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scanning patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 836件
To provide an inkjet image-drawing method and an inkjet image-drawing apparatus, capable of drawing a highly accurate line pattern with a few scanning numbers in a short time.例文帳に追加
少ない走査数にて短時間に高精度な線パターンを描画できるインクジェット描画方法およびインクジェット描画装置を提供する。 - 特許庁
To accurately control the scanning speed of the rays of light to scan a semiconductor wafer in accordance with the pattern of a lower layer in scan-and-repeat type exposure.例文帳に追加
スキャンアンドリピート型の露光において、半導体ウェハ上を走査される光の走査速度を下層のパターンに合わせて正確に制御する。 - 特許庁
Therefor, a machining process is done from A" to B", and the machining path, i.e. the scanning pattern is moved to the center as compared with the machining from A to B'.例文帳に追加
その結果A”からB”まで加工が行われ、AからB’と比較して加工の軌跡すなわち走査パターンが中心に移動させられる。 - 特許庁
To precisely measure exposure value for an exposure field, in exposure of a pattern by a scanning-type aligner in semiconductor manufacture.例文帳に追加
半導体製造におけるスキャン型露光装置によるパターンの露光において、露光フィールド内の露光量の測定を正確に行い行う。 - 特許庁
A 3D data set 10 is determined from a plurality of images 30 of a pattern 3 projected on the object 2, and the images form a scanning sequence.例文帳に追加
3Dデータセット10は、物体2上に投影されたパターン3の複数の画像30から決定され、画像は、走査シーケンスを生成する。 - 特許庁
To facilitate the positioning of an optical source and a scanner mechanism, and to precisely display a display pattern in a prescribed position, in finder displaying by optical scanning.例文帳に追加
光走査によるファインダー表示において、光源およびスキャナ機構の位置決めが容易で、表示パターンを所定位置に精度よく表示する。 - 特許庁
To provide a holding apparatus for holding a printed circuit substrate, for a scanner system for scanning for directly writing a pattern on the surface of the printed circuit substrate.例文帳に追加
印刷回路基板へパターンを直接書込むための走査器システムに用いる回路基板を保持するための保持装置を提供する。 - 特許庁
To provide an optical scanner which can prevent the deviation in the scanning pattern of a laser beam on a surface to be scanned by preventing mispositioning of a cylindrical mirror.例文帳に追加
シリンドリカルミラーの位置ずれを防止し、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれを防止可能な光走査装置を提供する。 - 特許庁
A feature information extraction part 14 extracts a spectrum pattern by performing frequency analysis by resolving the extracted fingerprint image into scanning lines.例文帳に追加
特徴情報抽出部14は、採取された指紋画像を走査線に分解して周波数解析を行うことでスペクトルパターンを抽出する。 - 特許庁
A user visually confirms a test pattern thus printed, selects a patch located in the center in the main scanning direction, and inputs that identification information.例文帳に追加
ユーザはこのようにプリントされたテストパターンを目視し、主走査方向の中心に位置しているパッチを選び、その識別情報を入力する。 - 特許庁
To provide a pattern processing method with which sufficient etching resistance of a resist film is ensured without scanning with an ultraviolet laser beam.例文帳に追加
紫外レーザビームの走査を行うことなく、かつレジスト膜の十分なエッチング耐性を確保することができるパターン加工方法を提供する。 - 特許庁
The waveform pattern PT is set so that relaxation oscillation specific to the laser light source is produced larger as the scanning speed Vh is lower.例文帳に追加
この波形パターンPTは、走査速度Vhが遅くなるほどレーザ光源固有の緩和振動を多く生じさせるように設定されている。 - 特許庁
The widths of sector apertures 40 and 42 can be narrowed and the width of the linear scanning pattern 14 can be widened so as to form the image with a shallow depth.例文帳に追加
浅い深さでの画像形成のために、セクタアパーチャ40,42の幅を狭め、直線走査パターン14の幅を広くすることができる。 - 特許庁
