「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A pattern composed of dot groups is drawn by scanning an inkjet head 1 having nozzle rows for discharging droplets to a substrate 3.例文帳に追加

基板３に対して、液滴を吐出するノズル列を有するインクジェットヘッド１を走査することにより、ドット群によるパターンを描画する。 - 特許庁

Linear portions of a desired circuit pattern are drawn on resist while tilted by an irrational number angle from a drawing coordinate axis or a scanning direction.例文帳に追加

所望の回路パターンの直線部分を描画座標軸もしくはスキャン方向から無理数角傾けてレジスト上に描画する。 - 特許庁

A transmission part 2 outputs an ultrasonic driving signal for performing ultrasonic scanning by a prescribed operation pattern to an ultrasonic probe 1.例文帳に追加

送信部２は、所定の動作パターンで超音波走査を行うための超音波駆動信号を超音波プローブ１に出力する。 - 特許庁

The scanning electron microscope 10 includes the image processor 4 for performing the pattern matching of a first image and a second image.例文帳に追加

走査型顕微鏡１０は、第１の画像と第２の画像とのパターンマッチングを行なう画像処理装置４を含んで構成される。 - 特許庁

To decrease the number of exposure scanning times when a pattern drawing apparatus acts on a substrate having a plurality of drawing object regions.例文帳に追加

パターン描画装置が複数の描画対象領域を有する基板を対象とする場合における露光走査の回数を低減する。 - 特許庁

Then, on the basis of the inclination of the photographic table 36, the starting pulse pattern of a driving motor 54 constituting the scanning part 50 is changed.例文帳に追加

そして、撮影台３６の傾斜量に基づいて、走査部５０を構成する駆動モータ５４の起動パルスパターンが変更される。 - 特許庁

A function showing a transition of a change of a pattern dimension when the electron beam is irradiated on a sample is prepared in each the sample pattern, a dimension value of the pattern measured by scanning the electron beam on a specific pattern is applied to the function prepared for the specific pattern, and the dimension of the specific pattern before the change is calculated.例文帳に追加

この目的を達成するために、本発明によれば、試料パターンの種類ごとに、試料上に電子線を照射したときのパターン寸法の変化の推移を示す関数を用意し、特定パターンに前記電子線を走査して測定された前記パターンの寸法値を、当該特定パターンのために用意された前記関数に当てはめて、前記特定パターンの変化前の寸法を算出する。 - 特許庁

In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To shorten the scanning time of image data for one screen, in an image processor for calculating a characteristic quantity of a pattern consisting of connected pixels contained in image data, and accurately calculate a characteristic quantity of the pattern after scanning the image data without storing the image data.例文帳に追加

画像データに含まれる連結された画素からなる図形の特徴量を算出する画像処理装置において、１画面の画像データの走査時間を短縮し、画像データを記憶することなく、画像データの走査後に正確な図形の特徴量を算出できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

Here, if the density in the scanning direction from the white pattern to the original document changes, from high to low, or the density in a scanning direction from the black pattern to the original document changes from low to high, the original document reading position detection section determines the position where change has occurred as the original document reading position.例文帳に追加

ここで、白パターンから原稿への走査方向における濃度に高から低への変化が生じた場合、または黒パターンから原稿への走査方向における濃度に低から高への変化が生じた場合、原稿読取位置検出部は変化が生じた位置を原稿読取位置に決定する。 - 特許庁

Further, the system is provided with scanning adjustment means from 75 through 79 which automatically adjust a resonant scanner 14a and a galvanoscanner 14b for scanning the surface of the specimen with light so that the two-dimensional pattern of the confocal image coincides with the two-dimensional pattern of the color image when the two-dimensional test patter is picked up.例文帳に追加

また、二次元テストパターンを撮像したときに、共焦点画像の二次元パターンがカラー画像の二次元パターンに一致するように、試料表面を光で走査するためのレゾナントスキャナー１４ａ及びガルバノスキャナー１４ｂの自動調整を行う走査調整手段７５〜７９を備えている。 - 特許庁

When the rectangle retained constitutes a gradation pattern (S23:YES), a group of drawing instructions for drawing the rectangles is converted into drawing instructions by which an image depicting one line of the gradation pattern in the main scanning direction is repeatedly drawn in a subsidiary scanning direction (S25).例文帳に追加

