「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The beam scanning patterns are alternately selected, and the scan control is performed according to each beam scanning pattern, so that the ultrasonic beams are scanned across the whole areas in the three-dimensional space including a space part corresponding to the blank area.例文帳に追加

これらのビーム走査パターンが交互に選択されて各ビーム走査パターンに応じた走査制御が行われることにより、ブランク領域に対応した空間部分を含む三次元空間内の全域に亘って超音波ビームが走査される。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus for applying electron beam scanning onto a wafer to detect a positioning mark and determining a proper scanning condition of the electron beam for generating a pattern of elements in the vicinity of the positioning mark with high accuracy.例文帳に追加

電子ビームをウエハ上で走査し、位置合わせマークを検出する電子線露光装置において、位置合わせマーク近傍の素子のパターンを高精度に作成するための電子ビームの適切な走査条件を決定する電子線露光装置を得ること。 - 特許庁

The method includes a sound wave scanning process which generates a plurality of sound waves (25) that travel to different directions in the liquefied layer and move the bubbles in the liquefied layer by scanning a plurality of the combined sound waves relative to the uneven pattern (CC).例文帳に追加

この方法は、液状層中を異なる方向に進行する複数の音波（２５）を発生させ、該複数の音波の合成波を凹凸パターン（ＣＣ）に対して相対的に走査して、液状層中の泡を移動させる音波走査工程を含む。 - 特許庁

Plural resistances of a pattern resistance part 8 are respectively connected to respective driving circuits of at least one side of first and second driving circuits 3, 6, 7 respectively impressing a scanning signal and an information signal on scanning electrodes and information electrodes in parallel.例文帳に追加

走査電極及び情報電極に走査信号及び情報信号をそれぞれ印加する第１及び第２駆動回路３，６，７の少なくとも一方の各ドライブ回路に、それぞれ並列にパターン抵抗部８の複数の抵抗を接続する。 - 特許庁

In the exposure apparatus for exposing a circuit pattern on the original plate on the substrate under the vacuum environment, the optical beam scanning means is provided to scan the laser beam with the scanning optical system.例文帳に追加

真空環境下で原板上の回路パターンを基板上に露光する露光装置において、原板の近傍の空間に、レーザービームを走査光学系で走査することが可能な光ビーム走査手段を設けていることを特徴とする露光装置。 - 特許庁

To provide a pattern dimension measuring method capable of measuring a cross-sectional shape using a scanning charged particle microscope such as a STEM (Scanning Transmission Electron Microscope), as to a plurality of cross sections, by one time of sample preparation, and a system therefor.例文帳に追加

ＳＴＥＭ等の走査型荷電粒子顕微鏡を用いた断面形状計測を１回のサンプル作成で複数の断面について行うことができるようにしたパターン寸法計測方法及びそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device and a scanning exposure method capable of blocking light for exposure by selectively using a light shield member to shield a region of minimum non-exposure width and efficiently shielding the entire pattern region of a mask.例文帳に追加

遮光部材を選択的に用いて露光用光を遮光して、最小非露光幅の領域を遮光できるとともに、マスクのパターン領域全域を効率的に遮光することができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供する。 - 特許庁

In this light irradiation system, a plurality of angle indicator values depending on each scanning pattern are stored in a memory 301d of DSP 301 within a scanner controller 300 as control parameters.例文帳に追加

スキャナ制御部３００内のＤＳＰ３０１が有するメモリ３０１ｄにスキャンパターンに応じた複数の角度指示値を制御パラメータとして記憶させておく。 - 特許庁

When displacement is detected in the scanning band S3, the division pattern data is shifted in accordance with the displacement amount and the drawing area by the DMD is shifted in accordance with the displacement amount.例文帳に追加

走査バンドＳ３において変位量を検出した場合、分割パターンデータを変位量に応じてデータシフトさせ、ＤＭＤの描画エリアを変位量に応じてシフトさせる。 - 特許庁

The scanning equi-speed stroke length on the mask stage 101 is made longer than the conventional exposure apparatus having a scale down to 1/4 so that the pattern writing area is the same.例文帳に追加

マスクステージ１０１におけるスキャンの等速度ストローク長を従来の１／４に縮小される露光装置より長くすることで描画領域が同一になるようにする。 - 特許庁

To provide a scanning test circuit capable of easily improving a failure detection rate of a combinational circuit, and reducing the pattern length, while suppressing increase of a test circuit scale.例文帳に追加

テスト回路規模の増大を抑えながら、組合せ回路の故障検出率を容易に向上させ、かつパタン長を削減することができるスキャンテスト回路を提供する。 - 特許庁

A dot pattern is drawn by a compound light quantity using as reference the center in the main scanning direction, as a pair of the light emitting points different in the light quantity distribution.例文帳に追加

