「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

In the recording device for recording by multi-pass recording, the recording is carried out by using a mask pattern having a masking ratio that is gradually decreased in the scanning/traveling direction of the recording head in respective forward/backward scanning operations by the recording head.例文帳に追加

マルチパス記録により記録を行う記録装置であって、記録ヘッドの往路方向及び復路方向の各走査において、マスク率が前記記録ヘッドの走査進行方向に徐々に低くなるようなマスクパターンを使用して記録を行うことを特徴とする。 - 特許庁

Also, each gate signal from the main and ancillary gate generation part 206 is inputted in the trim region-test pattern generation part 208, and a gate signal in the arbitrary scanning and ancillary scanning direction is obtained independently, so that a plurality of test patterns can be printed on the same printing paper separately.例文帳に追加

主・副走査ゲート発生部２０６からの各種ゲート信号がトリム領域・テストパターン生成部２０８に入力され、任意の主走査・副走査方向のゲート信号が独立に得られ、複数のテストパターンを、独立して同一の印刷用紙に印字できる。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a resist layer composed of an oxonol-based dye on a substrate; scanning a laser beam to the formed resist layer at a scanning speed of 1 m/s or more and 30 m/s or less; and developing the resist layer scanned by the laser beam with a developer containing alcohol as a main component.例文帳に追加

基板上に、オキソノール系色素からなるレジスト層を形成し、形成されたレジスト層上に走査速度１ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。 - 特許庁

The nozzle part 2 is tilted in the traveling direction (scanning direction) as shown by the arrow and its tilt angle θ is controlled based on the discharge speed of the liquid material and the scanning speed, whereby pattern defects due to lateral expansion of the liquid material discharged on the substrate 1 is prevented.例文帳に追加

矢印で示す走行方向（走査方向）にノズル部２を傾斜させ、その傾斜角度θを、液状材料の吐出速度および走査速度に基づいて制御することで、基板１上に吐出された液状材料の横広がりによるパターン不良を防ぐ。 - 特許庁

A scanning test of a combination circuit 200 is performed on the basis of a test pattern generated by a scan pattern generation circuit 300, a comparison control circuit 400 compares a test result with an expected value to check the shifting of the flip-flops 100-105.例文帳に追加

スキャンパターン生成回路３００で生成したテストパターンに基づいて組み合せ回路２００のスキャンテストを実行し、比較制御回路４００がテスト結果と期待値との比較を行い、フリップフロップ１００〜１０５のシフト動作の確認を行う。 - 特許庁

In the recorder, the amount of ink droplet to be used for recording at least one dot constituting the rear side in the scanning-direction of a carriage 5 in a pattern 400 is less than that of the ink droplet to be used for recording other dots in the pattern 400.例文帳に追加

本実施形態の記録装置は、パターン400内のキャリッジ5の走査方向後方側を構成する少なくとも１つのドットを記録する際のインク滴は、パターン400内の他のドットを記録する際のインク滴よりも、インク量を少なくする。 - 特許庁

A drawing pattern 8 is heat-treated by local high temperature annealing using laser in the same device 1 immediately after carrying out pattern drawing by a solution 6 containing the inorganic material by using a cantilever 2 of a scanning type probe microscope on a substrate 5.例文帳に追加

基板５上に走査型プローブ顕微鏡のカンチレバー２を用いて無機材料を含む溶液６によるパターン描画を行った直後に、同一装置１内においてレーザを用いた局所高温アニールにより描画パターン８を加熱処理する。 - 特許庁

The system is equipped with a scanning electron microscope 30 for measuring a pattern line width in a vacuum chamber 20 for dry etching so as to carry out intermediate length measurement of a pattern line width while a dry-etched photomask substrate 10 is mounted in the vacuum chamber for dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング用真空チャンバー２０にパターン線幅を測長する走査型電子顕微鏡３０を備え、ドライエッチングしたフォトマスク基板１０をドライエッチング用真空チャンバー内に載置した状態でパターン線幅を中間測長する。 - 特許庁

