「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The integrated circuit further comprises a circuit (24) for inserting a specified pattern, while coupling, into the first elements of a plurality of scanning channels, a circuit (26) for detecting a specified pattern in the last elements of a plurality of scanning channels, and circuits (22, 23) for determining the number of elements in a longest scanning channel in response to the detection circuit.例文帳に追加

集積回路は、複数のスキャンチャネルの各々の最初のエレメント内に所定のパターンを結合して入れるための回路（２４）、複数のスキャンチャネルの各々の最後のエレメント内の所定パターンを検出する回路（２６）、および検出回路に応答して最長スキャンチャネル内のエレメント数を判定する回路（２２，２３）をも含む。 - 特許庁

The division pixel is compared with a reference division pixel; and if the division pixel is found larger, the charged particle beam is made to repeatedly scan a plurality of times in the first scanning direction by using the data corresponding to the pattern in the scanning line portion of the pattern data without aligning the scanning start positions of the charged particle beam in the same division pixel.例文帳に追加

基準分割画素と分割画素とを比較し、分割画素が大きい場合、同じ分割画素内で荷電粒子ビームの走査開始位置を一致させることなく、パターンデータのうち、走査線部分のパターンに相当するデータを用いて、荷電粒子ビームを第１の走査方向に複数回繰り返し走査させる。 - 特許庁

This authenticity determining device 20 reads the scanning pattern data and the media characteristic data stored in a magnetic stripe 2 of the media 1 taken in a device body, and the microwave is applied and scanned on the media 1 on the basis of the scanning pattern data.例文帳に追加

真偽判別装置２０は、装置本体に取り込んだ媒体１の磁気ストライプ２に記憶されている走査パターンデータ、および媒体特性データを読み取り、この走査パターンデータに基づいて媒体１にマイクロ波を照射して走査する。 - 特許庁

By setting the aperture pattern of the mask used in the 1st scanning exposure process (S12 and S22) and the 2nd scanning exposure process (S13 and S23) to surface shape having desired curvature, the irregular pattern is made a rotational symmetric surface.例文帳に追加

前記第１走査露光工程（Ｓ１２，Ｓ２２）及び前記第２走査露光工程（Ｓ１３，Ｓ２３）で用いられる前記マスクの開口パターンを、所望の曲率を有する面形状になるように設定することで、前記凹凸パターンを回転対称面にする。 - 特許庁

Upon receiving an image signal outputted from a reading section, an original document reading position detection section monitors the change in the density, in the scanning direction from a white pattern to an original document and a change in the density in the scanning direction from a black pattern to the original document.例文帳に追加

原稿読取位置検出部は読取部から出力される画像信号を受け付けると、白パターンから原稿への走査方向における濃度の変化、および黒パターンから原稿への走査方向における濃度の変化を監視する。 - 特許庁

The shape of a pattern to be exposed is rendered to be a bit map, the pattern data in the bit map format is rearranged and stored for every scanning line 401, 402, 403, and 404, and exposure beam scanning on the sample 108 is subjected to on/off control based on the stored data.例文帳に追加

露光すべきパターンの形状をビットマップ化し、該ビットマップ形式のパターンデータを走査線４０１、４０２、４０３、４０４毎に並べ替えて記憶し、記憶したデータに基づいて試料１０８上を走査する露光ビームをオンオフ制御する。 - 特許庁

A resist pattern comprises a reference color line consisting of at least one line, and an detection object color pattern consisting of a plurality of lines, and the respective lines are formed at different positions in the sub scanning direction and extend in the main scanning direction.例文帳に追加

レジストパターンは、少なくとも１本のラインで構成された基準色ラインと、複数本のラインで構成された検出対象色パターンとからなり、これら各ラインは、副走査方向の異なる位置に主走査方向に伸びるように形成する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus using microlens arrays, even if an exposure pattern is deviated from a reference pattern, capable of preventing a displacement of an exposure pattern by detecting deviation during the exposure, and improving the accuracy of the exposure pattern in overlay exposure.例文帳に追加

露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。 - 特許庁

In a method for making a photomask, a mask pattern 5 is divided into two in the scanning direction of a scanner, and a first division pattern portion 10, consisting of a Levenson type phase shift mask pattern, is formed in one divided region whereas a second division pattern portion 20 consisting of an auxiliary pattern type phase shift mask pattern is formed in the other divided region, thus forming a photomask 1.例文帳に追加

フォトマスク製作工程において、マスクパターン５がスキャナの走査方向で二分割され一方の分割領域にはレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる第一分割パターン部１０が、他方の分割領域には補助パターン形位相シフトマスクパターンからなる第二分割パターン部２０が形成されたフォトマスク１が製作される。 - 特許庁

