiating and scanning the surface of the insulative carbide in air with a laser beam having a high energy density enough to melt the surface.例文帳に追加

空気中において絶縁性炭化物の表面に、該表面を溶融させるのに充分な高エネルギー密度のレーザービームを走査照射することによりグラファイト並の導電性パターンを得る。 - 特許庁

The ink discharge timing of the printing head H is corrected on the basis of the test pattern so that a value averaged out from the shift amounts at each position in the main scanning direction within the printing region becomes minimum.例文帳に追加

そのテストパターンに基づいて、プリント領域内の主走査方向の各位置におけるずれ量を平均した値が最も小さくなるように、プリントヘッドＨのインク吐出タイミングを補正する。 - 特許庁

The control means controls scans the droplets Fb landed on the pattern forming surface 4Sa along the scanning direction to join the droplets Fb to preceding landed droplets when the droplet Fb is positioned in the reflection position Pe.例文帳に追加

また、制御装置が、パターン形成面４Ｓａに着弾した液滴Ｆｂを走査方向に走査し、液滴Ｆｂが反射位置Ｐｅに位置するときに、先行する液滴Ｆｂと接合させる。 - 特許庁

When a character is printed by setting up character length L1 to 70% of a printing pitch L or less, and acoustic optical device 5 for laser beam scanning can be prevented from overheat and a printing pattern of high recognizability can be obtained.例文帳に追加

文字長Ｌ１を印字ピッチＬの７０％以下にして印字を行うことにより、レーザービーム走査用の音響光学装置５の過熱を防ぎ、視認性のよい印字パターンが得られる。 - 特許庁

A black-and-white pattern of a symbol 13 representative of data of an image 12A is switched for every scanning of one frame in a display part 11 and is continuously displayed only for a period when entire data of the image 12A is represented.例文帳に追加

画像１２Ａのデータを表すシンボル１３の白黒のパターンは、表示部１１の１フレームの走査毎に切り替わり、画像１２Ａのデータ全体を表す期間だけ連続して表示される。 - 特許庁

Data lines S2 in data lines (first signal wiring lines) S1, S2 and scanning lines (second signal wiring lines) G0 to G8 are wired in a nonlinear pattern, based on the outer shape of the display panel.例文帳に追加

さらに、データ線（第１の信号配線）Ｓ１、Ｓ２及び走査線（第２の信号配線）Ｇ０〜Ｇ８のうち、データ線Ｓ２を、上記表示パネルの外形形状に基づいて、非直線状に配線する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for attaching a tracing pattern of forgery prevention or the like without damaging print productivity because an ink jet printer for detecting a portion with no image data (white portion) in a main scanning direction, skips a blank line and performs scanning to thereby increase a printing speed with minimum paper feeding when a tracking pattern in an ink jet type printer and a copying machine is attached.例文帳に追加

インクジェット方式のプリンタや複写機における追跡パターンを付加した場合に、主走査方向の空白部を検出するインクジェットプリンタでは画像データの無い部分（白の部分）を検出し、空白ラインを飛ばしてスキャンを行うことで最小限の紙搬送で印刷速度を増しており、この印刷生産性を損なうことなく、偽造防止等の追跡パターンを付加する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When a correction data generation part predicts the repeated waveform pattern stored in the storage means and the main scanning deviation component of every color according to the detected phase information, an image output control circuit adjusts the write-in timing of an image output means based on the predicted main scanning deviation information so as to perform a printing job.例文帳に追加

補正データ生成部が記憶手段に記憶された繰り返し波形パターンと、この検出された位相情報に応じて各色ごとの主走査ずれ成分を予測すると、画像出力制御回路が予測された主走査ずれ情報に基づき、画像出力手段の書き込みタイミングなどを調整し、印刷ジョブを実行する。 - 特許庁

In the one line printing processing, the flushing printing is executed on a cloth while moving a cloth holding frame in the forward moving direction in a main scanning direction, and pattern printing is executed on the cloth so as to overlap on the flushing printing while moving the cloth holding frame in the backward moving direction in the main scanning direction.例文帳に追加

その１ライン印刷処理においては、主走査方向において、布保持枠を主走査方向における往動方向へ移動させながら布地にフラッシング印刷を行い、布保持枠を主走査方向における復動方向へ移動させながら、フラッシング印刷に重ねるように布地に模様印刷を行う。 - 特許庁

The configuration, in which the datum lines Lr aligned in the sub-scanning direction X is captured by the line camera 50, can control a position of a pattern to be formed on the substrate W in the sub-scanning direction by a simple configuration compared with the conventional technique using an encoder.例文帳に追加