A recording sheet P is carried in the subscanning direction Y (step S4), and a rectangular pattern TP2 is recorded at the same position as the rectangular pattern TP1 in the main scanning direction X by ejecting ink only when the recording head moves rightward (step S5).例文帳に追加

記録紙Ｐを副走査方向Ｙへ搬送し（ステップＳ４）、記録ヘッドが右方向へ移動するときのみインクを吐出して、主走査方向Ｘにおいて矩形パターンＴＰ１と同一の位置に矩形パターンＴＰ２を記録する（ステップＳ５）。 - 特許庁

To provide a measuring method/means which can measure a shape of an arbitrary pattern such as surrounded by non parallel lines when a pattern length is to be measured with the use of display image information of a scanning microscope or the like and which prevents personal differences and errors for each measurement.例文帳に追加

走査型顕微鏡等のディスプレイ画像情報を用いたパターン測長において非平行線で囲まれたような任意パターンの形状測定が可能で、個人差や測定毎の誤差が出にくい測定手法／手段を提供する。 - 特許庁

To provide a master disk for magnetic transfer having a reference servo pattern for transfer suitable for a method for scanning and drawing an electron beam in an circumferential direction corresponding to a reference servo signal of a spiral system; to provide a drawing method of a pattern for magnetic transfer; and to provide a magnetic recording medium to which the magnetic transfer pattern is transferred.例文帳に追加

スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応し、電子ビームを円周方向に走査して描画する方法に適する転写用のリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写パターンが転写された磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

A reference pitch pattern SP having substantially fixed pitch and extending in the direction of its width (direction X of main scanning) and a variable pitch pattern VP whose pitch is changed at substantially fixed ratio are formed to overlap mutually while conveying the print sheet P1, thereby forming a gradation pattern GP in which shading is changed in the direction of paper width (step S4).例文帳に追加

プリントシートＰ１を搬送しながら、その幅方向（主走査方向Ｘ）に延びる略一定ピッチの基準ピッチパターンＳＰと、略一定の割合でピッチの変化する変更ピッチパターンＶＰとを、互いに重なるようにして形成し、これにより、ペーパ幅方向に濃淡の変化するグラデーションパターンＧＰを形成する（ステップＳ４）。 - 特許庁

An alignment pattern detection sensor 40 includes a light emitting diode (LED) 40A and a photo diode (PD) 40B, these elements are disposed along the scanning direction of the alignment pattern Pm, and the photo diode 40B is disposed so as to receive only diffused reflection light of reflected light from the alignment pattern Pm.例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサ４０は、発光ダイオード（ＬＥＤ）４０Ａと、フォトダイオード（ＰＤ）４０Ｂを有し、これらの素子は位置合わせパターンＰｍの走査方向に沿って配置され、フォトダイオード４０Ｂが、位置合わせパターンＰｍからの反射光の拡散反射光のみを受光できるように配置されている。 - 特許庁

The laser beam emitted from a laser beam source 61 is subjected to on-off control by an AOM 62 in accordance with the image data, such as wiring patterns, to be formed on the body to be pattern formed and the prescribed patterns are formed on the body 100 to be pattern formed moving in a +Y direction by scanning the body to be pattern formed by means of an AOD 66.例文帳に追加

被描画体１００に描画すべき配線パターンなどの画像データに基づいて、レーザ光源６１から照射されたレーザ光をＡＯＭ６２でオン・オフ制御するとともに、ＡＯＤ６６でＸ方向に走査させて、＋Ｙ方向に移動する被描画体１００上に所定のパターンを描画する。 - 特許庁

An image processing apparatus defines a pattern to be synthesized with a background part among patterns, which are to be synthesized with the background part related to a ground tint image and a latent image part, as a pattern having a plurality of regions with different coverages in a main scanning direction, and executes a process of synthesizing the pattern with the background part.例文帳に追加