そして、保持された長方形がグラデーションパターンを構成する場合には（Ｓ２３：ＹＥＳ）、それら長方形を描画する描画命令群を、そのグラデーションパターンの主走査方向の１ライン分を描画するイメージが、副走査方向に繰り返し描画される描画命令に変換する（Ｓ２５）。 - 特許庁

The image drawing apparatus 3 includes: a light source unit 4 which emits light; an optical scanning part 5 which scans the optical scanning face 21 with the light; a driving pattern generation means 7 which generates a driving pattern of the light source unit 4; and an operation control apparatus 8 which controls the operation of the light source unit 4.例文帳に追加

画像描画装置３は、光を出射する光源ユニット４と、この光を光走査面２１に走査する光走査部５と、光源ユニット４の駆動パターンを生成する駆動パターン生成手段７と、光源ユニット４の作動を制御する作動制御装置８とを有している。 - 特許庁

The driving pattern creation means 7 creates such a driving pattern as a correction image is plotted on the light scanning surface 21 so that the observation image may correspond to the change of the screen 2, while plotting a basic image on the light scanning surface 21 so that an observation image to be desirably observed by a viewer may be visually recognized.例文帳に追加

駆動パターン生成手段７は、観測者に観測させたい観測画像が視認されるように光走査面２１に基本画像を描画するとともに、スクリーン２の変化に観測画像が対応するように光走査面２１に補正画像を描画するような駆動パターンを生成する。 - 特許庁

In a line image pattern formed by deviating the writing timing in a main scanning direction and/or a sub scanning direction, a toner image of line Y formed by an image forming means for Y in the test pattern is formed so as to be superposed within a matte patch range by M or C toner.例文帳に追加

主走査方向及び／又は副走査方向について書き込みタイミングをずらして形成した線像パターンで、該テストパターン内でＹの画像形成手段によって形成されたＹ線のトナー像はＭ又はＣトナーによるマット状のパッチ範囲内に重ねて形成されている。 - 特許庁

Herein, a deterioration degree measurement part 1-3 scans the regulated input character pattern, finds the number of black pixels from a scanning range, and finds the degree of deterioration of the number of black pixels due to a difference value from the standard character pattern in the standard pattern dictionary 1-5.例文帳に追加

ここで、劣化程度計測部１−３は、正規化入力文字パターンを走査し、走査範囲から黒画素数を求め、標準パターン辞書１−５の標準文字パターンとの間で差分値による黒画素数の劣化程度を求める。 - 特許庁

In the case of starting printing, a pattern recognition part compares the character of the repeated waveform pattern stored in the storage means with the value of the deviation in a main scanning direction detected by a sensor and detects the phase information of each repeated waveform pattern.例文帳に追加

印刷開始の際、パターン認識部が記憶手段に記憶されている繰り返し波形パターンの特徴と、センサによって検出された主走査方向のずれ量の値とを比較して各繰り返し波形パターンの位相情報を検出する。 - 特許庁

The circumferential length L of a secondary transfer roller 119, the repeating interval P of a drum clearance-correcting pattern 412 to be repeatedly drawn, a maximum value p_max of sub-scanning directional width of lines included in the pattern and a minimum value g_min of sub-scanning directional clearance of adjacent lines in the pattern satisfy the relation of p_max≤|P-L|≤g_min.例文帳に追加

２次転写ローラ１１９の周長Ｌと、繰り返し描画されるドラム間隔補正用パターン４１２の繰り返し間隔Ｐと、パターンに含まれる線の副走査方向の幅の最大値ｐ_ｍａｘと、パターンにおいて隣接する線の副走査方向の間隔の最小値ｇ_ｍｉｎとが、ｐ_ｍａｘ≦｜Ｐ−Ｌ｜≦ｇ_ｍｉｎの関係を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

When the image read section reads a test pattern outputted from an image output section, a paper sheet 300 on which the test pattern image is outputted is set on a platen glass pane 303 of the image read section in a way that a main scanning direction 301 of the image output section at output of the test pattern image is dissident with a main scanning direction 302 of the image read section.例文帳に追加