このように、副走査方向Ｘに並んで形成された基準線Ｌrをラインカメラ５０で撮像するといった構成を備えることで、エンコーダを用いた従来技術と比較してより簡便な構成によって、基板Ｗに形成されるパターンの副走査方向Ｘへの位置を制御することができる。 - 特許庁

In the color image forming apparatus, the toner image of each color pattern for determination is configured such that the toner images of a plurality of thin-width patterns, whose dimensions in a sub-scanning direction are smaller than a diameter of a spot of light radiated from an optical sensor, are arranged along the sub-scanning direction at intervals smaller than the diameter of the spot.例文帳に追加

カラー画像形成装置において、各色の判定用パターンのトナー画像は光センサから照射された光のスポットの径よりも副走査方向の寸法が小さい複数の細幅パターンのトナー画像を、上記スポットの径よりも小さい間隔で副走査方向に沿って並べた構成を有する。 - 特許庁

To provide a method for determining a periodic unevenness correction pattern capable of correcting periodic unevenness of a rotary polygon mirror with high accuracy in each mode, when an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam by a rotary polygon mirror operates in two or more modes with different scanning pitches or the like, and to provide a light beam scanner.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置が走査ピッチが異なる等の複数のモードで動作する場合、各モード毎に回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できるようにした周期的むら補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

In the joining portion of the recording chips, between the discharge port arrays discharging the same color ink, an exclusive relation of binary discharge data is strengthened as a distance between the arrays in a main scanning direction decreases, and an exclusive relation of pattern of binary discharge data is weakened as the distance between the arrays in the main scanning direction increases.例文帳に追加

記録チップのつなぎ部において、同色のインクの吐出を担う吐出口列間で、主走査方向における列間距離が小さいほど２値の吐出データの排他関係を強くし、主走査方向における列間距離が大きいほど２値の吐出データのパターンの排他関係を弱くする。 - 特許庁

The predictive encoding entails computing the difference between neighboring fine fingerprints to make up a prediction difference matrix, performing vectorization along any scanning pattern to obtain a one-dimensional vector, and also performing reversible encoding on the one-dimensional vector by an appropriate method selected based on the scanning method used.例文帳に追加

予測符号化は、隣り合う高精細指紋間の差分を計算して、予測差分行列を構成すること、走査パターンに沿ってベクトル化し、一次元ベクトルにすること、および使用される走査方法に基づいて選択される適切な方法により、一次元ベクトルに可逆的符号化を実行することを伴う。 - 特許庁

In a charged particle beam system for measuring the line width or the like of a pattern formed on a sample based on secondary electrons emitted from a sample by scanning on the sample with a charged particle beam, interval of the scanning line of the charged particle beam is set not to exceed an irradiation density determined based on the physical properties of the sample.例文帳に追加

荷電粒子線を試料上で走査し、試料より放出された二次電子に基づいて、試料上に形成されたパターン等の線幅等を測長する荷電粒子線装置において、試料の物性に基づいて決定される照射密度を上回らないように前記荷電粒子線の走査線間隔を設定する。 - 特許庁

This pattern defect inspection device detects a defect by comparing a detection image acquired by scanning patterns, which are sequentially arranged in the line direction at equal intervals on the object under inspection and provided with the same shape, by means of an image sensor with a reference image acquired by scanning the patterns arranged adjacently in the line direction and provided with the same shape.例文帳に追加

被検査物体上に行列方向に等間隔で連続的に配列された同一形状を有するパターンをイメージセンサを走査して得られる検出画像とその行列方向に隣接する同一形状のパターンを走査して得られる参照画像とを比較して欠陥を検出するパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁

At the scan measurement time, a control part 50 controls a direct-current voltage source and a high-frequency voltage source included in a voltage generation part 30 following the voltage scanning pattern, synchronously with scanning of an application voltage on the quadruple polar filter 16, and scans the application voltages on the solvent removing tube 18, the first ion lens 19 and the second ion lens 20.例文帳に追加

スキャン測定時には、制御部５０は四重極フィルタ１６への印加電圧の走査と同期して、電圧走査パターンに従って電圧発生部３０に含まれる直流電圧源及び高周波電圧源を制御し、脱溶媒管１８、第１イオンレンズ１９及び第２イオンレンズ２０への印加電圧を走査する。 - 特許庁

To improve position detection precision of a scanning part of an image reader, which detects a reference position in a sub-scanning direction by detecting an image pattern for position detection irradiated with light by a light source, while reducing an increase in processing time.例文帳に追加