画像処理装置は、地紋画像にかかわる背景部および潜像部のそれぞれと合成されるパターンのうち当該背景部と合成されるパターンについては主走査方向にカバレッジの異なる複数の領域を有するパターンとし、当該パターンと当該背景部との合成処理を実行するようにした。 - 特許庁

The image forming apparatus samples the correction test pattern by high speed scanning in response to the number of samples, stores temporarily color data to an image memory and thereafter converts the data into color information so that the sampling is carried out at a higher speed than that of prior arts and also the labor of pattern replacement can be omitted by pattern replacement using an RDF.例文帳に追加

補正テストパターンのサンプリングをサンプリング数に応じて高速スキャンでサンプリングし、その色データを一時的に画像メモリに記憶してから色情報に変換することでこれまでより高速にサンプリングできるだけでなく、ＲＤＦによるパターン交換を行うことでパターン交換の手間を省くことができる。 - 特許庁

Thus, as compared with a pattern drawing device having only one light source, the frequency of the lights emitted to a region where one drawn pattern element is drawn on the substrate 9 can be doubled and the moving speed of the substrate 9 in the main scanning direction during drawing the pattern can be increased to improve the drawing speed of the pattern on the substrate 9.例文帳に追加

これにより、１つの光源のみを有するパターン描画装置に比べて、基板９上の１つの描画パターン要素が描画される領域に照射される光の周波数を２倍とすることができ、パターンの描画時における基板９の主走査方向の移動速度を増大させて基板９に対するパターンの描画速度を向上することができる。 - 特許庁

The scanning electron microscope having a function specifying a desired position based on a pattern registered beforehand, comprises a means for setting information about the type of the pattern, spaces between a plurality of parts forming the pattern and the size of parts forming the pattern, and a means for forming a pattern image formed of a plurality of the parts based on information acquired by the setting means.例文帳に追加

本発明は、予め登録されているパターンに基づいて、所望の位置を特定する機能を備えた走査電子顕微鏡において、パターンの種類，パターンを構成する複数の部分間の間隔、及びパターンを構成する部分の寸法に関する情報を設定する手段と、当該手段によって得られた情報に基づいて、複数の部分によって構成されるパターン像を形成する手段を備えた走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The storage part 211 stores laser output data to change emission intensity of a laser beam in one line of a main scanning direction depending on concentration alternation in an image formation result of a pattern image.例文帳に追加

記憶部２１１は、パターン画像の画像形成結果における濃度変化に応じて主走査方向の１ライン内でレーザビームの発光強度を変更させるレーザ出力データを記憶する。 - 特許庁

A picture region is divided like matrix so that inspection areas can be set, and the change of brightness and darkness is detected based on a brightness and darkness pattern outputted along a main scanning line in each inspection area.例文帳に追加

画像領域をマトリックス状に分割して検査区域を設定し、各検査区域において、主走査線に沿って出力される明暗パターンに基づいて明暗変化を検出する。 - 特許庁

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

Namely, the line patterns LP1 and LP2 extended in the main scanning direction X are respectively formed separately on the upstream side and the downstream side of the two-dimensional pattern TP in the conveying direction D16.例文帳に追加

つまり、主走査方向Ｘに伸びる直線パターンＬＰ1、ＬＰ2が搬送方向Ｄ16において２次元パターンＴＰの上流側および下流側にそれぞれ離間して形成されている。 - 特許庁

A test section 40 supplies specified image data to the data line driving section 22 and a specified synchronizing signal to the scanning line driving section 24 to make the display section display a specified test pattern.例文帳に追加

テスト部４０は、所定のテストパターンを表示部に表示させるべく、データ線駆動部２２に所定の画像データを供給し、走査線駆動部２４に所定の同期信号を供給する。 - 特許庁

This multiplex energy pattern computer type tomography(MECT) system (10) is so composed as to scan a subject (22), receive data on the first energy spectrum, and receive data on the second energy spectrum differing from the first energy spectrum by scanning the subject.例文帳に追加