画像出力部によって出力されたテストパターン画像を画像読取部によって読取る際、テストパターン画像が出力された用紙３００を、テストパターン画像を出力したときの画像出力部の主走査方向３０１と、画像読取部の主走査方向３０２とが一致しないようにして、画像読取部のプラテンガラス３０３上にセットする。 - 特許庁

To provide a method for determining a correction pattern capable of reducing man-hours for determining a correction pattern, in determining a periodic unevenness correction pattern of an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam with a rotary polygon mirror, and to provide a light beam scanner for scanning a recording body by deflecting a light beam with the rotary polygon mirror.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、補正パターン決定のための工数を減らすことができる補正パターンの決定方法及び光ビームを回転多面鏡で偏向して記録体上を走査する光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

As to the pattern transferred to each shot region of a wafer 12, the regularity of the arrangement based on the scanning direction is detected, and the position of each pattern is detected based on the detected regularity.例文帳に追加

ウエハ１２の各ショット領域に転写されているパターンについて、スキャン方向に基づく配列の規則性を検出し、検出された規則性に基づいて、各パターンの位置を検出する。 - 特許庁

To obtain an image processor that solves a problem of a mixed pattern efficiently through one scanning in an image processor that conducts conversion to express a color image in a black/white pattern.例文帳に追加

カラー画像を白黒のパターンで表現する変換を行う画像処理装置において、一回のスキャン動作で、効率よく、パターンの混ざりを解決するようにした画像処理装置を提供する。 - 特許庁

When a pattern detection section of an IPP 5 of an image processing apparatus detects a specified pattern in image data obtained by scanning a document, the image data are stored in a limited memory 60 which requires a password and a reset key.例文帳に追加

画像処理装置のIPP５のパターン検知部で、書類をスキャンして得られた画像データ中に特定パターンを検知すると、画像データは、パスワードと解除キーが必要な制限メモリ60へ格納される。 - 特許庁

To provide an antenna device for forming the second beam pattern of a different frequency, beam shape or beam-scanning angle in a short time, after forming a first beam pattern in the antenna device, using digital beam forming.例文帳に追加

ディジタルビームフォーミングを用いたアンテナ装置において第１のビームパターンを形成後、周波数やビーム形状、ビーム走査角度等が異なる第２のビームパターンを短時間で形成するアンテナ装置を得る。 - 特許庁

The repair wiring pattern 128 is drawn and formed, for instance, by scanning, with a laser beam, a region planned for the repair wiring pattern 128 in a gas atmosphere of a conductive material such as tungsten.例文帳に追加

修復配線パターン１２８は、例えばタングステンなどの導電材料のガス雰囲気中で修復配線パターン１２８の形成領域をレーザビームで走査することで、描画して形成することができる。 - 特許庁

Record permitting pixels of a mask pattern C1 for the first nozzle group and a mask pattern M1 for the second nozzle group which are used for the same scan (e.g. a first scan) among a plurality of times of scanning are differently arranged.例文帳に追加

複数回の走査のうちの同じ走査（例えば、第１走査）で使用される、第１ノズル群用のマスクパターンＣ１と第２ノズル群用のマスクパターンＭ１との記録許容画素の配置を異ならせる。 - 特許庁

The driving pattern generation means 7 generates the driving pattern so as to cancel the distortions of the image due to the non-flat shape of the optical scanning face 21 when the observer views the screen 2 from the observation point.例文帳に追加

駆動パターン生成手段７は、観測者が観測点からスクリーン２を見たときに、光走査面２１の非平面形状に起因した画像の歪みが相殺されるような駆動パターンを生成する。 - 特許庁

Respective wiring patterns of the signal line and the scanning line are extended near the terminal pattern and are electrically connected to the terminal pattern via an ITO film 215, made of the same base as that of a pixel electrode.例文帳に追加

信号線、走査線の配線パターンはそれぞれ上記端子パターンの近傍まで延伸され、画素電極と同一基材のＩＴＯ膜２１５を介して、上記端子パターンと電気的に接続される。 - 特許庁

In such a manner, by omitting useless processing corresponding to the depth of the scanning of detecting the end of the specified pattern, the processing of detecting the specified pattern from the image is accelerated in the image processor.例文帳に追加

