「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

When the cycle of an image pattern interferes with the number of beams in the light source in a selected image processing mode, the number of used beams for plotting one image is varied for every scanning.例文帳に追加

選択された画像処理モードでの画像パターンの周期が光源のビーム本数と干渉するときは、１画像の描画に使用するビーム数を１走査ごとに変更する。 - 特許庁

A shape of an area in the vicinity of a pattern edge is digitized, based on an image data of a sky photograph obtained by the scanning microscope, to evaluate the tapering tendency of the cross-sectional shape.例文帳に追加

走査型顕微鏡で得られた上空写真の画像データから、パターンエッジ近傍の領域の形状を数値化することによって断面形状のテーパ傾向を評価する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of providing a resist which improves shrinkage of a pattern in observation with SEM (scanning electron microscope) while retaining excellent dry etching resistance and does not require removal of metal.例文帳に追加

優れたドライエッチング耐性を維持したまま、ＳＥＭ観察時にパターンの縮みが改良され、、金属を除去する必要がないレジストを提供し得るポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When detecting an object by inter-scan integral 31 of radar beam scanning, a pattern wherein the object T is moved in the distance direction during scanning is predicted beforehand, and distance correction data for correcting the distance so as to compensate the movement are housed in a target movement correction value table 4.例文帳に追加

レーダビーム走査のスキャン間積分（３１）により目標物を検出する際、スキャン走査の間に、目標物Ｔが距離方向に移動するパターンを予め予測し、その移動を相殺するように距離補正するための距離補正データを目標運動補正値テーブル４に格納する。 - 特許庁

In a mask pattern 60 in the jet of the liquid, a jet ratio is maximized near the center in a sub-scanning direction, and gradually decreased toward both ends in the sub-scanning direction; and a decreased part is set to be an overlap area between respective main scannings.例文帳に追加

液体を噴射する際のマスクパターン６０は、噴射比率が副走査方向における中央付近で最大となり、前記副走査方向における両端に向かうに従って徐々に減少し、かつ当該減少部分が各主走査間の重複領域となるように設定されている。 - 特許庁

A pattern larger than the scanning range of a galvanomirror is machined by a laser beam machining apparatus comprising a laser beam source for radiating laser beams for machining, the galvanomirror for scanning the laser beams for machining in XY direction, and an XY stage for moving a workpiece in XY direction.例文帳に追加

加工用レーザを照射するためのレーザ光源と、加工用レーザをＸＹ方向に走査させるガルバノミラーと、加工対象物をＸＹ方向に移動させるＸＹステージとを備えたレーザ加工装置によって、ガルバノミラーの走査可能範囲よりも大きな図形を加工する。 - 特許庁

In forming an image by carrying out recording scanning of a recording head by N times (N is an integer not smaller than 1) to the same image region of the recording medium, the number of times of the recording scanning and a mask pattern to be used at the time of multi pass are set in accordance with glossiness of the recording medium.例文帳に追加

記録ヘッドを記録媒体の同一画像領域に対しＮ（Ｎは１以上の整数）回の記録走査を行うことによって画像を形成するにあたって、記録媒体の光沢度に応じて記録走査の回数やマルチパスの際の用いられるマスクパターンを設定する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for ink jet recording whereby recording pixels to be recorded are determined by applying a mask pattern for recording images by a higher resolution than a predetermined resolution to a pixel region, with respect to at least one of a horizontal scanning direction and a vertical scanning direction.例文帳に追加

主走査方向及び副走査方向の少なくとも一方に関して、所定解像度よりも高い解像度で画像を記録するためのマスクパターンを画素領域に適用して、記録される記録画素を決定するインクジェット記録装置及び方法を提供する。 - 特許庁

In this case, a scanning direction of the mask and the photosensitive substrate is aligned with the projection optical system, and the mask and the photosensitive substrate are moved along the scanning direction in a condition where alignment have been performed, and the pattern image of the mask is scanned and exposed on each exposure area of the photosensitive substrate.例文帳に追加