対象（２２）を走査し、第一のエネルギ・スペクトルに関するデータを受け取り、対象の走査により第一のエネルギ・スペクトルと異なる第二のエネルギ・スペクトルに関するデータを受け取る。 - 特許庁

To provide a scanning line interpolation apparatus capable of eliminating improper operations such as interpolation applied to data by bridging over a vertical line and a contour of a pattern when executing interpolation processing in an oblique direction.例文帳に追加

斜め方向の補間処理を行う際に、垂直線や絵柄の輪郭をまたいで補間するなどの不適切動作を無くすことが可能な走査線補間装置を提供する。 - 特許庁

To optimize easily various parameters for extracting the line edge shape of a pattern with high precision and over a wide range in a semiconductor device inspection process using a scanning type microscope.例文帳に追加

走査型顕微鏡を用いた半導体装置検査工程においてパターンのラインエッジ形状を高精度で広範囲に渡って抽出するための各種パラメータを簡便に最適化する。 - 特許庁

When the scanning of image data for one screen is ended, a characteristic quantity update part 38 calculates the characteristic quantity of the pattern based on the information stored in the calculation storage part 20.例文帳に追加

そして、１画面分の画像データの走査が終了すると、特徴量更新部３８が、算出用記憶部２０に記憶された情報に基づいて図形の特徴量を算出する。 - 特許庁

Progressive of the image signal for one frame is controlled for a (2+1/2) scanning period, and a recording pattern on a magnetic tape 100 consists of alternate repetition of patterns P1 and P2.例文帳に追加

１フレームの画像信号が、（２＋１／２）走査期間で順次記録されるように制御され、磁気テープ１００上の記録パターンは、パターンＰ１とパターンＰ２が交互に繰り返される。 - 特許庁

A density pattern K1 is formed all over the developing area in a width direction in order to correct the density irregularity in a shaft direction (main-scanning direction) of a photoreceptor drum 1d.例文帳に追加

濃度パターンＫ１は、感光体ドラム１ｄの軸方向（主走査方向）における濃度むらを補正するために現像領域の幅方向全域に亘って形成されている。 - 特許庁

The first and second print heads 2, 3 are arranged such that respective edge parts overlap each other in the main scanning direction, and form a prescribed pattern on an overlapped part on the photoreceptor drum 9.例文帳に追加

第１と第２のプリントヘッド２、３は、それぞれ端部が主走査方向に互いにオーバーラップして配置され、感光体ドラム９上のオーバーラップ部分に所定のパターンを形成する。 - 特許庁

Thus, images based on the information for constructing screens are generated to be displayed sequentially each time the vertical scanning signal shifts thereby realizing exciting changes in thrilling pattern images (U8 and U9).例文帳に追加

画面構成情報に基づいた画像が生成され、その画像を垂直走査信号ごとに順次表示して、躍動感のある図柄画像の変動を実現する（Ｕ８，Ｕ９）。 - 特許庁

A rearrangement unit 337 rearranges an arrangement of pixel data in a main scanning direction to the pattern generated by the calculation circuit 336 based on the setting information held in the register 331.例文帳に追加

並べ替え部３３７は、レジスタ３３１に保持された設定情報に基づいて、演算回路３３６が生成したパターンに対して、主走査方向の画素データの並びを並べ替える。 - 特許庁

At a TFT array section on a glass substrate 201, the acting speed is increased and the image noise is decreased, by using an aluminum alloy in the wiring pattern of the signal line (as in scanning line).例文帳に追加

ガラス基板２０１上のＴＦＴアレイ部には、信号線２０５の配線パターンにアルミニウム合金を用いて（走査線も同様）、動作速度の向上、画像ノイズの低減を図る。 - 特許庁

At the end of the scans, the control part 8 specifies the scanning position, where the nonconformity matching the threshold at that time is obtained, as the position of a contour pattern resembling the model image.例文帳に追加

