「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

A substrate transfer mechanism 20 is applied to a proximity scanning exposure apparatus 1 that irradiates an approximately rectangular substrate W with exposure light EL through a mask M to impart a pattern P of the mask M onto the substrate W; and the mechanism supports the substrate W by floating and transfers the substrate W in a prescribed direction.例文帳に追加

基板搬送機構２０は、略矩形状の基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１に適用され、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板Ｗを所定方向に搬送する。 - 特許庁

The record mask encoding method which encodes the mask data for recording a predetermined region of image data in N-steps includes an acquisition step for acquiring the mask data, and a formation step for forming index data in which a recording pattern of each pixel is expressed with the code data using the code data of the number of bits smaller than N assigned to the record pattern showing whether the pixel is recorded by what time scanning of the acquired mask data.例文帳に追加

画像データの所定の領域をＮ回に分けて記録するためのマスクデータを符号化する記録マスク符号化方法において、前記マスクデータを取得する取得工程と、前記取得したマスクデータの何回目の走査で画素を記録するかを示す記録パターンに対して割り振られたＮより小さいビット数の符号データを用いて、各画素の記録パターンを前記符号データで表したインデックスデータを生成する生成工程とを有する。 - 特許庁

With the scanning electron microscope furnished with a function of specifying a required position according to a previously registered pattern, a means for setting kinds of patterns, intervals between a plurality of parts constituting the patterns, and information concerning dimension of parts constituting the patterns, and a means for forming a pattern image constituted by a plurality of parts according to the information given are provided.例文帳に追加

本発明は、予め登録されているパターンに基づいて、所望の位置を特定する機能を備えた走査電子顕微鏡において、パターンの種類，パターンを構成する複数の部分間の間隔、及びパターンを構成する部分の寸法に関する情報を設定する手段と、当該手段によって得られた情報に基づいて、複数の部分によって構成されるパターン像を形成する手段を備えた走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The transmittance for light can be improved by forming a light-diffusing layer in the same pattern as a part or whole part of the area except for openings, for example, a common electrode, pixel electrodes, scanning signal lines, video signal lines and semiconductor switching elements so that the light emitting from the back light is diffused to enter the panel.例文帳に追加

開口部以外の部分、例えば前記共通電極、画素電極、走査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子の一部あるいは全部と同一パターンで光拡散層を設けることによって、バックライトから出射された光を拡散させパネル内部に入射させることにより光透過率を向上することができる。 - 特許庁

The pattern defect detection device includes a light source 11 for generating and emitting light, a scan mirror 14 for scanning a substrate 20 with the light emitted by the light source 11, a fluorescent light image detection unit 17 for detecting the image of fluorescent light emitted by the substrate 20, and a diffusion light image detection unit 19 for detecting the image of diffusion light diffused by the substrate 20.例文帳に追加

光を生成して出射する光源１１と、光源１１から出射される光を基板２０にスキャンするスキャンミラー１４と、基板２０で蛍光された蛍光イメージを検出する蛍光イメージ検出部１７と、基板２０で散乱された散乱光イメージを検出する散乱光イメージ検出部１９と、を含むものである。 - 特許庁

To provide an inkjet recorder which controls a scanning speed in accordance with distance interval between a recording head and a recording medium, controls discharge speed of an ink to be discharged from the recording head, or easily and suitably controls an impact position of the ink (a dot forming position) by, for example, adjusting discharge timing of the ink by a suitable test pattern.例文帳に追加

記録ヘッドと記録媒体の距離間隔に応じて走査速度を制御し、又は、記録ヘッドより吐出するインクの吐出速度を制御し、或いは、適切なテストパターンによってインクの吐出タイミングを調整すること等によってインクの着弾位置（ドットの形成位置）を容易に且つ適切に制御することのできるインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁

After shaping a secondary electron detecting signal by an input filter, a startup of a voltage of a pattern edge is caught by a Schmidt triggering circuit, time variation from scanning start till edge detection is detected in high sensitivity, by passing the secondary electron detecting signal through an anti-aliasing filter, irradiation position of an electron beam is measured to obtain a signal for stability evaluation.例文帳に追加

２次電子検出信号を入力フィルタで整形した後、パターンエッジの電圧の立ち上がりをシュミット・トリガ回路で捉えることにより、走査開始からエッジ検出までの時間変動を高感度に検出し、アンチ・エイリアシング・フィルタを通過させることによって、電子線の照射位置を計測し、安定性評価のための信号を取得する。 - 特許庁

