「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The multifunction machine 40 creates thumbnail image data 106 reflecting scan setting data of each pattern of the scan data 108, etc. by pre-scanning a document.例文帳に追加

多機能機４０は、原稿に対してプレスキャンを実行することによって、複数パターンのスキャン設定データ１０８等のそれぞれについて、そのパターンのスキャン設定データが反映されたサムネイル画像データ１０６等を作成する。 - 特許庁

A thinned membrane region 5 not participating in pattern exposure is set along the edges of a subfield 2, and apertures 6 are formed in the membrane region 5 for the transmission of electron beams for a mark-scanning process over the membrane region 5.例文帳に追加

サブフィールド２の端にパターン露光に関与しない薄膜化されたメンブレン領域５を設定するとともに、前記メンブレン領域５にマーク走査を行う電子ビームを透過させる開口６を形成する。 - 特許庁

A laser light source emits laser light of an output level Lc according to display gradation of a pixel in a prescribed waveform pattern PT for a pixel display period which is set longer as the scanning speed Vh is lower.例文帳に追加

レーザ光源は、走査速度Ｖhが遅くなるほど長く設定される画素表示期間内において、画素の表示階調に応じた出力レベルＬcのレーザ光を、所定の波形パターンＰＴにしたがって出射する。 - 特許庁

When a V-shaped graphic pattern in two lines with one or two background pixels interposed appears, processing for temporarily filling inter-V-shaped pixels is carried out as the pre-processing of the linking processing of pixels in a main scanning direction.例文帳に追加

背景画素を一つないし二つ挟む２ラインにわたるＶ字型の図形パターンが現れた場合には、Ｖ字の間の画素を仮に埋める処理を、主走査方向の画素の連結処理の前処理として行う。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal display device the picture of which can be easily viewed by extensively suppressing the generation of a stripe pattern due to blackout when the picture of a display element consisting of a liquid crystal having memory property is rewrote by interlace scanning.例文帳に追加

メモリ性を有する液晶からなる表示素子の画面をインターレース走査によって書き換える際に、ブラックアウトによる縞模様の発生を極力抑えて画面を見やすくできる液晶表示装置を得る。 - 特許庁

In this position detection method, prior to the position detection of the projection image of reticle patterns RP1 and RP2, the projection image of the reticle patterns RP1 and RP2 is scanned at initial setting speed on a sensor pattern, and actual scanning speed is obtained.例文帳に追加

レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影像の位置検出に先立って、そのレチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影像をセンサパターン上で初期設定速度にてスキャンさせ、実際の実スキャン速度を求める。 - 特許庁

A screen pattern is selected for the purpose of changing the copy mode (S1930) in accordance with the picture signal subjected to gradation conversion, and the extent of phase shift in the unit of one line in the main scanning direction is changed into resolved color units (S1950).例文帳に追加

階調変換した画像信号に従い、複写モードを変更するためにスクリーンパターンを選択して（S1930）、主走査方向の１ライン単位の位相シフト量を前記分解された色単位に変更する（S1950）。 - 特許庁

A semiconductor device includes a test object circuit (700), scan chains (650) that enable scanning of the test object circuit, and a first random generation circuit (100) that forms a test pattern supplied to the scan chains.例文帳に追加

テスト対象回路（７００）と、上記テスト対象回路のスキャンを可能とするスキャンチェイン（６５０）と、上記スキャンチェインに供給されるテストパタンを形成するための第１乱数発生回路（１００）とを設ける。 - 特許庁

The color irregularity in the scanning direction is reduced by treating image data through a distribution process with the use of a distribution pattern of a 'diagonal arrangement' so that an ink application order of dots arranged in a raster direction becomes mutually different in secondary colors.例文帳に追加

二次色において、ラスタ方向に並ぶドットのインクの付与順序を互いに異なるように「対角並び配置」の振りまきパターンを用いて画像データに振りまき処理を施して、走査方向の色むらを軽減する。 - 特許庁