走査が終了すると、制御部８は、その時点でのしきい値に相当する不一致度が得られた走査位置をモデル画像に類似する輪郭パターンの位置として特定する。 - 特許庁

To mount a light source or a mirror on a rotary body of an actuator for scanning; to scan light transmitted from the light source at the front of a vehicle at high speed; and to form a light-distributing pattern having light and darkness variations.例文帳に追加

光源またはミラーを走査用アクチュエータの回動体に実装し、光源からの光を車両前方で高速スキャンし、明暗変化のある配光パターンを形成する。 - 特許庁

The liquid crystal display device is equipped with a first coloring layer having a pattern composed of pixel edges, which are formed by alternately removing the pixel edges in a signal line direction and in a scanning line direction.例文帳に追加

信号線の方向に１つの画素おきに間引かれ、かつ走査線の方向に１つの画素おきに間引かれて形成されるパターンを有する第１着色層を備える。 - 特許庁

To maintain the maximum scanning speed of a mask stage and a substrate stage even if a substrate to which a mask pattern is projected is coated with any kind of photosensitive material.例文帳に追加

マスクのパターンを投影する基板にどのような種類の感光性材料が塗布されている場合においてもマスクステージ及び基板ステージの走査速度を最高速に維持すること。 - 特許庁

By setting the feed pitch in sub-scanning direction of the heat-sensitive stencil base paper to nearly two times as much as the shifting amount at the boring with the thermal head, a zigzag grid-like pattern is formed.例文帳に追加

このサーマルヘッドによって穿孔するとき、感熱性孔版原紙の副走査方向の送りピッチをずらし量のほぼ２倍にすると千鳥格子状の穿孔パターンが形成される。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern in which the boundary of film patterns formed at a different timing by a new line scanning is made continuous, and to provide a liquid drop discharge device and an electro-optical device.例文帳に追加

改行走査によって異なるタイミングで形成される膜パターンの境界を連続的にしたパターン形成方法、液滴吐出装置、及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

The test pattern has a plurality of patterns 300 independent of each other for independently detecting a reciprocatory printing deviation amount at a plurality of areas in the scanning-movement direction of the printing head.例文帳に追加

このテストパターンは印字ヘッドの走査方向において複数のエリアで独立に往復印字ずれ量を検出するための互いに独立した複数のパターン３００を有する。 - 特許庁

Vertical rule of the first inspection pattern is printed of such ink drops among a plurality of kinds of ink drops as the dot being formed in one pixel is shifted most to one of main scanning direction.例文帳に追加

検査用第一パターンの縦罫線は、複数種類のインク滴のうち、一の画素内において形成するドットが主走査方向の一方に最も偏るインク滴によって印刷する。 - 特許庁

A halftone processing section 108 forms a dot pattern to be a forming object by applying N-arization to the computed scanning duty on the basis of predetermined restriction information.例文帳に追加

ハーフトーン処理部１０８では、該算出された走査Ｄｕｔｙに対し、予め定められた制約情報に基づくＮ値化を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device, an exposure method, and a device manufacturing method capable of improving the shape accuracy of a pattern formed on a substrate using a variable molding mask.例文帳に追加

可変成形マスクを用いて基板上に形成されるパターンの形状の精度を高めることができる走査型露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The aligning method successively transfers the pattern of a mask to the mask while synchronously scanning the mask and a reticle in a state of irradiation with pulse-like exposure light.例文帳に追加

本発明の露光方法は、パルス状の露光光を照射した状態でマスクとレチクルとを同期走査させつつ、マスクのパターンを逐次マスク上に転写する露光方法である。 - 特許庁

To provide a recipe preparation apparatus and method for preparing a recipe for highly accurately measuring the dimension of an oblique or elongate pattern without using a scanning electron microscope.例文帳に追加

本発明は、斜めや細長いパターンを高精度に寸法測定するレシピを、走査型電子顕微鏡を使用しないで作成するレシピ作成装置及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