A first beam deflection device (43, 67 and 78) moves the scanning area (31, 33) to the interested area (27, 29), and a second beam deflection device (49, 72 and 94) works as scanning in a form of bent pattern in the scanning area (31, 33).例文帳に追加

第１のビーム偏向装置（４３，６７，７８）が、関心のある領域（２７，２９）に走査領域（３１，３３）を移動し、第２のビーム偏向装置（４９，７２，９４）は、走査領域（３１，３３）の内部で曲折模様形状の走査を行うように作用する。 - 特許庁

A scanning speed controller 8 decides the maximum scan speed geared to the design rule from the relation between the quantity of stage oscillation and the stage scanning speed, referring to a scanning speed table 10, based on the pattern size and the design rule inputted from an input apparatus 9.例文帳に追加

スキャンスピード制御装置８は入力装置９から入力されるパターンサイズ及び設計ルールを基にスキャンスピードテーブル１０を参照し、ステージ振動量とステージスキャンスピードとの関係から設計ルールに応じた最大のスキャンスピードを決定する。 - 特許庁

In this case, the CPU of the code reader sets a plurality of scanning lines U, M, and D in a character area 1b, and identifies the character 3 based on the data pattern of the character 3 optically obtained by scanning the character 3 according to the plurality of scanning lines.例文帳に追加

その場合、コード読取り装置のＣＰＵは、文字領域１ｂに複数の走査線Ｕ，Ｍ，Ｄを設定し、それら複数の走査線に従って走査を行うことで光学的に得られた文字３のデータパターンに基づいて文字３を識別する。 - 特許庁

The linear scanning pattern 14 can be steered at a desired angle θ so as to provide a high quality image.例文帳に追加

直線走査パターン１４は、高品質画像が得られるよう所望の角度θに操向させることが可能なものである。 - 特許庁

To appropriately maintain the performance of a scanning probe used for evaluating and forming a fine-structured pattern of nanometer or less for a long time.例文帳に追加

ナノメートル以下の微細構造パターンの評価や形成に用いられるスキャニングプローブの性能を長期間良好に保つ。 - 特許庁

To provide a planar antenna that optimizes an H plane radiation pattern and has a scanning function with high performance with a simple configuration.例文帳に追加

Ｈ面放射パターンを適性化でき、走査機能を有する高性能な平面アンテナを簡単な構成で提供すること。 - 特許庁

To suppress a length measuring error by difference of a shrink amount by scanning of an electron beam in each pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、電子線の走査によるシュリンク量がパターンごとに異なることによる測長誤差を抑制することにある。 - 特許庁

In the second pattern, the thickness in appearance is not changed and the blank formed in the sub-scanning direction is not changed.例文帳に追加

これに対して、第２パターンは見かけ上の太さも変わらず、副走査方向に形成された空白は影響を受けない。 - 特許庁

On the plurality of images obtained at the same time, scanning shift of the primary electron beams is the same at places of the repetition pattern to be compared.例文帳に追加

同時に取得した複数の画像上に、比較する繰り返しパターンの処に一次電子ビームの走査ずれは同じである。 - 特許庁

An image forming section 40 forms, on paper, a belt-shaped pattern having a specific gradation and a prescribed length, and extending in a main scanning direction.例文帳に追加

画像形成部４０は、主走査方向に延びた、所定長さの特定階調の帯状パターンを用紙上に形成する。 - 特許庁

Thus, even when the numbers repetition of the timing pulses within one horizontal scanning period is large, the amount of the pattern data is not increased.例文帳に追加

これにより、タイミングパルスの１水平走査期間内の繰り返し数が多くてもパターンデータのデータ量が増加することがない。 - 特許庁

To make errors in the exposure of a substrate small, when the pattern of a mask is transferred to the substrate by a scanning exposure system.例文帳に追加

走査露光方式でマスクのパターンを基板上に転写する場合に、その基板に対する露光量の誤差を小さくする。 - 特許庁

To improve throughput while forming a high-resolution pattern without lowering scanning speed and extending the length of an exposure pitch.例文帳に追加

走査速度の低下、露光ピッチの長さ拡張等することなく、高解像度パターンを形成しながらスループットを向上させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of precisely detecting a toner pattern for detecting color shift in a main scanning direction in a short time period.例文帳に追加

主走査方向の色ずれ検出用トナーパターンを高精度に、かつ、短時間で検出できる画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus improved in detection accuracy for a shift of a toner pattern in a main scanning direction.例文帳に追加