そこで、主走査方向の中央を基準として相反する光量分布となる発光点を対として合成光量によってドットパターンを描画する。 - 特許庁

Or, a plurality of electron beams are successively made to scan as the scan starting times of the electron beams are staggered, and a pattern measurement is made at a scanning distance equal to each exposure deflection distance or above.例文帳に追加

または、複数の電子ビームの走査開始時刻をずらして順次走査することにより、個々の描画偏向距離以上の走査距離でパターン計測を行う。 - 特許庁

If the periphery of a recess pattern is assumed as equal to or less than a crystal grain size in a direction vertical to the beam scanning direction, the band-like crystal grain can be continuously formed side by side.例文帳に追加

また、凹パターンの周囲をビーム走査方向と垂直方向の結晶粒径以下とすれば、連続的に帯状結晶粒を並べて形成することが可能である。 - 特許庁

On the basis of the probability density function DK_s obtained in such a manner, the sampling point of the data of the k-space when scanning the subject is generated and a sampling pattern is prepared.例文帳に追加

このようにして求めた確率密度関数ＤＫ_ｓに基づいて、被検体をスキャンするときのｋ空間のデータのサンプリング点を発生させ、サンプリングパターンを作成する。 - 特許庁

To provide a scanning projection aligner which can print a pattern with uniform resolution over the entire surface of a light exposure region.例文帳に追加

露光領域全面にわたり均一な解像力でパターンを焼き付けることができる投影露光装置、特に走査型の投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an optical scanner capable of miniaturization, cost reduction, reliability improvement and a smooth optical scanning in any pattern.例文帳に追加

小形化、低コスト化および信頼性の向上を図ることができ、かつ、いずれのパターンでも光走査をスムーズに行うことのできる光走査装置を提供することにある。 - 特許庁

A halftone processing section 108 generates a dot pattern to be formed by applying binarization based on predetermined restriction information to the calculated scanning duty.例文帳に追加

ハーフトーン処理部１０８では、該算出された走査Ｄutyに対し、予め定められた制約情報に基づく２値化を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

To provide a scanning charged particle applying apparatus which realizes automation of manufacturing steps and a processing in a high precision by evaluating pattern images by measuring two dimensional sizes on a screen.例文帳に追加

画面中の二次元寸法を測定してパターン像を評価し、製造工程の自動化、高精度加工を実現する走査型荷電粒子線応用装置を提供する。 - 特許庁

In the case of discrimination of 'no character area' by an image area separation processing section 3 and a counter 4 in the preliminary scanning, a 'pattern-weighted' coefficient is set to a 2nd smoothing processing section 7.例文帳に追加

像域分離処理部３、カウンタ４によりプリスキャン時に「文字領域無し」と判定した場合、第２の平滑化処理部７には「絵柄寄り」の係数が設定される。 - 特許庁

A large droplet gathering pattern POD with a matrix shape is formed ((A) in the figure) by the nozzles of nozzles of the respective nozzle rows (K1, K2, C, M, Y) while scanning the recording head in a Y direction.例文帳に追加

各ノズル列（Ｋ１、Ｋ２、Ｃ、Ｍ、Ｙ）のノズルで、Ｙ方向に記録ヘッドを走査しながらマトリクス状の大玉集合パターンＰＯＤを形成する（図中（Ａ））。 - 特許庁

The receiver 10 scans the respective radio channels in a time division manner for each predetermined scanning cycle, and when detecting the preamble PA including a bit synchronization pattern, receives following data.例文帳に追加

受信器１０は所定のスキャン周期ごとに、時分割によって各無線チャンネルをスキャンし、ビット同期パターンを含むプリアンブルＰＡを検出すると続くデータを受信する。 - 特許庁

To draw a pattern with high accuracy even if height of a surface of a substrate fluctuates in scanning the substrate with optical beams by moving a chuck including the substrate mounted thereon by a stage.例文帳に追加

基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際、基板の表面の高さが変動しても、パターンの描画を精度良く行う。 - 特許庁

To prolong the service life of a pellicle film, and in addition, to more accurately and surely realize a fine resist pattern, without lowering treatment efficiency at the time of performing scanning projection alignment.例文帳に追加

走査型の投影露光おいて、ペリクル膜の長命化を実現し、かつ処理効率を下げることなく、微細なレジストパターンをより正確かつ確実に実現する。 - 特許庁

In the micro pattern correction method, a correction part is baked by repeating laser-beam scanning from one end to the other in a baking process.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、焼成する工程において、修正部の一方端から他方端までレーザ光の走査を繰り返すことによって修正部を焼成する。 - 特許庁