To provide an ink jet recorder which can easily and appropriately control a hitting position of ink (formation position of dots) by controlling a scanning speed according to a distance interval between a recording head and a recording medium, controlling a discharge speed of ink to be discharged from the recording head, adjusting a discharge timing of ink by an appropriate test pattern, or the like manner.例文帳に追加

記録ヘッドと記録媒体の距離間隔に応じて走査速度を制御し、又は、記録ヘッドより吐出するインクの吐出速度を制御し、或いは、適切なテストパターンによってインクの吐出タイミングを調整すること等によってインクの着弾位置（ドットの形成位置）を容易に且つ適切に制御することのできるインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁

In the reciprocity failure evaluating method for the photoreceptor, respective potentials of a photoreceptor to exposure energy after multi-beam simultaneous exposure of an exposure pattern and sequential exposure between multi-beam scanning exposure processes are measured and compared with each other and it is evaluated whether the photoreceptor as a body to be inspected has a reciprocity failure according to the comparison result.例文帳に追加

本発明の感光体の相反則不軌評価方法によれば、露光パターンにマルチビームの同時露光と、マルチビーム走査露光間の順次露光とにおける露光後の感光体の露光エネルギーに対する各電位を測定し、測定した各電位を比較して、比較した結果に応じて被検査体の感光体が相反則不軌を生じるか否かを評価する。 - 特許庁

In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加

この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁

The form I anhydrous 4-[4-[4-(hydroxydiphenylmethyl)-1- piperidinyl]-1-hydroxybutyll-α,α,-dimethylbenzene acetic acid hydrochloride which has a distinctly visible melting point (capillary) of 196 to 201°C, an extrapolation start-accompanying melting endothermic point of 195 to 199°C measured by a differential scanning calorimetry and such the X-ray powder diffraction pattern as substantially shown below.例文帳に追加

１９６〜２０１℃の明視化された融点（毛細管）、示差走査熱量測定法による測定での１９５〜１９９℃の補外開始を伴う融解吸熱および本質的に下に示されるようなＸ線粉末回折パターンをもつ形態Ｉの無水の４−［４−［４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニル］−１−ヒドロキシブチル］−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩。 - 特許庁

An exposure unit 60 exposes printing paper 90 inclined to face all shutter elements 62a arranged in the scanning direction over a wider range than the width of the printing paper 90 based on image data of a measuring pattern image, a scanner reads the measuring image thus formed on the printing paper 90.例文帳に追加

露光部６０において、主走査方向に沿って印画紙９０の幅よりも広い範囲に亘って配列された全てのシャッタ素子６２ａと対向するように傾けられた印画紙９０に対して、測定用パターン画像の画像データに基づいて露光を施し、それによって印画紙９０に形成された測定用画像をスキャナによって読み取る。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope that accurately specifies the measuring region of a sample having a minute pattern that cannot be observed easily by an optical microscope, is capable of alignment, and can correct measuring profile distortion caused by the variation of a probe shape or probe wear, based on the state of the probe shape and probe wear.例文帳に追加

光学顕微鏡では観察が困難であるような微細パターンを有する試料の計測領域を正確に特定し、位置合わせすることができ、探針形状および探針磨耗の状態に基づいて、探針形状のばらつき、もしくは探針磨耗に起因する計測プロファイル歪みの補正を行うことのできる走査プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.例文帳に追加

フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁

When the embroidery structure of embroidery patterns is constituted in such a way that image are displayed by a plurality of band-like scanning line patterns L placed parallel with each other, the pattern L contains a series of stitches S and T inclined to the band width direction in the same direction in an angle range between >0° and <90°.例文帳に追加

本発明の刺繍柄の刺繍構造は、平行に配された複数の帯状の走査線柄Ｌによって画像を表現した刺繍柄の刺繍構造において、走査線柄Ｌは、その帯幅方向に対して同一方向に０°より大きく９０°より小さい範囲内で傾いた一連のステッチＳ，Ｔを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A sample is irradiated simultaneously with two X-rays X1, X2 by an X-ray source 2, and one-time scanning is executed for detecting simultaneously photo-electron spectrums of two photo-electrons E1, E2 emitted from the sample by an energy analyzer 3 over a prescribed solid angle spread from the irradiation spot, to thereby acquire a photo-electron intensity distribution pattern.例文帳に追加

Ｘ線源２により２つのＸ線Ｘ１，Ｘ２を試料に同時照射し、この試料から放出された２つの光電子Ｅ１，Ｅ２の光電子スペクトルを、エネルギー分析器３によりこの照射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出する走査を１回実行して光電子強度分布パターンを取得する。 - 特許庁