光源によって光が照射された位置検出用画像パターンを検出することにより副走査方向の基準位置を検出する画像読取装置において、処理時間の増大を低減しつつ走査部の位置検出精度を向上することができる画像読取装置、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A focus adjusting condition of each place in a scanning region at the time of scanning a charged particle beam to a sample forming in a semiconductor manufacturing process is calculated beforehand, the calculated focus adjusting condition is selectively applied to a pattern formed under the same manufacturing condition as the sample with the focus adjusting condition calculated, and a device carrying out charged particle beam scanning is provided.例文帳に追加

半導体製造工程中に形成される試料に対し、荷電粒子線を走査する際の走査領域内の各個所の焦点調整条件を予め求めておき、当該求められた焦点調整条件を、前記焦点調整条件を求めた試料と同じ製造条件にて形成されたパターンに選択的に適用して、前記荷電粒子線走査を行う装置を提案する。 - 特許庁

The image of a mask pattern is formed accurately on a substrate by determining correspondence between a scanning direction regulated on a first coordinate system for controlling movement of first stages 10, 11 holding a mask 12 and a scanning direction regulated on a second coordinate system for controlling movement of a second stage 4 holding a substrate 5 thereby enhancing alignment accuracy of the mask and the substrate at the time of scanning alignment.例文帳に追加

マスク（１２）を保持する第１ステージ（１０，１１）の移動を制御するための第１座標系で規定される走査方向と、基板（５）を保持する第２ステージ（４）の移動を制御するための第２座標系で規定される走査方向との対応関係を求めることによって、走査露光時のマスクと基板とのアライメント精度を向上させて、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。 - 特許庁

The laser beam detecting means includes: diffraction optical elements 103a and 103b which shape the defected and scanned laser beams into a pattern consisting of dots or lines; and a plurality of light receiving elements PD1 and PD2 for detecting the pattern, wherein the plurality of light receiving elements have a light receiving face wider than the luminous flux width in a main scanning direction of dots or lines composing the pattern.例文帳に追加

レーザビーム検出手段は、偏向走査されるレーザビームをドットまたはラインからなるパターンに整形する回折光学素子１０３ａ，１０３ｂと、上記パターンを検出するための複数の受光素子ＰＤ１，ＰＤ２とを具備し、複数の受光素子は、上記パターンを構成するドットまたはラインの主走査方向光束幅よりも広い幅の受光面を有する。 - 特許庁

(c) The incident position of the laser beam, or positional information on the linear pattern forward of the scanning direction is acquired, and the incident command value is calculated by correcting the target incident position based on the acquired positional information.例文帳に追加

（ｃ）レーザビームの入射位置、または走査方向前方の線状パターンの位置情報を取得し、取得された位置情報に基づいて、入射目標位置を補正することにより、入射指令値を算出する。 - 特許庁

A predetermined region is thereby scanned by an electron beam to acquire an image; a plurality of regions are selected from the image; respective pattern pitches are measured; and scanning distortion is calculated from the measurement result, and corrected.例文帳に追加

このために電子ビームで所定の領域を走査して画像を取得し、当該画像から複数の領域を選択し、夫々のパターンピッチを計測し、該計測結果から走査歪み量を算出して補正する。 - 特許庁

Even if the substrate flexes when it is supported at the plurality of linear portions 4b, its flexure profile can be followed up by focus leveling during scanning operation and thereby a resist pattern can be formed with good dimensional precision.例文帳に追加

複数の直線状部４ｂで支持することで基板が撓んでも、その撓み形状に対して、スキャン動作中のフォーカス・レベリングが追従することが可能なので、寸法精度の良いレジストパターンが形成可能となる。 - 特許庁

To improve the controllability of a lithography process of a flexible substrate and to prevent the precise scanning motion of a carriage that supports a pattern generator from being blocked even when a flexible substrate is located in the vicinity of an exposure area of the carriage.例文帳に追加

フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。 - 特許庁

Thus, such conditions take place that the antenna pattern always orients in the direction of the radio source 12, even if the scanning angle control signal whose value varies from hour to hour is output from the signal processing part 10.例文帳に追加

このようにすることで、信号処理部１０からは時々刻々と値の変化する走査角制御信号が出力されるにも係らず、アンテナパターンは常に電波源１２の方向を指向するという状況が生まれる。 - 特許庁

The controller 2 on-off controls the generation of microplasma based on the data of the desired hydrophilic pattern, while a scanning means 3 reels a flexible substrate 5, and the surface of the flexible substrate 5 is irradiated with microplasma.例文帳に追加

走査手段３によってフレキシブル基板５を巻き取りつつ、所望の親水性パターンのデータに基づいて制御装置２により各マイクロプラズマの発生をオンオフ制御し、フレキシブル基板５表面にマイクロプラズマを照射する。 - 特許庁