このように、特定パターンの端を検出した走査の深さに応じて、無駄な処理を省略することで、画像処理装置は、画像から特定パターンの検出する処理の高速化を図る。 - 特許庁

The control part relatively scans the measuring object and the pattern in a predetermined direction, and acquires a plurality of images with different scanning positions of the pattern light, while changing parameters.例文帳に追加

制御部は、測定対象物とパターン光とを所定方向に相対的に走査させるとともに、パターン光の走査位置がそれぞれ相違する複数の画像を上記のパラメータを変化させながら取得する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus which converts drawing instructions on the basis of the width in a main scanning direction of a figure pattern constituting a gradation pattern, and also to provide an image forming apparatus which is equipped with the image processing apparatus.例文帳に追加

グラデーションパターンを構成する図形パターンの主走査方向における幅を基準に描画命令の変換を行う画像処理装置およびそれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The exposure method for illuminating a mask M1 with illumination light and exposing the substrate P using the mask pattern of the mask M1 includes scanning the substrate P relative to the mask M1 in a scanning direction which is an in-plane direction of the substrate P, and exposing the substrate P during relative scanning.例文帳に追加

照明光でマスクＭ１を照明し、マスクＭ１のマスクパターンを用いて基板Ｐを露光する露光方法は、基板Ｐを、マスクＭ１に対して基板Ｐの面内方向である走査方向に相対走査させること、相対走査中に基板Ｐを露光することを含む。 - 特許庁

The pattern detection process circuit 3 sends to an LUT circuit, a code corresponding to density information of three pixels in total, namely, a pixel at a main scanning direction position to be recorded in the 600 dpi binary image data, and its upper and lower two pixels, and a vertical scanning shift amount inputted from a vertical scanning registration shift detecting part.例文帳に追加

パターン検出処理回路３は、６００ｄｐｉの２値画像データ内の記録しようとする主走査位置の画素とその上下２画素、あわせて３画素の濃度情報と副走査レジストずれ検出部から入力される副走査シフト量に応じたコードをＬＵＴ回路へ送る。 - 特許庁

The fixing cylinder 136 has a guide part 160 capable of adjusting the fixing position of the brush 146 on the fixing cylinder 136 in both directions, i.e. a scanning direction for scanning the conductive pattern 143 by the straight advancing cylinder 133 and a direction orthogonal to the scanning direction.例文帳に追加

固定筒１３６は、直進筒１３３が導電パターン１４３を走査する走査方向、及び、前記走査方向に対して直角な方向の両方向に関して、ブラシ１４６を固定筒１３６に取り付ける位置を調整することができるガイド部１６０を有する。 - 特許庁

To provide a light beam scanning optical device which can restrain interference between the displacement of a beam and image processing means (screen pattern) even when magnification correction in a sub-scanning direction is carried out by fine adjustment of a rotational speed of a rotating polygon in interlace scanning by plural beams.例文帳に追加

複数のビームによる飛び越し走査において、副走査方向の倍率補正を回転多面鏡の回転速度を微調整して行う場合にあっても、ビームの位置ずれと画像処理手段（スクリーンパターン）との干渉を抑制できる光ビーム走査光学装置を得る。 - 特許庁

An image evaluation pattern 1 is read by an image reader 100 and a measuring instrument 101 to obtain image position data 3 containing a main-scanning position and a sub-scanning position of four colors and a difference (slippage amount 4) between the image position data 3 and a position to be printed originally in a sub-scanning direction.例文帳に追加

画像評価用パターン１を画像読み取り装置１００、計測機１０１で読み取り、４色の主走査位置及び副走査位置を含む画像位置データ３と、画像位置データ３と本来印字されるはずの位置との副走査方向の差（ずれ量４）を得る。 - 特許庁

By the constitution like this, a scanning pattern can be changed every frame while avoiding the position of the final scanning line where electrostatic charges are seemed to be most accumulated by the beam scanning in the preceding frame, thereby forming a charged particle beam image having no partial imbalance of brightness.例文帳に追加

このような構成によれば、前フレームでのビーム走査によって、帯電が最も蓄積されていると考えられる最終走査線位置を避けつつ、フレーム毎に走査パターンを変化させることができるため、部分的な明るさの偏りがない荷電粒子ビーム画像を形成することが可能となる。 - 特許庁