この場合、本発明では、マスクおよび感光性基板の走査方向を投影光学系に対して位置合わせし、位置合わせした状態においてマスクと感光性基板とを走査方向に沿って移動させて、感光性基板の各露光領域にマスクのパターン像を走査露光する。 - 特許庁

This image reader has a function which corrects the skew by reading an optional pattern arranged near a reference scale 103 by an optical device element, dividing image data into optional amounts of data in a main scanning direction on the basis of obtained data and shifting the data in a sub-scanning direction.例文帳に追加

画像読み取り装置において、基準スケール１０３近辺に配置された任意のパターンを光デバイス素子で読み取り、得られたデータをもとに画像データを主走査方向に任意のデータ量に分割し、そのデータを副走査方向にシフトすることにより、スキューを補正する機能を有する。 - 特許庁

Based on the scanning order row pattern outputted from the random number generating circuit 2, the row address decoder 7 sets the scanning order of the row electrodes, and the column driver 6 supplies the display data of all column electrodes corresponding to the row electrodes to be scanned to each column electrode at a same timing.例文帳に追加

乱数発生回路２から出力された走査順序列パターンに基づいて、ロウアドレスデコーダ７はロウ電極の走査順序を設定し、カラムドライバ６は、走査を行うロウ電極に対応する全カラム電極の表示データを同タイミングで各カラム電極に供給する。 - 特許庁

Second index faces S2.S2, each of which comprises a line pattern where lines in parallel with the main scanning direction are formed with intervals providing roughness and fineness, are provided to areas P2.P2 at both outsides of the area P1 on the upper side of the 2nd reference white board 68 in the main scanning direction.例文帳に追加

第２基準白板６８の上面の領域Ｐ１より主走査方向両外側の領域Ｐ２・Ｐ２に、ライン同士が主走査方向に平行となるラインパターンをライン同士の間隔に疎密を持たせた状態で形成した第２指標面Ｓ２・Ｓ２を設ける。 - 特許庁

The light-emitting part 3 of each light emission pattern group 23A, 23B has an equal width in the main scanning direction and a width in the sub scanning direction made different, so that a quantity of light irradiated to a recording medium is formed with an emission area corresponding to a luminance ratio optimum for obtaining a color balance.例文帳に追加

各発光パターン群２３Ａ，２３Ｂの発光部３は、主走査方向の幅が同一寸法であり、副走査方向の幅を変えることにより、記録媒体に照射される光量がカラーバランスを取るための最適な輝度比に応じた発光面積で形成される。 - 特許庁

An image of a transfer speed reference pattern provided in a first reading roller or a second reading roller is read together with a document image by a first reading section or a second reading section, to calculate a magnification ratio in a sub-scanning magnification device, on the basis of the image of the transfer speed reference pattern.例文帳に追加

第１読取ローラや第２読取ローラに設けられた搬送速度基準パターンの画像を第１読取部や第２読取部により原稿画像とともに読み取って、搬送速度基準パターンの画像に基づいて副走査変倍器での変倍率を算出する。 - 特許庁

On determination of the home position, while the scan unit 3 is moved in a sub-scanning direction and an imaging device 5 is operated for imaging on a pattern sheet 8, the home position detection pattern 8a is detected in a prescribed range S1 and thus the home position for the scan unit 3 is determined.例文帳に追加

ホームポジションの決定時には、スキャンユニット３を副走査方向に移動させ撮像装置５にパターンシート８上を撮像させつつ、所定の範囲Ｓ１においてホームポジション検出パターン８ａを検出させてスキャンユニット３のホームポジションが決定される。 - 特許庁

To provide an image processing technique that prevents a reduction in read rate of digital information in copies of subsequent generations, in copying or scanning a printed material having a specific format pattern (e.g., a barcode pattern) containing digital information.例文帳に追加

デジタル情報を含む特定形式パターン（バーコードパターン等）が印刷された印刷出力物をコピーないしスキャンするに際して、次の世代以降のコピー時におけるデジタル情報の読取率の低下を抑制することが可能な画像処理技術を提供する。 - 特許庁