A test pattern 33 of at least several dot width per line is printed in the main scanning direction and subscanning direction while developing each thermal coloring layer with maximum density.例文帳に追加

主走査方向および副走査方向に、少なくとも１ライン分で数ドット幅からなり、各感熱発色層を最大濃度で発色させたテストパターン３３を印画する。 - 特許庁

The toner patterns T1 to T4 are transferred onto the recording medium, and the deviation of the recording medium in a main-scanning direction Y is obtained by detecting the transferred toner pattern.例文帳に追加

このトナーパターンＴ１〜Ｔ４は記録媒体上に転写され、転写されたトナーパターンを検出することにより記録媒体の主走査方向Ｙのずれ量を求める。 - 特許庁

In order to attain spatial and selective irradiation, laser light 2 is radiated through the image of a photomask having a slit pattern or beam scanning is carried out.例文帳に追加

空間的に選択的にレーザ光を照射するには、スリット型に作成したフォトマスクの像を結像させて照射するか、あるいはビームを走査するなどして行う。 - 特許庁

The scanning pattern 6 for a metallic product is fetched from the memory 13 and the metallic product is scanned with the laser beam when the object for printing is assigned to the metallic product.例文帳に追加

一方、印字対象物を金属製品と指定した場合には、金属製品用の走査パターン６がメモリ１３から取り出され、これに従ってレーザ光が走査される。 - 特許庁

In a scanning state of each frequency channel, a synchronization pattern is monitored for some time to detect the synchronizing signal resulting in increasing a power supply time to a radio section 12.例文帳に追加

各周波数チャネルのスキャン状態において、同期信号検出するのに、同期パターンをある程度の時間監視して、無線部１２への電源供給時間を増やす。 - 特許庁

Then, the exposure beam and the sample are relatively scanned in the selected scanning direction, so that the pattern to be exposed is drawn and exposed on the sample.例文帳に追加

そして、前記露光ビームと前記試料とを相対的に前記選択した走査方向に走査させて前記試料上に前記露光すべきパターンを描画露光する。 - 特許庁

A beam having a sectional dimension in accordance with the dimension of a pattern B is formed, a member having an edge is scanned by the beam, and a signal waveform obtained by the scanning is stored.例文帳に追加

次に、パターンＢの寸法に対応した断面寸法のビームを成形し、該ビームでエッジを有する部材上を走査し、該走査により得られた信号波形を記憶する。 - 特許庁

The peripheral rim isolation groove forming step comprises a step of scanning the laser in a way that the inside terminal of laser beam pattern in respective pulses is superposed on the burr preventing groove.例文帳に追加

前記周縁分離溝形成ステップは、各パルスにおけるレーザービームパターンの内側端部を、前記バリ防止溝に重ねるようにレーザーを走査するステップ、を含む。 - 特許庁

When performing pattern exposure, the non-magnetism base 91 is moved so the orbit of the position irradiated by the electronic beam 93 matches the tracking and scanning orbit of the magnetic head.例文帳に追加

パターン露光を行う際、電子ビーム９３の照射位置の移動軌道が磁気ヘッドのトラッキング走査軌道に対応するように非磁性基体９１を移動させる。 - 特許庁

To suppress the variation of the shape of a resist pattern caused by the deformation of a pellicle film in a scanning exposing device while realizing the long life of the pellicle film at a photomask.例文帳に追加

フォトマスクにおけるペリクル膜の長命化を実現しつつ、走査型露光装置において、ペリクル膜の変形によって生じるレジストパターンの形状の変動を抑える。 - 特許庁

Respective patterns K1 to Y1 constituting the test pattern T1 are formed so that density near both ends in a width direction (main-scanning direction) may be higher than that on the inside.例文帳に追加

テストパターンＴ１を構成する各パターンＫ１〜Ｙ１は、幅方向（主走査方向）両端部近傍の濃度がその内部よりも大きくなるよう形成されている。 - 特許庁

A beam having a sectional dimension in accordance with the dimension of a pattern A is formed, a member having an edge is scanned by the beam, and a signal waveform obtained by the scanning is stored.例文帳に追加

パターンＡの寸法に対応した断面寸法のビームを成形し、該ビームでエッジを有する部材上を走査し、該走査により得られた信号波形を記憶する。 - 特許庁

The calculated gravity center position is detected as the delivery center position that is the center about the main scanning direction of the delivery port 108 corresponding to the line pattern 71.例文帳に追加