In an apparatus for forming a circuit pattern 11 by a liquid discharge head 10, a pattern forming solution is discharged while controlling a relative position between the liquid discharge head 10 and a base member 1, such that a scanning direction of the liquid discharge head 10 is coincident with a longitudinal direction of each line segment pattern of the circuit pattern 11 in the formation.例文帳に追加
液体吐出ヘッド10によって回路パターン11を形成する装置において、液体吐出ヘッド10の走査方向が、形成中の回路パターン11の各線分パターンの長手方向と一致するように液体吐出ヘッド10と基材1の相対位置を制御しながらパターン形成用溶液の吐出を行う。 - 特許庁
The image forming device sets a threshold value for determining whether the light amount detected from the formed color shift detection pattern is detected from the color shift detection pattern or is detected from the source other than the color shift detection pattern according to the length in the sub-scanning direction of the derived color shift detection pattern of each color.例文帳に追加
また、画像形成装置は、形成した色ずれ検出パターンから検出された光量が色ずれ検出パターンから検出された光量か色ずれ検出パターン以外のものから検出された光量かを判別するための閾値を、導出した各色ずれ検出パターンの副走査方向の長さに応じて設定する。 - 特許庁
The woven pattern deformed by performing scanning, etc. is specified and deleted by specifying the position of the woven pattern on the basis of the second error-corrected information and after that, a woven pattern of watermarks having new information is embedded and the information is updated.例文帳に追加
誤り訂正した第2の情報に基づいて地紋パターンの位置を特定することで、スキャン等して変形した地紋パターンを特定して消去を行い、その後、新しい情報をもつ透かしの地紋パターンを埋め込むことで、情報の更新が可能となる。 - 特許庁
At the time of performing scanning exposure, the mask 14 is moved upward or downward in the figure so that the whole surface of the pattern area 10 may be illuminated successively.例文帳に追加
スキャン露光では、マスク14を図の上方、又は下方に向けて移動させ、これによりパターン領域全面が順次照明されるようにする。 - 特許庁
To prevent a double matrix type electrooptical device from having a display defect in striped pattern by contriving the shape of scanning lines.例文帳に追加
2重マトリクス方式の電気光学装置において、走査線の形状を工夫することにより、縞模様状の表示不良が生じるのを防止する。 - 特許庁
For the reading of the two-dimensional code, the data marks and the positioning marks are detected by the same process of scanning and matching using a matching pattern.例文帳に追加
また、2次元コードを読み取る際には、前記データマークと位置決めマークを、照合パターンを用いて照合しながら走査する同一のプロセスを通して検出する。 - 特許庁
In this situation, the array pitch of the output faces 15 arranged in the direction crossing the scanning direction of the polygon mirror 27 is made equal to resolution of an exposure pattern.例文帳に追加
この場合、ポリゴンミラー27の走査方向と交差する方向に配置する出射端15の配列ピッチを露光パターンの分解能に等しくする。 - 特許庁
In this method, when operating autofocus, a scanning pattern of an electron beam optimum to operate the autofocus is selected in advance according to the surface structure of a sample 5.例文帳に追加
オートフォーカス動作の際には、あらかじめ試料5の表面構造に応じて、オートフォーカスを行うのに最適な電子ビームの走査パターンの選択が行われる。 - 特許庁
As a result, a scanning display device changes a speckle noise pattern resulting from an interference phenomenon of a laser light beam, and reduces a speckle noise by a temporal averaging effect.例文帳に追加
その結果、レーザ光ビームの干渉現象に起因するスペックルノイズパターンを動的に変化させ、時間的平均化効果により、スペックルノイズを低減する。 - 特許庁
The method and the device are provided for measuring the dimension of a pattern formed on a sample by the scanning with charged particle beams.例文帳に追加
本発明は荷電粒子線の走査によって試料上に形成されたパターンの寸法を測定するパターン寸法測定方法及び装置に関する。 - 特許庁
