「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A mirror generating a scanning pattern is also arranged inside a device frame, particularly inside a vertically dividable frame.例文帳に追加

また、走査パターンを発生するミラーは、装置フレームの内側に、特に上下分割可能なフレームの内側に配置する。 - 特許庁

When a substrate 31 having an irregular pattern on a surface is manufactured, plotting of a pattern in accordance with the irregular pattern is performed for a disk 11 to which a resist 12 is applied by scanning of an electron bean EB.例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有する基板３１を作製する際、レジスト１２が塗布された円形基盤１１に、電子ビームＥＢの走査により凹凸パターンに応じたパターンの描画を行う。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method, extracting an edge shape of a pattern from an image obtained by a scanning type microscope, and estimating the electric performance of a device from the extracted information to inspect the pattern.例文帳に追加

走査型顕微鏡で得られる画像からパターンのエッジ形状を抽出し、その抽出情報からデバイスの電気的性能を予測し、パターンを検査するパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

While scanning the plate PL in the Y-axis direction, a desired pattern is gradually exposed on the whole surface of the plate PL by scrolling the pattern formed on the variable pattern generation section VPG synchronously with the plate PL.例文帳に追加

プレートＰＬをＹ軸方向に走査しつつ、これに同期して可変パターン生成部ＶＰＧに形成したパターンをスクロールすることによって、プレートＰＬの全面に所望のパターンが徐々に露光される。 - 特許庁

Leakage current is measured by relatively scanning laser light on the electrode pattern along an insulative region of the pattern, and applying electricity between electrodes on both sides of the insulative region of the electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの絶縁部に沿ってレーザ光を前記電極パターンに対して相対的にスキャンし、電極パターンの絶縁部両側の電極間に電気を印加して漏れ電流を測定する。 - 特許庁

When drawing a pattern in a linear area extending in a main scanning direction in each main scanning which represents an outward route or a return route, a plurality of detected distances are obtained with respect to the linear area where a pattern is to be drawn in the next main scanning; and the focus adjustment is performed in a plurality of times by using the plurality of detected distances obtained in the last main scanning.例文帳に追加

往路または復路である各主走査において主走査方向に伸びる線状領域にパターンを描画する際に、次の主走査にて描画が行われる線状領域に対して複数の検出距離が取得され、直前の主走査にて取得された複数の検出距離を用いて複数回のフォーカス調整が行われる。 - 特許庁

A laser beam from an LD 3 is reflected with a scanning angle given by a two-dimensional scanner 4 to be vibrated horizontally and vertically, and the reflected laser beam is changed in its scanning pattern by a scanning pattern changing part 9 to increase irradiation density in the vicinity of the vertical-directional center of the scanning angle, so as to be emitted around own vehicle.例文帳に追加

ＬＤ３からのレーザ光に対して水平方向及び垂直方向に振動するように２次元スキャナ４で走査角度を与えて反射させ、反射したレーザ光に対して垂直方向の走査角度の中心付近の照射密度が増大するように走査パターン変換部９で走査パターンを変換して自車周囲に照射する。 - 特許庁

When the rotational speed of the polygon mirror is fine-adjusted to correct a magnification in the sub-scanning direction Z, a screen pattern 80 used as image formation means is changed to a screen pattern in which interference is hard to generate against a displacement of a beam in the sub-scanning direction Z, for example, a screen pattern which has a large angle of a straight line D1 to the main scanning direction Y.例文帳に追加

副走査方向Ｚの倍率を補正するために、ポリゴンミラーの回転速度を微調整する際に、画像形成手段として用いられているスクリーンパターン８０をビームの副走査方向Ｚのずれ量に対して干渉が発生しにくいもの、例えば、直線Ｄ１の主走査方向Ｙとのなす角度が大きいスクリーンパターンに変更する。 - 特許庁

Uni test pattern for matching the ink impact position of a plurality of head units 51 in the main scanning direction, and Bi test pattern for matching the ink impact position of each head unit 51 in the main scanning direction between going and returning strokes of scanning are formed simultaneously on the same print paper P and the conditions for forming two types of test pattern are made to coincide with each other.例文帳に追加

複数のヘッドユニット５１間の主走査方向に対するインク着弾位置を一致させるためのＵｎｉテストパターンと、各ヘッドユニット５１における往復走査間の主走査方向に対するインク着弾位置を一致させるためのＢｉテストパターンと、を同じプリントペーパＰ上に同時に作成し、２種類のテストパターンの作成条件を一致させる。 - 特許庁