トナーパターンの主走査方向のずれ量の検知精度を向上させることができる画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To make the shape observation and dimension inspection of very fine pattern possible in an electron beam inspection device of a scanning electron microscope for example.例文帳に追加

走査形電子顕微鏡などの電子ビーム検査装置において、微細なパターンの形状観察や寸法検査を可能とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming apparatus by which a pattern in a relatively wide region of a square millimeter or larger can be formed in a short time by electrochemical lithographic pattern forming method and the pattern can be formed without using an expensive apparatus such as an AFM (atomic force microscope) and an STM (scanning tunneling microscope).例文帳に追加

電気化学リソグラフィーによるパターン形成方法において、平方ミリメートル以上の比較的広い領域に渡るパターン形成を、短時間で行うことを可能とするとともに、ＡＦＭ、ＳＴＭなどの高価な装置を用いることなくパターンを形成し得るパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

After a light-shielding layer and a resist layer to produce an exposure mask are formed in this order, a pattern is drawn in the resist layer by scanning with electron beams EB relatively in the Y direction with specified scanning width while relatively moving the scanning region EA in the X direction for every scanning period.例文帳に追加

露光用マスクを製造するための遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってＹ方向に相対的に走査される電子ビームＥＢの走査領域ＥＡを１走査毎にＸ方向に相対移動させながらレジスト層に描画する際に、前記走査を２サイクル以上繰り返す。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for scanning a light transmission means having an exit tip, constituted of moving the tip in an elliptical pattern, while making the eccentricity of the elliptical pattern vary.例文帳に追加

楕円パターンを描くように先端部を運動させながら楕円パターンの偏心率を変化させる、出口先端部を有する光伝送手段の走査方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a recording device and a recording method which is constituted so as to select a dot arrangement pattern with due regard to scanning direction of a recording head and develop a multi-valued data into binary data by using the dot arrangement pattern.例文帳に追加

記録ヘッドの走査方向を考慮してドット配置パターンを選択し、そのパターンを用いて多値データを２値データに展開するようにした記録装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

By this exposure scanning, a region irradiated with the pulse light transmitting through the transmissive pattern SLG1 is then irradiated with pulse light transmitting through the transmissive pattern SLG2 after a predetermined period has passed.例文帳に追加

この露光走査によれば、透過パターンＳＬＧ１を透過したパルス光が照射された領域には、所定時間経過後に、透過パターンＳＬＧ２を透過したパルス光が照射される。 - 特許庁

During a series of test pattern cycles, scanning with a probe pulse 609 of the test pattern is performed so that it is vertical to an equivalent time sampling for re- configuration of DUT waveform.例文帳に追加

一連のテストパターンサイクルの期間中にテストパターンのプローブパルス６０９による走査をＤＵＴ波形の再構成のために等価時間サンプリングと垂直になるように行う。 - 特許庁

The recorder calculates the gravity center position as to an orthogonal direction (main scanning direction) orthogonal to a conveying direction of the line pattern 71, based on a read result of the line pattern 71 by an image sensor 17.例文帳に追加

画像センサ１７によるラインパターン７１の読み取り結果に基づいて、ラインパターン７１の搬送方向に直交する直交方向（主走査方向）に関する重心位置を算出する。 - 特許庁

A density calculation section 220 calculates an average density of patches configuring a test pattern image by each prescribed main scanning directional position on the basis of the test pattern image read by an image reading section.例文帳に追加

濃度算出部220は、画像読取部によって読み込まれたテストパターン画像に基づいて、所定の主走査方向位置毎に、テストパターン画像を構成する各パッチの平均濃度を算出する。 - 特許庁

Then, the region wherein the other pattern exists is set to be a region to be measured, and translation symmetry is detected by scanning this region to detect the other pattern.例文帳に追加

次に、他方のパターンが存在する領域を被計測領域として設定し、その領域を走査して並進対称性を検出することにより他方のパターンを検出する。 - 特許庁

The monochrome pattern 36 of the test pattern 34A has length covering all over the area in a light beam scanning direction and includes yellow(Y), magenta(M), cyan(C), black(K) and a secondary color pattern 36YC by the secondary color (superimposition) of yellow(Y) and cyan(C).例文帳に追加

テストパターン３４Ａの単色パターン３６は、光ビーム走査方向全域を覆う長さとなっており、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）、イエロー（Ｙ）とシアン（Ｃ）の二次色（重ねあわせ）による二次色パターン３６ＹＣを含んでいる。 - 特許庁

To prevent each pattern of the tracking patterns from being separated from a grid, the data mask circuit 66 generates a tracking pattern signal so that each pattern may have a length equivalent to at least two periods of the clock in a beam scanning direction.例文帳に追加