An adjustment pattern which is shifted by one dot in a scanning direction is printed on a printing medium with a print head at a controllable highest resolution of the printer.例文帳に追加
印刷媒体にプリントヘッドでプリンタ装置の制御可能な最高解像度で、走査線方向に1ドットづつ移動した調整パターンを印字する。 - 特許庁
To detect failure in a spatial light modulator modulating a light beam in an early stage, upon drawing a pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam.例文帳に追加
光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、光ビームを変調する空間的光変調器の不具合を早期に検出する。 - 特許庁
The composite scanning pattern 12 provides the broad visual field in the both of the image formation in the shallow part and the image formation in a deep part.例文帳に追加
複合走査パターン12は、浅い部分での画像形成および深い部分での画像形成の両方において幅広い視野を提供するものである。 - 特許庁
A sensor 131 detects an image concentration of an image pattern formed on a photoreceptor drum 40 of each color by an imaging device and a light beam scanning apparatus.例文帳に追加
センサ131は、作像装置及び光ビーム走査装置により、各色の感光体ドラム40上に形成された画像パターンの画像濃度を検出する。 - 特許庁
An amorphous silicon 10 is scan-irradiated with a beam pattern 11 including a plurality of recessed patterns 11a in a first scanning direction 12 (a first crystallization process).例文帳に追加
非晶質シリコン10に、複数の凹パターン11aを含むビームパターン11を、第1のスキャン方向12にスキャン照射する(第1の結晶化工程)。 - 特許庁
To provide a scanning exposure apparatus using a variable forming mask, the apparatus that can perform exposure with optimum resolution according to a pattern.例文帳に追加
可変形成マスクを用いた走査型露光装置であって、パターンに応じた最適な解像度で露光することができる走査型露光装置を提供する。 - 特許庁
During scanning, the laser beam is on/off controlled and a plurality of spots scattered radially are projected to an observation area including an affected part A as a pattern light.例文帳に追加
走査の間、レーザービームをON/OFF制御し、放射状に点在する複数のスポットを、パターン光として病変部Aを含む観察エリアに投影する。 - 特許庁
During the scanning exposure, the image of a periodic pattern 33, comprising a rod-like mark 33a formed on the reticle R, is detected with a photodetector 34.例文帳に追加
この走査露光中に、レチクルR上に形成された棒状のマーク33aからなる周期パターン33の像を、受光器34により検出する。 - 特許庁
An FPN (Fixed Pattern Noise) memory 14 stores a digital pixel signal in a dark state outputted from a logarithmic conversion solid-state imaging element 11 on the basis of the scanning clock.例文帳に追加
FPNメモリ14は、走査クロックに基づいて対数変換型固体撮像素子11から出力された暗時のディジタル画素信号を記憶する。 - 特許庁
A point of change P4 (position of cumulative width value 180+1=181) in the tone of a dirt e1 belongs to the dirt e1 on a scanning line L2, that is, to the dark pattern.例文帳に追加
汚れe1の明暗の変化点P4(累積幅値180+1=181の位置)は、走査線L2上では汚れe1、つまり暗パターンに属する。 - 特許庁
To provide a beam-scanning inspection apparatus which can carry out length-measurement of a pattern and the like with accuracy.例文帳に追加
本発明の目的は、上記問題を解決し精度良くパターン等の測長を行うことができるビーム走査形検査装置を提供することにある。 - 特許庁
The two-dimensional data are converted into an one-dimensional data sequence by scanning the two-dimensional data of the quantized value according to the scan order of the determined scan pattern (S3).例文帳に追加
決定されたスキャンパターンのスキャン順に従って量子化値の2次元データをスキャンすることにより,2次元データを1次元データ列に変換する(S3)。 - 特許庁
After synchronizing them, a specified circuit pattern is plotted on the surface of the body 72 by scanning with the laser beams LB1 and LB2 while moving the body 72 in a subscanning direction.例文帳に追加
同期した後、被描画体72を副走査方向に移動しつつ、表面にレーザビームLB1、LB2の走査により所定の回路パターンを描画する。 - 特許庁
To measure a reticle pattern surface without increasing a device inspection time before exposure treatment in a scanning type exposure device.例文帳に追加