By forming the dummy patterns 2 with the above spacing in the dummy scattered region 22, at least one dummy pattern 2 is included in the objective range for scanning in the pattern scattered region 22 when one objective range for scanning is scanned by the mask pattern defect detecting device.例文帳に追加

上述のような間隔で、パターン点在領域２２にダミーパターン２が形成されていると、マスクパターン欠陥検査装置によって１走査対象範囲の走査が行われれば、パターン点在領域２２内では、その走査対象範囲内には、少なくとも１個のダミーパターン２が含まれている。 - 特許庁

Since a scanning speed and the magnification of an imaging lens are switched corresponding to the scanning direction 201 with respect to the extending direction 205 of the pattern 210, the image input of the pattern can be performed in as short time as possible by image resolving power capable of detecting the flaw present in the pattern.例文帳に追加

パターン２１０の延在方向２０５に対するスキャン方向２０１に応じて、スキャン速度及び撮像用レンズの倍率を切り換えるようにしたことから、パターンに存在する欠陥を検出可能な画像分解能にて、可能な限り短時間にて、パターンの画像入力を行うことができる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam scanning method, along with a charged particle beam device, capable of striking a balance between the suppression of effect of electrostatic charge generated by scanning of a front frame and the suppression of an electrostatic charge phenomenon inherent in a scanning pattern generated when scanning is conducted in the same order.例文帳に追加

本発明は、前フレームの走査によって生じる帯電の影響の抑制と、同じ順番にて走査されることによって生じる走査パターン固有の帯電現象の抑制の両立を実現する荷電粒子線走査方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。 - 特許庁

In the image forming apparatus, the difference between the scanning lengths of the respective laser beams on a surface to be scanned during one scanning between laser beams is detected using a pattern for detecting the main scanning length and a predetermined frequency is set to CLK generation circuits 804a and 804b to correct a scanning length difference.例文帳に追加

画像形成装置においては、主走査走査長検知用パターンを用いてレーザ間の１走査中の被走査面上での各レーザの走査長の差を検知し、ＣＬＫ発生回路８０４ａ，８０４ｂに所定の周波数を設定することによって、走査長差の補正を行う。 - 特許庁

In a photomask having a light shielding zone formed around a mask pattern region where a mask pattern is drawn by scanning by each of a specified drawing width, an inspection pattern for inspecting the misalignment of the drawn images in the mask pattern region is formed outside the light shielding zone.例文帳に追加

マスクパターンを所定の描画幅ずつ走査することによって描画したマスクパターン領域の外周に遮光帯を形成したフォトマスクにおいて、遮光帯の外側に、マスクパターン領域の描画ズレを検査するための検査パターンを形成した。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

To provide a fine pattern measuring method which accurately measures a sidewall angle of a fine pattern from an image obtained by a scanning electron microscope.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡で得られる画像から微細パターンの側壁角度を精度良く測定することができる微細パターン測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Pattern data corresponding to a portion having a pattern formed thereon and background data corresponding to a background are detected from image data in an imaging area of an SEM(scanning electron microscope) 20.例文帳に追加

撮像領域におけるＳＥＭ２０画像デ−タのうち、パターンが形成された部分に対応するパタ−ンデ−タおよび背景に対応する背景デ−タを検出する。 - 特許庁

A control part regulates dot pattern gratings partitioned for every state along a scanning direction of a discharge surface and maps each grating of the dot pattern gratings to discharge or non-discharge.例文帳に追加

制御部は、吐出面の走査方向に沿ってステートごとに区画されるドットパターン格子を規定し、ドットパターン格子の各格子に吐出・非吐出を対応付ける。 - 特許庁

To improve drawing accuracy by effectively suppressing stretching of a pattern drawn on a substrate in a scanning direction, without performing complicated processing to correct CAD data of the pattern.例文帳に追加

パターンのＣＡＤデータを補正する複雑な処理を行うことなく、基板に描画されるパターンの走査方向への伸びを効果的に抑制して、描画精度を向上させる。 - 特許庁

In the pattern plotting apparatus (1) for plotting a pattern on the original disc (41) by a rotational scanning system (30), the original disc placed on a turn table (41) is made radially movable.例文帳に追加

回転走査系（３０）によって原盤（４１）にパターンを描画するパターン描画装置（１）において、ターンテーブル（４１）に載置した原盤を径方向において移動可能とする。 - 特許庁