By moving and exposing a mother mask 4 by scanning in the X direction and stepwise moving in the Y direction, a pattern region 9 of the mother mask 4 can be transferred onto the entire surface of the exposure region 11 of the mother substrate 10.例文帳に追加

マザーマスク４をＸ方向のスキャンとＹ方向のステップによって移動させて露光することにより、マスク基板１０における露光領域１１の全面に、マザーマスク４のパターン領域９が転写できる。 - 特許庁

In the electron beam proximity exposure method, a mask 32 is disposed in proximity to a wafer 44 and a mask pattern formed on the mask 32 is transferred to a resist layer on the wafer 44 by scanning the mask 32 with an electron beam.例文帳に追加

ウエハ４４にマスク３２を近接配置し、電子ビームによってマスク３２を走査することにより該マスク３２に形成されたマスクパターンをウエハ４４上のレジスト層に転写する電子ビーム近接露光方法である。 - 特許庁

The scanning exposure apparatus 300 includes a mask 10 for measurement which is disposed on a first stage 325 and has a measurement pattern, a first measuring unit 20 disposed on a second stage 345, and a control unit 350.例文帳に追加

本発明の走査露光装置３００は、第１ステージ３２５に配置され測定パターンを有する測定用マスク１０と、第２ステージ３４５に配置される第１測定部２０と、制御部３５０とを備える。 - 特許庁

After the imaged near field pattern is beam-shaped in a sub-scanning direction by the aperture member 20, it is introduced to a recording film F through a second lens 22 and a third lens 24, thereby recording an image.例文帳に追加

結像されたニアフィールドパターンは、アパーチャ部材２０によって副走査方向にビーム整形された後、第２レンズ２２および第３レンズ２４を介して記録フイルムＦに導かれることで、画像の記録が行われる。 - 特許庁

A laser beam emitted from an argon laser generator 20 is led to a fixed plate 30, modulated and deflected by two scanning optical systems arranged on the plate 30 and scans the object of plotting and forms a pattern.例文帳に追加

アルゴンレーザー発生器２０から発したレーザー光は、固定板３０上に導かれ、その上に配置された２組の走査光学系により変調、偏向され、描画対象上を走査してパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an alignment pattern and its forming method in which a peak can be read out readily by detecting a level difference surely through scanning even when planarization is performed by CMP without requiring any extra process.例文帳に追加

新たな工程を付加することなく、ＣＭＰによる平坦化を行った場合でも、スキャンにより段差を確実に検出して容易にピークを読み取ることができる目合わせパターン及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

An alignment pattern 10 is substantially formed in parallel to the scanning direction of the rays of light to scan in exposure in one scribe line 6 positioned at the rightmost end of the exposure region 4 of a semiconductor wafer 1.例文帳に追加

半導体ウェハ１の露光領域４の最右端に位置する１本のスクライブライン６に、露光時に走査される光の走査方向に対して実質的に平行にアライメントパターン１０が形成されている。 - 特許庁

A pattern of the second semiconductor region formed by the etching is formed such that a scanning direction of the laser beam and a channel length direction in the TFT are substantially coincident each other in order to smooth the drift of a carrier.例文帳に追加

エッチングで形成される第２半導体領域のパターンは、キャリアのドリフトをスムーズにするために、レーザービームの走査方向とＴＦＴにおけるチャネル長方向とが概略一致するように形成する。 - 特許庁

At least two images 30 of the pattern 3 projected on the object 2 are recorded for the purpose of determining the camera shake of the 3D camera 1, at least one of these images 30 forms part of the scanning sequence.例文帳に追加

３Ｄカメラ１のカメラぶれを判断するため、物体２上に投影されたパターン２の少なくとも２枚の画像３０を記録し、これらの画像３０の少なくとも１つは、走査シーケンスの一部を生成する。 - 特許庁