The scanning type probe microscope is provided further with an acquisition-registering means for acquiring and registering a reference pattern for alignment, and a recipe formation means for recipe-registering the luminous energy to an illuminance when registering an image pattern to a recipe by the acquisition-registering means.例文帳に追加

さらに走査型プローブ顕微鏡は、アライメントのための参照用パターンを取得・登録する取得登録手段と、この取得登録手段によって画像パターンをレシピに登録した時の照度に光量をレシピに登録するレシピ化手段とを備える。 - 特許庁

The exposure of the substrate P during relative scanning includes performing fine period exposure using a fine period mask pattern formed in the first region of the mask M1 and middle density exposure using a middle density mask pattern formed in the second region of the mask M1.例文帳に追加

相対走査中に基板Ｐを露光することは、マスクＭ１の第１領域に形成された微細周期マスクパターンを用いる微細周期露光と、マスクＭ１の第２領域に形成された中密度マスクパターンを用いる中密度露光とを、ともに行うことを含む。 - 特許庁

When the scanning of the data of the image memory 3 is completed, a pattern confirmation image and a structural analysis result displaying the original image stored in the pattern confirmation part 5 and the stored symbolic mark in consideration of the phase coupling relation of the spatial arrangement of molecule constituting elements are displayed.例文帳に追加

画像メモリ３のデータを走査し終えると、パターン認識部５に保存された原画像、保存した象徴する記号を分子構成要素の空間配列の位相結合関係に配慮しながら表示したパターン認識画像、及び構造解析結果を表示する。 - 特許庁

The length of a known pattern provided, in advance, in a specified region on a sample is measured with a scanning electron microscope (S101-S104), and the length-measurement result is compared with the pattern design value to provide a magnification correction factor (S105 and S108).例文帳に追加

予め試料上の所定の領域に設けられた既知のパターンを走査形電子顕微鏡によって測長し（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）、その測長結果を前記パターンの設計値と比較することにより倍率補正係数を導出する（Ｓ１０５，Ｓ１０８）。 - 特許庁

A laser beam detection means is provided for a laser beam generation means for forming the forgery prevention tracking pattern or a laser beam generation means for simultaneously scanning by using the same surface of the rotary polygon mirror with the laser beam generation means for forming the forgery prevention tracking pattern.例文帳に追加

レーザビーム検出手段を、偽造防止追跡パターンを生成するレーザビーム生成手段、又は偽造防止追跡パターンを生成するレーザビーム生成手段と同じ回転多面鏡の面によって同時に走査するレーザビーム生成手段に対して設ける。 - 特許庁

The position of a substrate having an existent first pattern on a stage 605 is determined by scanning an alignment mark on this substrate by detecting light from an alignment laser 1001 and detecting reflected light thereof by a detector 1009 and corresponding to that position, a second pattern is corrected and projected.例文帳に追加

ステージ６０５上の、既に第１パターンがある基板の位置は、整列レーザ１００１からの検出光でこの基板上の整列マークを走査し、その反射光を検出器１００９で検出して決定し、それに応じて第２パターンを補正して投影する。 - 特許庁

Based on the field signals f1-f4, the ROM 300, 302, 304, 306 decode and output 4-line simultaneous selecting MLS operation results performed on the display patterns identified by the 1st to 4th bits of gradation data and the dummy display patterns corresponding thereto by using an orthogonal function specified by a combination of a scanning pattern and a dummy scanning pattern of a virtual electrode.例文帳に追加

ＲＯＭ３００、３０２、３０４、３０６は、走査パターンと仮想電極のダミーの走査パターンとの組み合わせにより規定される直交関数を用いて、階調データの第１〜第４ビットにより特定される表示パターンとこれに対応したダミーの表示パターンとに対して行った４ライン同時選択のＭＬＳ演算結果を、フィールド信号ｆ１〜ｆ４に基づき、デコード出力する。 - 特許庁