Since the half tone recording data is formed in a unit twice the decimation unit due to a decimation circuit, even if half tone recording is performed while the recording data is decimated in a predetermined ratio in a main scanning direction [direction shown by an arrow A of Fig 6 (a)] by the decimation circuit, a striped pattern is not generated in the recording result as shown by Fig 6 (b).例文帳に追加

このように間引き回路による間引き単位の２倍の単位で、ハーフトーンのデータを作成しているので、間引き回路によって主走査方向（図６（ａ）の矢印Ａ方向）に所定の割合で記録データを間引きしつつハーフトーンの記録を行っても、図６（ｂ）に示すように、その記録結果に縞々模様を生じさせることはない。 - 特許庁

To provide an inexpensive aligner capable of transferring a fine pattern en bloc with high precision at a low cost, using an electron gun capable of irradiating charge particles of a large area to transfer over the entire chip area en bloc, without horizontally scanning or deflecting an electron beam and without using a complicated deflector or scale reducing projection mechanism.例文帳に追加

転写されるチップ面積全体を一括転写が行える大面積の荷電粒子を照射できる電子銃を用いて、電子ビームの水平方向の走査や、偏向は行わない、複雑な偏向器や、縮小投影用機構を用いない高精度で微細なパターンを一括転写できる高精度で低価格な露光装置を提供する。 - 特許庁

This transparent electrode pattern (the transparent electrodes 121a, 121b, the transparent conductive film 124) is formed by scanning laser irradiation to a transparent conductive film remaining in the whole center part (a display area) on the surface of the front glass substrate 11 to remove the transparent conductive material corresponding to strip-like gaps 126, 127.例文帳に追加

このような透明電極パターン（透明電極１２１ａ，１２１ｂ、透明導電膜１２４,）は、前面ガラス基板１１表面の中央部（表示領域）全体に残っている透明導電膜に対して、レーザ照射しながら走査して、帯状間隙１２６〜１２７に相当するところの透明導電性材料を除去することによって形成することができる。 - 特許庁

In the inspection apparatus using an electron microscope which senses the defects present on the pattern of a sample based on the sensed signal of secondary charged particles generated by a scanning electron beam, there is provided such a function that the informations obtained by its ADC function are so fed back to its inspection function in the form of an inspection/non-inspection region as to improve its inspection and ADC performances.例文帳に追加

電子線を走査して発生する二次荷電粒子の検出信号に基づいて試料のパターン上の欠陥を検出する電子顕微鏡を用いた検査装置において、ＡＤＣ機能で得られた情報を検査／非検査領域という形で検査機能にフィードバックさせ、検査性能、ＡＤＣ性能の向上を図る機能を備える。 - 特許庁

The droplet discharge device that discharges droplets to a plurality of section areas arrayed in a vertical scanning direction at constant intervals while repeatedly making a main scan and a vertical scan discharges the droplets in invariably the same discharge pattern in all main scans while a movement quantity of a droplet discharge head in a vertical scan is set to an integral multiple of arrangement intervals of the section areas.例文帳に追加

主走査と副走査を繰り返しながら、副走査方向に一定間隔で配列された複数の区画領域に液滴を吐出する液滴吐出装置において、液滴吐出ヘッドの副走査の移動量を区画領域の配置間隔の整数倍とし、全ての主走査において常に同じ吐出パターンで液滴を吐出する。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic electroluminescence element includes a stage for providing a substrate on which pixel electrodes are formed, a stage for laminating a donor substrate on the whole surface of the substrate, and a stage for scanning a laser beam on a predetermined area of the donor substrate by using the laser irradiation apparatus to form the organic film layer pattern.例文帳に追加

本発明に係る有機電界発光素子の製造方法は、画素電極が形成された基板を提供する段階と、前記基板全面にドナー基板をラミネーションする段階と、前記レーザー照射装置を用いて前記ドナー基板の所定領域にレーザービームをスキャンして前記基板上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To prevent the variation in developing pattern size near one end of a substrate and near the other end due to a time difference in the feed of a developer, in a developing method using a developing device for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer jetting nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

In recognition operation, the reference template is rotated by an offset angle, to form a recognition execution template, a reference search area corresponding to the reference template is converted to a converted search area for recognition execution, and pattern matching of the recognition image with the search area for recognition execution is performed by raster scanning within the converted search area, whereby the position of the chip is recognized.例文帳に追加