A pattern similarity calculating unit 15 sequentially calculates a similarity between the pixel value output from the region scanning part 14 and a specific pattern on the specific face part.例文帳に追加

パターン類似度算出部１５は、領域走査部１４から出力された画素値と、特定の顔器官に関する特定パターンとの類似度を順次算出する。 - 特許庁

The dummy patterns 2 are arranged in such a manner that at least one dummy pattern is present in the objective range of scanning by a mask pattern defect detecting device.例文帳に追加

ダミーパターン２は、パターン点在領域２２内では、マスクパターン欠陥検査装置の走査対象範囲内に少なくとも１個が存在するようにして配置されている。 - 特許庁

In order to sense a main scanning length difference between respective laser beams, a pattern for compensation is formed by a forming speed of 1/(beam quantity), and the pattern for compensation is sensed by a photo-sensor 60.例文帳に追加

各レーザビームの主走査長差を検知するために、補正用パターンを１／（ビーム数）の形成速度で形成し、フォトセンサ６０で補正用パターンを検知する。 - 特許庁

The bandwidths of a series of divided pattern data PD1-PD3 are set to data bandwidths BWS wider than the ones of scanning bands S1-S3, and these divided pattern data are so generated that they overlap with each other.例文帳に追加

一連の分割パターンデータＰＤ１〜ＰＤ３を、走査バンドＳ１〜Ｓ３より幅のあるデータバンド幅ＢＷＳにするとともに、互いにオーバラップするように生成する。 - 特許庁

An operation control part 120 controls the on/off state of an optical switch part 104 with a pattern scanning a measuring object 102.例文帳に追加

演算制御部１２０は、測定対象１０２を走査するパターンで光スイッチ部１０４のオン、オフを制御する。 - 特許庁

To provide a threshold matrix whereby a dot pattern can be produced, wherein unevenness of an image in the scanning direction is hardly conspicuous.例文帳に追加

走査方向の画像のむらの目立ちにくいドットパターンを生成することを可能とする閾値マトリクスを提供する。 - 特許庁

The defective part is irradiated while scanning with laser beam according to the scan pattern by use of a laser scan optical system (step S11).例文帳に追加

レーザスキャン光学系を用いて、スキャンパターンに従いレーザ光を走査しながら欠陥部に照射する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

Similarly, vertical rule of the second inspection pattern is printed of such ink drops as shifted most to the other of main scanning direction.例文帳に追加

検査用第二パターンの縦罫線は、同様に、主走査方向の他方に最も偏るインク滴によって印刷する。 - 特許庁

Furthermore, scanning width at the time of printing a regulation pattern is set equal to that at the time of printing with a maximum print width.例文帳に追加

さらに調整パターン印字時の走査幅が最大印字幅で印字するときの走査幅と同じである構成とした。 - 特許庁

A resist pattern formed on the surface of a substrate is fixed with a heavy metal and then observed by means of a scanning electron miscroscope.例文帳に追加

基板の表面に形成されたレジストパターンに重金属を固定したのち、走査型電子顕微鏡で観察する。 - 特許庁

FORMATION DEVICE OF IMAGING RECIPE FOR SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, ITS METHOD, AND SHAPE EVALUATION DEVICE OF SEMICONDUCTOR PATTERN例文帳に追加

走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置及びその方法並びに半導体パターンの形状評価装置 - 特許庁

Vapor deposition through holes of the predetermined pattern may be formed by executing the scanning movement of the laser beam L while the mask blank 3 is fixed.例文帳に追加

マスク素板３を不動とし、レーザービームＬを走査移動させて所定パターンの蒸着通孔を形成してもよい。 - 特許庁

In this liquid crystal display device, an insulating film pattern 4 is formed between lines 2 of at least either scanning lines 1 or signal lines 2.例文帳に追加

走査配線１もしくは信号配線２の少なくとも一方の配線２間に絶縁膜パターン４を形成する。 - 特許庁

The inspection device 16 carries out pattern matching based on scan data obtained by scanning a substrate with the wiring pattern formed thereon by a scanner 28 and based on the corrected raster data, and inspects a defect in the wiring pattern formed on the substrate.例文帳に追加

検査装置１６は、配線パターンが形成された基板をスキャナ２８によりスキャンしたスキャンデータと、補正ラスタデータ３８とに基づいてパターンマッチングを行い、基板上に形成された配線パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide a template matching method by which erroneous determination is prevented even when a ground pattern appears in extracting a pattern matched with a template from the images using a design pattern as the template, and to provide a scanning electron microscope.例文帳に追加