The delay time for the data formation time occurring before the pattern to be exposed is obtained on the sample is calculated for each of a predetermined plurality of scanning directions X and Y, and the scanning direction having the shorter delay time is selected as the scanning direction in that case.例文帳に追加

その場合の走査方向として、前記露光すべきパターンが前記試料上に得られるまでに発生するデータ生成時間のための遅延時間を、予め定められた複数の走査方向Ｘ、Ｙ毎に算定し、算定された遅延時間がより短い走査方向を選択する。 - 特許庁

The method for charged particle beam lithography in which the substrate is exposed to the desired pattern by raster scanning a charged particle beam includes an adjusting step of narrowing the size of the charged particle beam on the substrate in the raster scanning direction as compared with the size of the beam in the direction perpendicular to the raster scanning direction.例文帳に追加

荷電粒子線をラスタースキャンして基板を露光する荷電粒子線描画方法において、基板上の荷電粒子線のラスタースキャン方向における大きさを、前記ラスター方向と直交する方向における大きさに比べ狭める調整ステップを有する。 - 特許庁

The identification patterns are arranged in the main scanning direction corresponding to multiple patterns arranged in the main scanning direction X, and, based on a detection signal from the sensor 15, a deviation level of each pattern's sub-scanning direction Y is calculated and a recording starting position for each pattern is adjusted.例文帳に追加

識別マークは、主走査方向Ｘに配列された複数のパターンに対応して主走査方向に配列されており、識別マーク位置検知センサ１５からの検知信号に基づいて各パターンの副走査方向Ｙのずれ量を算出し各パターンの画像の記録開始位置を調整する。 - 特許庁

The plurality of lines constituting the detection object color pattern extend in the main scanning direction with one virtual straight line running in the sub scanning direction defined as a reference position, and the length dimension of the respective lines in the main scanning direction are formed stepwise long or short at uniform length dimensions.例文帳に追加

検出対象色パターンを構成する複数本のラインは、副走査方向に走る一つの仮想直線を基準位置として主走査方向に伸びており、各ラインの主走査方向の長さ寸法は、均等な長さ寸法で段階的に長くまたは短く形成されるようになっている。 - 特許庁

A stop 4 is provided at one pupil A and a scanning mirror 5 is provided at the other pupil B to actualize the exposure device which can carry out two-dimensional wide-range machining by scanning by the mask pattern and linear micromachining.例文帳に追加

一方の瞳Ａに絞り４、他方の瞳Ｂに走査ミラー５を設けることで、マスクパターンの走査による２次元的な広範な加工と線状の微細加工を同時に行なう露光装置を実現できる。 - 特許庁

The driving circuit integrated liquid crystal display device is so constituted that a transparent electrode pattern is not provided at a region on a counter substrate a display part, a vertical scanning circuit and a horizontal scanning circuit or the counter substrate itself is not covered.例文帳に追加

表示部、垂直走査回路、水平走査回路上に覆われている対向基板上の領域に透明電極パタ−ンを設けないようにするか、或いは、対向基板そのものが覆われないように構成する。 - 特許庁

A head 12 for discharging the resist solution on a wiring board 2 has a plurality of nozzles arranged in the main scanning direction and a plurality of nozzles arranged over the length corresponding to the width of the wiring board on in the sub-scanning direction and the resist pattern is formed on the whole surface of the wiring board by scanning the wiring board and the head only once in the main scanning direction.例文帳に追加

配線基板２にレジスト液を吐出するヘッド１２は主走査方向に複数のノズルが並べられるとともに、副走査方向に配線基板の幅に対応する長さにわたって複数のノズルが並べられ、配線基板とヘッドとを主走査方向に１回だけ走査させて配線基板の全面にレジストパターンを形成する。 - 特許庁

In a method and a device for determining dynamic scanning distortion occurring in a lithography scanner, a special reticle pattern is exposed over the entire field to be identified.例文帳に追加

リソグラフィスキャナで起る動的走査歪みを判断する方法と装置において、識別するフィールド全体に特殊なレクチルパターンを露光する。 - 特許庁