Multilevel data (3, 2, 0), namely, (1, 1, 1, 0, 0, 0) in binary notation of three pixels adjacent in the main scanning direction are extracted, and pattern number 56 (32+26+8 because of binary 111000) corresponding to it is derived.例文帳に追加

主走査方向に隣接する３画素の多値データ（３，２，０）、つまり２値表記で（１，１，１，０，０，０）を抽出し、これに対応するパターン番号５６（２値で１１１０００であるから、３２＋１６＋８）を導き出す。 - 特許庁

The headlamp 10 includes an irradiating unit 30 for scanning and emitting the light from a semiconductor laser element 21 (a semiconductor laser device 20), a control part 41 for determining the light distribution pattern formed by the light emitted from the irradiating unit 30, and an output adjusting part 40 for adjusting output of the semiconductor laser element 21 by interlocking with scanning of the irradiating unit 30 based on the light distribution pattern determined by the control part 41.例文帳に追加

この前照灯１０は、半導体レーザ素子２１（半導体レーザ装置２０）からの光を走査して出射する照射ユニット３０と、照射ユニット３０から出射する光により形成される配光パターンを決定する制御部４１と、制御部４１により決定された配光パターンに基づいて、照射ユニット３０の走査に連動して半導体レーザ素子２１の出力を調節する出力調節部４０とを備える。 - 特許庁

The confocal optical system which has a confocal disk (3) provided with a confocal pattern and obtains a confocal image by scanning the confocal pattern of the confocal disk (3) on a direction nearly orthogonal with the optical axis (L) is furnished with a diaphragm (6) disposed on the confocal disk (3) or in proximity to the confocal disk (3).例文帳に追加

共焦点パターンが設けられた共焦点ディスク（３）と、該共焦点ディスク（３）の共焦点パターンを光軸（Ｌ）に対してほぼ直交する方向に走査し共焦画像を得る共焦点光学装置において、前記共焦点ディスク（３）上または共焦点ディスク（３）に近接して設けられた絞り（６）を具備している。 - 特許庁

The irradiation unit 14 of the proximity scanning exposure apparatus 1 branches an exposure beam EL emitted from a light source 41 into two directions on a reflection unit 46, 47, so that a first pattern P1 and a second pattern P2 formed in a single mask M are irradiated with the light, respectively, in different directions from each other to expose a substrate W.例文帳に追加

近接走査露光装置１の照射部１４は、光源４１から照射された露光用光ＥＬを反射部４６、４７で２方向に分岐させ、それぞれ異なる２方向から、１枚のマスクＭに形成された第１のパターンＰ１、及び第２のパターンＰ２に照射して基板Ｗを露光する。 - 特許庁

The light beam projected from a head part 20a of the light beam irradiation device 20 is received by a light receiving means (CCD camera 51) provided on the chuck 10, and displacement of the pattern 2 in each scanning, the pattern drawn by the light beam, is predetected by the received light beam, and coordinates of the drawing data are corrected on the basis of the detection results.例文帳に追加

チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 - 特許庁

A micro computer (ASIC) comprises a scan chain for the LSSD scanning test, and a clock generating circuit 10 which generates a shift clock which has each latch circuit of the scan chain latch a test pattern and a clock for performing the test which imports the output of an circuit to be tested corresponding to the test pattern, and supplies them to the scan chain.例文帳に追加

マイクロコンピュータ（ＡＳＩＣ）に、ＬＳＳＤスキャンテストのためのスキャンチェーンと、テストパターンをスキャンチェーンの各ラッチ回路にラッチさせるためのシフト用クロックおよびテストパターンに対する被テスト回路の出力を取り込むためのテスト実行用クロックを生成し、スキャンチェーンに供給するクロック生成回路１０とを備える。 - 特許庁