In order to solve the problems, the standard position of a measuring spot by a scanning electron microscope or the like is set based on position information of a standard pattern on an image acquired by the scanning electron microscope or the like, which is formed on a position separated from the measuring spot, and on information of a position relation between the standard pattern detected based on the design data and the measuring spot.例文帳に追加

上述のような問題を解決するため、測定個所から離間した位置に形成され、走査電子顕微鏡等によって得られる画像上の基準パターンの位置情報と、設計データに基づいて検出される基準パターンと測定個所の位置関係の情報に基づいて、走査電子顕微鏡等による測定個所の基準位置を設定する。 - 特許庁

A restoration part 9 obtains block address information from respective read blocks, and a reproduction part 11 determines the scanning state of a manual scan on a code in a scanning direction, according to the acquisition pattern of the block address information and gives a notice in a different style at a scan-off of the code, at excess scanning speed, or at interruption of scan, in each case.例文帳に追加

復元部９は、読み取った各ブロックからそれぞれブロックアドレス情報を取得し、再生部１１は、この取得されたブロックアドレス情報の取得パターンに基づいて、コードを走査方向に沿って手動走査したときの走査状態を判定し、コードを外れた走査がなされた時、走査速度が超過の時、及び走査を途中で止めてしまった時、それぞれ異なる態様で報知を行う。 - 特許庁

In a screen printing method for performing printing on a substrate 7 using a rectangular frame-like printing pattern 4 formed on a screen printing plate 1 as an opening, the printing is performed by making a layout so that one corner among four corners of the printing pattern 4 becomes the end of the printing pattern 4 in the scanning direction of a squeegee 6.例文帳に追加

スクリーン版１に開口部として形成された矩形枠状の印刷パターン４を用いて、基板７上に印刷を行なうためのスクリーン印刷方法において、前記印刷パターン４の４つのコーナーのうち１つのコーナーがスキージ６の走査方向における前記印刷パターン４の終点となるようにレイアウトを行って印刷する。 - 特許庁

A main control device 50 controls the characteristics of a laser beam LB emitted from a laser device 16 (laser resonator 16a) by using wavelength width directly reflected to the image formation performance of a pattern image as an index value, performs scanning exposure by using the laser beam and generates a pattern image of a reticle R.例文帳に追加

主制御装置５０により、パターン像の結像性能に直接反映される波長幅を指標値として、レーザ装置１６（レーザ共振器１６ａ）から射出されるレーザビームＬＢの特性が制御され、そのレーザビームを用いて走査露光が行われ、レチクルＲのパターンの像が生成される。 - 特許庁

To attain plotting with high accuracy and at high speed with fixed exposure on the substrate as a whole, by further enhancing the flexibility in exposure adjustment in scanning and plotting a fine pattern formed on a magnetic disk medium by electron beams, and plotting the complicated shape of the fine pattern with high accuracy.例文帳に追加

磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの電子ビームによる走査描画における照射線量調整の自由度をさらに高めて、微細パターンの複雑な形状の描画を高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。 - 特許庁

In the ink-jet printer which forms images by discharging ink while scanning an ink-jet head 1, a symmetric pattern having slits of a plurality of widths combined at constant intervals is provided as absolute position marks c, e and f to a printing pattern of a transparent encoder film M set in a carriage 2 movement direction.例文帳に追加

インクジェット記録ヘッド１を走査させつつインクを吐出し、画像を形成するインクジェットプリンタにおいて、キャリッジ２移動方向に設けられた透明エンコーダフィルムＭの印刷パターンに、一定間隔ごとに複数の幅のスリットを組み合せた対称パターンを絶対位置マークｃ、ｅ、ｆとして設けた。 - 特許庁

The entire shot region 12 including the mask pattern 13 is expanded in a scanning direction (Y direction) shown as an arrow, with a magnification m of the mask in the X direction of the mask pattern 13 being four times (m>1) and a magnification n of the mask in the Y direction being 8 (n>m>1).例文帳に追加