認識動作においては基準テンプレートをオフセット角度だけ回転させて認識実行用のテンプレートを作成するとともに、基準テンプレートに対応した基準サーチエリアを認識実行用の変換後サーチエリアに変換し、変換後サーチエリア内でラスタ走査を行って認識画像と認識実行用のサーチエリアとのパターンマッチングを行い、チップの位置を認識する。 - 特許庁

During a shift mode of a scanning test, selectors SEL1-SEL3 select the path of inputting an input signal for a test pattern of a macro cell 23 from data input terminals 41-43 and supplying it to the macro cell 23, and test signals for scan path inputted from scan input terminals 44 are supplied to registers FF1-FF6 for scan path arranged in a user logic circuit.例文帳に追加

スキャンテストのシフトモード時において、セレクタＳＥＬ１〜ＳＥＬ３は、データ入力端子４１〜４３からマクロセル２３のテストパターン用の入力信号を入力してマクロセル２３に供給するパスを選択すると共に、スキャン入力端子４４から入力されるスキャンパス用のテスト信号がユーザ論理回路中に配されるスキャンパス用レジスタＦＦ１〜ＦＦ６へ供給される。 - 特許庁

This printer comprises: a nozzle 12 for ejecting a holographic recording material in a dot pattern onto paper 3; a hologram recording optical system 100 for recording interference fringes by simultaneously applying a plurality of laser beams onto the holographic recording material ejected by the recording material nozzle; and a scanning drive unit for moving the nozzle 12 and the optical system 100 relatively with respect to a supporting body.例文帳に追加

用紙３に対し、ホログラフィック記録材料を点状に吐出するノズル１２と、記録材料ノズルが吐出したホログラフィック記録材料上に複数のレーザ光を同時に照射して干渉縞を記録するホログラム記録光学系１００と、ノズル１２とホログラム記録光学系１００とを、支持体に対し相対的に移動させる走査駆動装置とを備えて印刷装置を構成する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of dispersion between developing pattern size near one end of a substrate and that near the other end due to a time difference in the feed of a developer in a developing method using a developing device for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer discharge nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

This scanning exposure device which transfers a pattern formed on a mask 12 to a substrate 16 by relatively moving the mask 12 and the substrate 16 in synchronization comprises a mask hold member 18 for placing the mask 12 thereon, a mask stage 20 for moving the mask hold member 18, and pressing means 72, 88a and 88b for pressing the mask 12 against the mask hold member 18.例文帳に追加

マスク（１２）と基板（１６）とを同期して相対移動させることにより、マスク（１２）に形成されたパターンを基板（１６）に転写する走査型露光装置であって、マスク（１２）が載置されるマスク保持部材（１８）と、マスク保持部材（１８）を移動させるマスクステージ（２０）と、マスク保持部材（１８）に対してマスク（１２）を押し付ける押付け手段（７２、８８ａ、８８ｂ）とを設けた。 - 特許庁

To prevent the variation in developing pattern size near one end of a substrate and that near the other end due to a time difference in the feed of a developer, in a developing method using a developing apparatus for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer jetting nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

In the printer having an ejection head for forming dots on a printing body by ejecting ink drops and printing a pattern having a plurality of subpatterns for correcting the shift of dot forming position in the going stroke and the returning stroke of main scanning onto the printing body using the ejection head, the shift is corrected based on two or more of the plurality of subpatterns having a peak in the density.例文帳に追加

インク滴を吐出して被印刷体にドットを形成するための吐出ヘッドを有し、主走査の往路におけるドット形成位置と復路におけるドット形成位置とのズレを補正するための、複数のサブパターンを有する補正用パターンを前記吐出ヘッドにより被印刷体に印刷する印刷装置において、前記複数のサブパターンのうち、濃度においてピークを有する二つ以上のサブパターンに基づいて、前記ズレを補正する。 - 特許庁

An SEM image formed by signals obtained by scanning electrons on a sample is obtained by an electrooptical system composed of an electron source for generating the electrons on a silicon substrate with a part of a semiconductor integrated circuit formed thereon, and an electromagnetic lens or electrostatic lens; a reference image is obtained by averaging a plurality of images or by automatic generation from design data; and shape dispersion and superposition accuracy of a pattern are statistically calculated by comparing them.例文帳に追加

半導体集積回路の一部が形成されたシリコン基板上で、電子を発生させる電子源と電磁レンズあるいは静電レンズからなる電子光学系により試料上で上記電子を走査して得られる信号により構成したＳＥＭ画像を取得して、複数の画像を平均化あるいは設計データから自動生成によって参照画像をもとめ、比較して、パターンの形状ばらつきや重ねあわせ精度を統計的に算出する。 - 特許庁