A pattern detecting section 50 detects whether or not a line is a vertical line in a width of one dot based on a target pixel and a pattern of two-bit data of a peripheral pixel adjacent thereto in a main scanning direction and a data converting section 60 converts multi-value data of the pixel forming the vertical line to light emission data so as to enlarge the width of the vertical line.例文帳に追加

パターン検出部５０は注目画素とその主走査方向に隣接する周辺画素の２ビットデータのパターンに基づいて１ドット幅の縦線か否かを検出し、データ変換部６０は縦線の幅が太くなるようにその縦線を構成する画素の多値データを発光データに変換する。 - 特許庁

An order management server 300 receives information about clients and body scanning results input from a measurement and order processing device 200, and requests a pattern generator 330 to generate pattern information necessary to manufacture gloves and a leather processor 400 to manufacture the corresponding glove.例文帳に追加

注文管理サーバ３００は、計測注文処理装置２００から顧客情報と人体をスキャンした結果を入力し、パターン生成装置３３０で手袋を製作するためのパターン情報を生成し、これに対応して皮革加工装置４００に手袋を製作するように要請することを特徴とする。 - 特許庁

Scanning transmission type electronography is digitalized to be taken in a computer and subjected to digital two-dimensional Fourier transform to form a diffraction pattern and one or a plurality of diffraction spot positions in the diffraction pattern are calculated to be compared with the position of a diffraction point in the case of an ideal crystal structure to detect the strain of a crystal lattice.例文帳に追加

走査透過型電子顕微鏡像をデジタル化しコンピュータに取り込み、デジタル２次元フーリエ変換をすることによって回折パターンを形成し、回折パターン中の一又は複数の回折スポット位置を求め、理想的な結晶構造の場合の回折点の位置と比較することで、結晶格子の歪みを検出する。 - 特許庁

The light emitting intensity of the light source 102 is varied at an arbitrary time in a predetermined intensity modulating pattern sequence by which the light source 102 is continuously turned on, and the position is detected in the intensity modulating pattern sequence of received light of the photosensor 105 in a predetermined region on the basis of the detected result of the scanning light received by the photosensor 105.例文帳に追加

任意時に、光源102を連続的に発光状態に置く所定の強度変調パターン列で光源102の発光強度を変化させ、その時に光センサ105が受光する走査光の検出結果に基づいて、光センサ105の所定領域での受光光の強度変調パターン列中での位置を検出する。 - 特許庁

Subsequently, the difference between the address of peak value of the first intensity waveform 75A and the minimum address jmin is multiplied by the scanning movement of an exposure pattern image 66 per address to determine the distances of the exposed images 673 and 671 in the direction of X-axis thus measuring the dimensions of the exposure pattern image 66.例文帳に追加

続いて、この第１強度波形７５Ａのピーク値のアドレスと該最小値アドレスｊｍｉｎとの差に、１アドレス当たりの露光パターン像６６の走査移動量を乗算して、露光像６７3と露光像６７1とのＸ軸方向の距離寸法を算出して、露光パターン像６６の寸法を測定する。 - 特許庁

As a more concrete mode, a focus adjustment method of carrying out focus adjustment as well as pattern measurement by alternately arranging (each other, or each several) beam scanning position(s) for obtaining signals for focus adjustment and for obtaining signals for pattern measurement in the same FOV, and the charged particle beam device are proposed.例文帳に追加

より具体的な一態様として、同じＦＯＶ内にて、フォーカス調整用信号を得るためのビーム走査位置と、パターン測定用信号を得るためのビーム走査位置を交互（１本ごと、或いは複数本ごと）に配置して、焦点調整とパターン測定を実行する焦点調整方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 - 特許庁

The common sample holder for a scanning electron microscope device and a focused ion beam device is set mountable on a scanning electron microscope device with an electron beam backscatter pattern measurement function and on a focused-ion beam device with a microsampling function, and enables a crystal orientation analysis and microsampling, without having to remount a sample.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡装置と集束イオンビーム装置との共用試料ホルダーは、電子線後方散乱パターン計測機能を有した走査型電子顕微鏡装置と、マイクロサンプリング機能を装備した集束イオンビーム装置とに装着可能で、試料の載せ替え作業をせずに結晶方位解析とマイクロサンプリング加工が可能であることを特徴とする。 - 特許庁