設計パターンをテンプレートとし、画像からテンプレートと一致するパターンを抽出するときに、画像に下地パターンが現れていても誤判断のないテンプレートマッチング方法、および走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing technique for suppressing deterioration of a specific form pattern (e.g., bar-code pattern) including digital information, when copying or scanning a printed output object with the specific form pattern printed.例文帳に追加

デジタル情報を含む特定形式パターン（バーコードパターン等）が印刷された印刷出力物をコピーないしスキャンするに際して、当該特定形式パターンの劣化を抑制することが可能な画像処理技術を提供する。 - 特許庁

Providing a mark pattern which has 2-dimensional periodic structure in order to compensate deflection amount and the distortion during electron-ray scanning, scanning the electron ray so that the mark pattern, which has the periodic structure, may have an angle, making an interference-fringe pattern generate, and observing this interference-fringes pattern make distortion compensation, which has higher accuracy than before, enable.例文帳に追加

電子線走査時の偏向量および歪を補正するために２次元の周期構造を有するマークパターンを設け、この周期構造を有するマークパターンと角度を成すように電子線を走査し、干渉縞パターンを発生させ、この干渉縞パターンを観察することで、従来よりも高い精度での偏向歪補正を可能とする。 - 特許庁

In the case of adjusting the position of the sensor block, a deviation in a sub-scanning direction is adjusted by using a test chart expressing a pattern having a straight part inclined from the sub- scanning direction.例文帳に追加

センサブロックの位置の調整においては、副走査方向に対して傾斜した直線部を有するパターンを表したテストチャートを用いて、副走査方向のずれを調整する。 - 特許庁

To perform design print in consideration of reproduction characteristics of a copying machine by adjusting a threshold pattern used for the design print according to the scanning direction in scanning in the copying machine.例文帳に追加

複写機におけるスキャン時の走査方向に応じて地紋印刷に使用する閾値パターンを調整することにより複写機の再現特性を考慮した地紋印刷を行う。 - 特許庁

Thus, the uniformity of the line width in the scanning direction of a pattern transfer image transferred to each section area can be improved as a result of the scanning exposure to each section region on the substrate W.例文帳に追加

このため、基板上の各区画領域に対する走査露光の結果、各区画領域に転写されるパターン転写像の走査方向における線幅均一性が向上する。 - 特許庁

The grating constant of the scanning scale 25 is changed along the extending direction A of the scanning scale 25 so that the phase of the detection pattern is changed by 2π in the predetermined route.例文帳に追加

検出パータンの位相が、所定の経路において２πだけ変化するように、走査目盛２５の格子定数が、走査目盛２５の延在方向Ａに沿って変化することを特徴とする。 - 特許庁

A circuit 300 which can be dealt with by a scanning test is tested by loading into a programmable device 200, both a scanning pattern and a self test circuit in which the total number of test patterns obtained automatically is the smallest.例文帳に追加

自動で得られる総テストパターン数がもっとも少ない自己テスト回路とスキャンパターンの両方をプログラマブルデバイス２００にロードしてスキャンテスト対応回路３００のテストを行なう。 - 特許庁

A pattern for correcting is formed on the photosensitive body drum only by beams (L1, LN) of both ends of beams arranged in a sub scanning direction for detecting the difference of main scanning lengths of individual beams.例文帳に追加

各ビームの主走査長差を検知するために、副走査方向に配列されたビームのうちの両端のビーム（Ｌ１，ＬＮ）のみで補正用パターンを感光体ドラム上に形成する。 - 特許庁

A scanning operation of repeating scanning by the same encoding pattern at least once with R waves generated at the time T_0 as a trigger and gathering data is performed for all the encoding patterns.例文帳に追加

時刻Ｔ_０において発生したR波をトリガとし、同一のエンコードパターンによるスキャンを少なくとも一回繰り返しデータを収集するスキャン動作を、全エンコードパターンについて実行する。 - 特許庁

To prevent a noise pattern in a horizontal direction and a vertical direction in the case of executing halftone screening for a picture output device where resolutions of a main scanning direction and a sub-scanning direction are different from each other.例文帳に追加

主走査方向と副走査方向の解像度が異なる画像出力装置のためにハーフトーンスクリーニングを行う場合に、水平方向と垂直方向のノイズパターンを防止する。 - 特許庁