マスクパターン１３を含めたショット領域１２全体は、矢印で示すスキャン方向（Ｙ方向）に伸張されており、そこに形成されるマスクパターン１３のＸ方向のマスク倍率ｍは４倍（ｍ＞１）、Ｙ方向のマスク倍率ｎが８倍（ｎ＞ｍ＞１）に設定されている。 - 特許庁

To improve accuracy of a starting position of drawing in a circumference direction in each position in a radial direction of each region when a hard disk pattern is drawn by electron beam scanning, the hard disk pattern including a plurality of servo regions and data regions between the servo regions in an arc form provided from the center side to the outside of the disk.例文帳に追加

中心側から外側に向けて円弧状に設けられる複数のサーボ領域と該サーボ領域間のデータ領域からなるハードディスクパターンを電子ビーム走査により描画する際の、各領域の半径方向位置毎の周方向描画開始位置の精度を向上させる。 - 特許庁

When the inspection pattern 5a of a TAB tape 5 is fed, transmitted illumination light and reflected illumination light are thrown by a transmission illumination means 1a and a reflecting illumination means 1b and the whole of the inspection pattern 5a is scanned so as to pass the region under an inspection part 1 by a scanning means 2.例文帳に追加

ＴＡＢテープ５の検査パターン５ａが搬送されてくると、透過照明手段１ａと反射照明手段１ｂにより透過照明光、反射照明光を照射し、走査手段２により、検査パターン５ａ全体が検査部１の下を通過するように走査する。 - 特許庁

A previously selected reference pattern region is measured at a certain timing during measurement of a measurement region of sample characteristics with a scanning probe microscope, and the displacement of a probe is corrected while necessarily specifying the displacement in an XYZ axis from a measured image of the reference pattern.例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡による試料特性の測定領域を測定中のあるタイミングで予め選択されたリファレンスパターン領域の測定を行い、リファレンスパターンの測定像から適宜ＸＹＺ軸方向の位置ずれ量を特定して探針の位置ずれ補正を行う。 - 特許庁

The line pattern 8 is detected through the slit 157 having an aperture 157a parallel with a main scanning direction, whereby errors in detection timing of the line pattern 8 associated with the variation (caused by vibration or temperature change or the like) of the attaching position of the photosensor 12 are drastically decreased.例文帳に追加

ラインパターン８の検出を、主走査方向に平行な開口部１５７ａを持つスリット１５７を通して行うことにより、光センサ１２の取り付け位置の変動（振動や温度変化等による）に伴うラインパターン８の検出タイミング誤差を大幅に低減することができる。 - 特許庁

The printing device splits dot data in a subsidiary scanning direction, sets two impacts, three impacts or the like, reads corresponding pattern data from a dot pattern data generation section based on an instruction for splitting and sends monotone or multi-gradation image data to a gradation head in a dot data control section 32.例文帳に追加

本発明はドットデータを副走査方向に分割し、２度打ち、３度打ち、・・・の設定を行い、当該分割指示に基づいてドットパターンデータ生成部から対応するパターンデータを読み出し、ドットデータ制御部３２において、単階調又は多階調の画像データを階調ヘッドに送信する。 - 特許庁

On measuring length of the resist film having the above pattern formed thereon by using a CD-SEM (critical dimension scanning electron microscope), first an objective chip region 11a for length measurement is designated among a plurality of chip regions, and the position of the length measurement pattern 13a placed in the left side is identified.例文帳に追加

このようなパターンの形成が行われたレジスト膜に対して、ＣＤ−ＳＥＭを用いて測長を行う場合には、複数のチップ領域のうちから測長対象チップ領域１１ａを指定した後、その左方に位置する測長パターン１３ａの位置を特定する。 - 特許庁

Meanwhile, if the size width (a) of the transfer paper 100 is not more than the predetermined size width L2 (value obtained by subtracting the width L1 of the detection pattern forming area from the width L of the conveying belt), the test pattern for detection is formed in parallel with an image to be formed on the transfer paper 100 in a main scanning line direction.例文帳に追加