This projection exposure method includes a step of exposing an exposure area of a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask in a scanning operation which includes a step of moving the mask M relative to an effective object field of the projection objective PO and simultaneously moving the substrate relative to an effective image field of the projection objective in respective scanning directions.例文帳に追加

投影露光方法は、放射線感応基板の露光区域をマスクのパターンの少なくとも１つの像により、投影対物系の有効物体視野に対してマスクをかつ同時に投影対物系の有効像視野に対して基板をそれぞれの走査方向に同時に移動する段階を含む走査作動において露光する段階を含む。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern of digital data on a work by using a two-dimensional display element while scanning the work relatively in one direction, the method being favorable in both of resolution and throughput when a plurality of pixels on the two-dimensional display element forms dots on one straight line parallel to the scanning direction of the work.例文帳に追加

デジタルデータを２次元表示素子を用いて、ワークを相対的に一方向にスキャンしながら、ワーク上にパターンを形成する方法であって、２次元表示素子上の複数の画素がワーク上のスキャン方向に平行な同一直線上にドットを形成する場合に、分解能、スループットともに良好なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A resist pattern PK in black as a reference color and one of resist patterns PC, PM and PY in cyan, magenta and yellow are formed in respective detection positions of resist sensors 32a to 32c arranged at intervals in a main scanning direction, and the positional deviation of each color from black in a main scanning direction and a subscanning direction is obtained.例文帳に追加

主走査方向に離間して配置されたレジストセンサ３２ａ〜３２ｃの各検出位置に、基準色である黒のレジストパターンＰＫ及びシアン、マゼンタ及びイエローの各色ごとのレジストパターンＰＣ・ＰＭ・ＰＹのうちの１つをそれぞれ形成し、黒に対する他の各色ごとの主走査方向及び副走査方向の位置ずれ量を取得する。 - 特許庁

A timing pulse generator generates various timing pulses used to obtain an image signal from a solid-state image pickup element and an H-ROM 10 stores pattern data consisting of data for timing pulses for one period generated at the beginning of one horizontal scanning period and number of repetitive timing pulses within the one horizontal scanning period.例文帳に追加

固体撮像素子から画像信号を得るために使用する各種のタンミングパルスを発生させるタイミングパルス発生装置であり、Ｈ−ＲＯＭ１０には、１水平走査期間の最初に発生させる１周期分のタイミングパルスのデータと、そのタイミングパルスの１水平走査期間内の繰り返し数とからなるパターンデータが記憶されている。 - 特許庁

A pattern measuring apparatus and a computer program are proposed for extracting the feature quantities regarding one end of a pattern where a plurality of patterns is arranged, and another feature quantity regarding the other end of the pattern from a signal detected, based on scanning of charged particle beams, and for determining the types of spaces among the plurality of patterns based on the comparison of the two types of feature quantity.例文帳に追加

上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子ビームの走査に基づいて検出される信号から、複数のパターンが配列されたパターンの一端側に関する特徴量と、当該パターンの他端側に関する特徴量を抽出し、当該２つの特徴量の比較に基づいて、前記複数のパターン間のスペースの種類を判定するパターン測定装置、及びコンピュータープログラムを提案する。 - 特許庁

It is possible to form an electrode pattern of any given shape with high precision equivalent to scanning precision of laser beam, and thanks to the existence of the intermediate layer, it is possible to secure protection of a DAE underlying layer, shape maintenance and improvement of emission efficiency, or the like.例文帳に追加