データマスク回路６６は追跡パターンの個々のパターンがグリッドから外れることを防止するため、個々のパターンが少なくともビーム走査方向に沿ってクロック２周期分に相当する長さとなるように追跡パターン信号を生成する。 - 特許庁

In a reflective lithographic projection apparatus, shifts of a mask pattern image in the scanning direction, which are caused by changes in the position of the mask pattern surface along the optical axis, are corrected by shifting the relative position(s) of the mask and/or a substrate in the scanning direction.例文帳に追加

反射型リソグラフィ投影機器において、光軸に沿ってマスクのパターン表面の位置が変動することによって生じるマスクのパターン像の走査方向のシフトを、マスクおよび／または基板の相対位置を走査方向にシフトすることによって補正する。 - 特許庁

In a pattern drawing device directly forming a circuit pattern, a measuring plate on which a complete set of line sensors composed of a first line sensor along a secondary scanning direction and a second line sensor along a main scanning direction is disposed is placed on a drawing table in place of a print-circuit board.例文帳に追加

直接回路パターンを形成するパターン描画装置において、プリント基板の代わりに、副走査方向に沿った第１ラインセンサ、主走査方向に沿った第２ラインセンサから構成されるラインセンサ一式を配置した計測板を描画テーブルに設置する。 - 特許庁

Regarding multi-path recording, a cluster mask is used for a mask pattern for generating data to be recorded upon first scanning, and a dispersion mask is used for a mask pattern for generating data to be recorded upon the second or subsequent scanning, accordingly, the color irregularity and the granularity are reduced.例文帳に追加

マルチパス記録において、最初の第１走査で記録されるデータを生成するためのマスクパターンに集中マスクを用い、第２走査以降に記録されるデータを生成するためのマスクパターンに分散マスクを用いることにより、色むらと粒状性を低減する。 - 特許庁

To provide a measuring method using a scanning probe microscope capable of quantitatively grasping the irregularity of the shape or physical properties of the pattern on a two-dimensional plane, the relation between the shape and physical properties of the pattern, pattern arrangement precision and the like in the analysis of the pattern having feasures in its shape, physical properties or the like.例文帳に追加

形状もしくは物性等に特徴を有するパターンの解析において、二次元平面でのパターン形状や物性のばらつき、パターン形状と物性の関係、パターン配列精度等を定量的に把握することができる測定方法を提供する。 - 特許庁

When a pattern 13 having a relatively large area and a wiring pattern 14 of a narrow width are formed on a surface of a base 15, only a boundary part of the pattern having the relatively large area and the wiring pattern of the narrow width are scanned, so that an attempt is made to shorten the scanning time and the analysis time.例文帳に追加

比較的面積の大きいパターン１３と狭幅の配線パターン１４が基体１５表面に形成されている場合、比較的面積の大きいパターンの境界部と狭幅の配線パターンのみの走査を行って、走査時間と解析時間の短縮化を図る。 - 特許庁

The toner pattern 50A for detecting color shift in the main scanning direction Y includes a reference line 51 extending in the main scanning direction Y and first and second slant lines 52, 53 having a prescribed angle θ.例文帳に追加

主走査方向Ｙの色ずれ検出用トナーパターン５０Ａは、主走査方向Ｙに延在する基準線５１と、所定の角度θを有する第１及び第２斜線５２，５３を備えている。 - 特許庁

To provide a scanning exposure method which permits the refining of a pattern using an easy constitution without providing complicated functions, in the scanning type exposure method which employs a plurality of projection optical systems.例文帳に追加

複数の投影光学系を用いた走査型露光方法において、複雑な機能を備えることなく、容易な構成によりパターンの高精細化を可能とする、走査型露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a microscope apparatus capable of enhancing image quality of an in-vivo observation image of a bio-sample, and capable of freely selecting a scanning speed, a scanning pattern and an operating condition of a light source etc.例文帳に追加

生物標本のｉｎ-ｖｉｖｏ観察画像の画質を向上させ、走査速度や走査パターン、光源等の使用条件を自由に選択することができる顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁

Scanning wiring 15c is conductively connected with each scanning electrode 15a in a 1st electrode group 15A1 through a detour pattern in which the scanning wiring 15c passes once by the side of the 1st electrode group 15A1 from the input terminal column side, and then returns in the reverse direction.例文帳に追加

走査配線１５ｃが入力端子列側から一旦第１電極群１５Ａ１の側方を通過し、その後、逆方向に戻るという迂回パターンを介して第１電極群１５Ａ１内の各走査電極１５ａに導電接続されている。 - 特許庁