一方、転写紙１００のサイズ幅ａが、所定サイズ幅Ｌ２（搬送ベルト幅Ｌから検知用パターン形成領域幅Ｌ１を減算した値）以下の場合は、転写紙１００に形成する画像と主走査線方向並列に検知用テストパターンを形成する。 - 特許庁

A double density mode pixel pattern generating section 422 of a hard circuit configuration adds a binary image subjected to bit map expansion to the code information obtained by the pattern recognition as to the image attended with resolution change and double density processing and receives a main scanning/subscanning double density code to generate correction data through logical arithmetic operations.例文帳に追加

解像度変更：倍密を伴う画像はハード回路構成の倍密モード用画素パターン生成部４２２により、ビットマップ展開された２値画像をパターン認識し得たコード情報に加え、主走査・副走査倍密コードを入力として論理演算で補正データを生成する。 - 特許庁

An image process condition of the printing area is corrected from a test pattern detection result of the out-of-printing area on the basis of the information of a difference between an image state obtained from the test pattern detection result of the out-of-printing area and an image state of the printing area obtained by scanning a test chart 1,150.例文帳に追加

印刷外領域のテストパターン検知結果から得た画像状態と、テストチャート１１５０を走査して得た印刷領域の画像状態の差の情報を元に、前記印刷外領域の前記テストパターン検知結果から、前記印刷領域の画像プロセス条件を補正するようにした。 - 特許庁

To shorten a reference mark detecting time in an auxiliary scanning direction in correcting the skew feed of a CD-R tray in CD-R printing and to prevent erroneous detection caused by a pattern that resembles a reference mark.例文帳に追加

ＣＤ-Ｒ印刷時、ＣＤ−Ｒトレイの斜行を補正する際の副走査方向における基準マーク検出時間の短縮、かつ、基準マークに似た模様による誤検知の防止をする。 - 特許庁

In the case of discrimination of 'presence of character area' in the main scanning, the 2nd smoothing processing section 7 smoothes an image by using the 'pattern-weighted' coefficient and an edge emphasis processing section 8 applies edge emphasis processing to the smoothed image.例文帳に追加

本スキャン時に「文字領域有り」と判定した場合、第２の平滑化処理部７により「絵柄寄り」の係数で平滑化され、次いでエッジ強調処理部８によりエッジ強調処理される。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device capable of obtaining both of a transmitted illumination image and a reflected illumination image only by once scanning an imaging means and an illumination means without lowering a resolving power.例文帳に追加

解像度を低下させることなく、撮像手段と照明手段を１回走査するだけで、透過照明画像と反射照明画像の両方を得ることができるパターン検査装置を提供すること。 - 特許庁

An offset of the semi-random pattern to the scanning head of the device is combined with the absolute measurement value in order to determine the absolute position up to an extremely high resolution covering a relatively-greater two-dimensional range.例文帳に追加

装置の読取ヘッドに対する準ランダムパターンのオフセットは、相対的に大きい２次元範囲にわたり絶対位置を極めて高分解能まで決定するために絶対測定値と結合される。 - 特許庁

The light of the LED is reflected to a vehicle front by the mirror 3, and the mirror 3 is reciprocally rotated by the scanning actuator 4, and a light distribution pattern is formed in an illumination area by the periodic motion of the mirror 3.例文帳に追加

ＬＥＤの光をミラー３で車両前方に反射させ、ミラー３を走査用アクチュエータ４で往復回動し、ミラー３の周期運動により照明領域に配光パターンを形成する。 - 特許庁

Thereafter, the quality of the particle source is determined by discriminating whether each beam from the auxiliary holes is projected with uniform intensity by comparing beam profiles obtained by performing X- and Y-direction scanning by using a cross pattern.例文帳に追加

しかる後、クロスパターンを用いたＸＹ方向走査によるビームプロファイルを比較して、補助孔からの各ビーム強度が均一照射しているか否を判断し、粒子源の良否を判定する。 - 特許庁