任意の形状の電極パターンをレーザー光の走査精度と同等の精度で高精度に形成することができ、中間層の存在で、ＤＡＥ下地層の保護、形状保持、発光効率向上などが可能となる。 - 特許庁

The scanning controller further generates a first light quantity correction signal and a second light quantity correction signal and corrects a driving signal of each light emission section at the each station by using the reference pattern and the light emission power correction equation when an image is formed.例文帳に追加

そして、画像形成が行われる際に、ステーション毎に、基準パターン及び発光パワー補正式を用いて、第１光量補正信号及び第２光量補正信号を生成し、各発光部の駆動信号を補正する。 - 特許庁

The respective layers described above are disposed in a stripe shape according to a scanning slit exposure method, or are disposed at random, are disposed with equal pitch or disposed in a stripe shape according to an exposure method using a photomask provided with a pattern corresponding to layers arranged at random.例文帳に追加

上記各層をスリット露光方式によりストライプ状に配設、又は、ランダムに配列される層に対応したパターンが設けられたフォトマスクを用いた露光方式によりランダムに配設、等ピッチに配設、或いはストライプ状に配設する。 - 特許庁

To provide an elevator installation with a cage and a cage position detecting device, using an inexpensive sensor device for accurately scanning a code mark pattern without impairing safety and reliability, and to provide its operating method.例文帳に追加

安全性と信頼性を損なわずに、低価格でのセンサ装置によるコードマークパターンの正確な走査を可能とする、ケージおよびケージ位置を検出する装置を備えるエレベータ設備、およびそのようなエレベータ設備の動作方法を提供する。 - 特許庁

Recording data HV-converted by an HV converting circuit 20 are stored by a recording data storing means 30 in a memory 22 for every recording action by one scanning of the recording head 1 using one addressing pattern of a plurality of addressing patterns.例文帳に追加

記録ヘッド１の１走査による記録動作毎に、ＨＶ変換回路２０でＨＶ変換した記録データを記録データ格納手段３０で複数のアドレッシングパターンの内、１のアドレッシングパターンを用いて記録データをメモリ２２に格納する。 - 特許庁

As to a device for ink jet recording of using multi-pass type, one scanning and recording area is divided into predetermined pitches and recording duties to be determined according to the thinned mask pattern corresponded to each divided area are set to a different value.例文帳に追加

マルチパス記録方式を用いたインクジェット記録装置において、同一走査記録領域内を所定のピッチにて分割し、各分割領域に対し前記間引きマスクパターンによって定まる記録デューティーを異なる値に設定する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting method using a scanning charged particle beam system, capable of precisely inspecting a defect over a short period of time, which exists on a surface of a sample to be inspected such as a semiconductor LSI or the like, by using a pattern matching technique.例文帳に追加

半導体ＬＳＩなどの被検査試料の表面に生じた欠陥の検査を、パターンマッチング技術を用いて高い精度で短時間に行なうことができる走査型荷電粒子ビーム装置を用いた欠陥検査方法 - 特許庁

To provide an extremely accurate method for transferring a fine rugged pattern by which stripe structure along the line of scanning is not formed inside photoset resin after photosetting resin is photoset, whereby a duplicate plate is prevented from being observed iridescent or white, and the photoset resin has high transparency, and also to provide the duplicate plate.例文帳に追加

光硬化樹脂の硬化後に走査の線に沿った縞構造ができず虹色や白色で観察されず透明度が高い極めて高精度な微細な凹凸パターンの転写方法及び複製版の提供にある。 - 特許庁

To provide a recording apparatus in which a displacement in a recording position is the most suitably adjusted in a recording sheet of paper having a relatively smaller size in a scanning direction, when a test pattern of a plurality of items including a recording position displacement in a forward and backward directions.例文帳に追加

往方向と復方向の記録位置ずれを含む複数の項目のテストパターンを走査方向に記録する際に、走査方向のサイズが相対的に小さい記録用紙において記録位置のずれを最適に調整すること。 - 特許庁