算出した重心位置を当該ラインパターン７１に対応する吐出口１０８の主走査方向に関する中心である吐出口中心位置として検出する。 - 特許庁

A reference position of a measurement position by a scanning electron microscope or the like is set based on position information of a reference pattern on an image which is formed at a position apart from the measurement position and obtained by a scanning electron microscope or the like and information of the position relationship between a reference pattern detected based on a design data and the measurement position.例文帳に追加

上述のような問題を解決するため、測定個所から離間した位置に形成され、走査電子顕微鏡等によって得られる画像上の基準パターンの位置情報と、設計データに基づいて検出される基準パターンと測定個所の位置関係の情報に基づいて、走査電子顕微鏡等による測定個所の基準位置を設定する。 - 特許庁

In additon, a pattern with a specified area ratio of the dot forming region is formed by printing by reciprocating scanning with different speed in accordance with the mode of a printing apparatus and optical characteristics of the pattern are measured and the measured optical characteristics are applied to the above described function to obtain an adjusted value of the condition on dot forming position between printings on reciproducing scanning on each mode.例文帳に追加

そしてプリント装置のモードに応じて速度を異ならせた往復走査でのプリントにより所定のドット形成域の面積率を持つパターンを形成させ、そのパターンの光学特性を測定し、当該測定された光学特性を前記関数に適用して、往復走査でのプリント間のドット形成位置条件の調整値を各モード毎に得る。 - 特許庁

When a plurality of laser beams are selected and multiple exposure is carried out many times while shifting one unit pattern so that mutual scanning positions of the laser beams are made different from each other, multiple exposure is carried out at least twice with mutually different laser beams among the selected laser beams while shifting one unit pattern so that the positions are made different from each other only in the scanning direction.例文帳に追加

レーザービームを複数選択しその相互の走査位置がずれるように多数回一単位パターンの位置をずらして重ねて露光するうち、複数選択したうち相異なるレーザービームをそれぞれ少なくとも二回、相互に走査方向のみ位置がずれるように一単位パターンの位置をずらして重ねて露光することを特徴とする。 - 特許庁

Part of the array wiring pattern formed in the light emitting element array board 20 is a plurality of data line patterns sequentially alternately drawn out to both ends of the subsidiary scanning direction B of the light emitting elements of a 2^N array from one end of a main scanning direction A every other pattern and a plurality of data line patterns are connected with the first and second flexible boards 60A and 60B.例文帳に追加

発光素子アレイ基板２０に形成されたアレイ配線パターンの一部は、主走査方向Ａの一端より順次一つおきに、２^Ｎ列の発光素子の各々から副走査方向Ｂの両端の端部に交互に引き出される複数のデータ線パターンであり、複数のデータ線パターンが第１，第２のフレキシブル基板６０Ａ，６０Ｂに接続される。 - 特許庁

When low-order four-bit contents of scene information SC are changed into '0010', display control data stored in a display ROM and read out of a sub-CPU is switched to slant scanning of a special pattern, namely, slant scanning for executing an offset display position to a display portion in the neighboring column of a special pattern display portion 16B.例文帳に追加

シーン情報ＳＣの下位４ビットの内容が「００１０」へと変化した時、サブＣＰＵ５４から読み出される表示用ＲＯＭ５６格納の表示制御用データは、特別図柄の走査方向を斜め、すなわちオフセット表示位置を特別図柄表示部１６Ｂの隣接する列の表示部へ実行する斜め走査に切り替わる。 - 特許庁

A scanning controller of an optical scanner obtains, at every predetermined timing and at each station, a reference pattern for suppressing density variation in a sub-scanning direction and a light emission power correction equation for suppressing the density variation in a main scanning direction based on output signals from three optical sensors and an output signal from a home position sensor corresponding thereto.例文帳に追加

光走査装置の走査制御装置は、所定のタイミング毎に、各ステーションで、３つの光学センサの出力信号及び対応するホームポジションセンサの出力信号に基づいて、副走査方向の濃度変動を抑制するための基準パターン、及び主走査方向の濃度変動を抑制するための発光パワー補正式を求める。 - 特許庁

Information padding in arbitrary images is enabled by preparing an area having a fixed scanning configuration irrespective of change, in a modulus of scanning area in a screen shape used in a screen processing to reproduce a gradation image on a printed matter, to make the scanning configuration of the area a suitable graphic for pattern matching or frequency characteristic.例文帳に追加

印刷物上で階調画像を再現する処理であるスクリーン処理の際に用いるスクリーン形状に、画線面積率の増減にかかわらず、一定の画線構成を有する領域を設け、その領域の画線構成がパターンマッチングや周波数特性に適した図形とすることによって、任意の画像に情報の埋め込みを可能とする。 - 特許庁