本発明は、走査型露光装置において露光処理前の装置検査時間を増加させることなく、レチクルパターン面測定を行うことを目的とする。 - 特許庁
A light intensity pattern detected by the interaction of the measuring scale 15 and the scanning scale 25 is formed on the detection surface 31 of the detector 3.例文帳に追加
測定目盛15と走査目盛25との相互作用によって、検出される光強度パータンが検出器3の検出面31に形成される。 - 特許庁
A plurality of nozzles (22) are disposed in a zigzag pattern, in which angles of the oblique nozzle lines folded into V-shapes and the scanning direction are denoted by +θ and -θ.例文帳に追加
複数のノズル(22)を折れ線状に配置し、V字に折り返される斜めのノズル列と走査方向とのなす角度をそれぞれ+θ、−θとする。 - 特許庁
An image pattern is formed while taking account of a position subjected to disturbance of scanning by matching the growing point of mesh point with an optical system being scanned continuously.例文帳に追加
網点の成長点を連続走査される光学系と一致させ、走査の乱れの出やすい位置を考慮した画像パターンの形成を行う。 - 特許庁
At the solid line position and the virtual line position A, C, discharge is performed from the drawing pattern data at the timing synchronized to the scanning position of the discharge head 103.例文帳に追加
実線位置および仮想線位置A,Cにおいては、吐出ヘッド103の走査位置に同期したタイミングで、描画パターンデータに基づいた吐出が行われる。 - 特許庁
As a different scanning pattern can be gotten on each media 1, the forgery of the media 1 can be surely prevented, and the security can be improved.例文帳に追加
媒体1毎に走査するパターンを異ならせることができるので、媒体1の偽造を略確実に防止することができ、セキュリティを向上させることができる。 - 特許庁
The pixel structure includes a scanning line, a gate pattern, a first dielectric layer, a channel layer, a source, a drain, a data line, a second dielectric layer, and a pixel electrode.例文帳に追加
走査線、ゲートパターン、第一誘電体層、チャネル層、ソース、ドレイン、データ線、第二誘電体層および画素電極を有する画素構造が提供される。 - 特許庁
A scanning route of the laser beam on a substrate is decided from pattern information of the sub-island so that the sub-island is irradiated with the laser beam.例文帳に追加
さらにサブアイランドのパターン情報から、少なくともサブアイランドにレーザー光が照射されるように、基板上におけるレーザー光の走査経路を定める。 - 特許庁
The table utilized for changing the shade pattern changes table input data to table output data so as not to discharge ink dots in a head-scanning direction continuously.例文帳に追加
シェードパターンの変更に利用するテーブルは、ヘッド走査方向にインクドットの吐出が連続しないように、テーブル入力データをテーブル出力データに変更する。 - 特許庁
The forming position of the pattern image in the main scanning direction by the resist adjustment or the toner density adjustment or the like thereafter is corrected, based on the deviation distance Ls.例文帳に追加
誤差距離Lsに基づいて、以後のレジスト調整時又はトナー濃度調整等におけるパターン画像の主走査方向の形成位置を修正する。 - 特許庁
The pattern P is provided with numerals N of '1'-'17' sequentially arranged at equal intervals in a horizontal scanning direction of the printer, and squares 44 corresponding to the numerals N respectively.例文帳に追加
パターンPは、プリンタの主走査方向に「1」〜「17」までが順に等間隔に並んだ数字Nと、各数字Nに対応する升目44とを備える。 - 特許庁
To provide a measuring method of a regist pattern with high accuracy by controlling the volume shrinkage of a scanning electron microscope which is caused by electron irradiation.例文帳に追加
走査型電子顕微鏡の電子線照射によるレジストパータンの体積収縮を抑制して、測定精度を向上し得る方法を提供する - 特許庁
A plurality of light emitting elements 74 and 75 for forming the pattern for detecting the inclination of the line head are provided at both the main-scanning-direction ends of the glass substrate 62.例文帳に追加
ガラス基板62の主走査方向両端には、ラインヘッドの傾き検出用パターンを形成する複数の発光素子74、75を設けている。 - 特許庁
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