「scanning pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

A drawing control section (71) provides driving circuits (27) of a light beam radiating device with drawing data of a scanning range which is shorter than the length in the scanning direction of a pattern to be drawn in the scanning area.例文帳に追加

描画制御部（７１）は、描画するパターンの走査領域における走査方向の長さよりも短い走査範囲の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 - 特許庁

A pattern P particularly adapted to the speed of image formation and a pattern elongated in the sub-scanning direction so that precise measurement of the positional shift amount is allowed (preferably, a pattern in which the pattern P is repeated a plurality of times) are used as the two types for the inter-color registration correction pattern.例文帳に追加

色間レジ補正パターンには、画像形成の速度を特に重視したパターンＰと、正確に位置ズレ量を測定ができるよう副走査方向に長いパターン（好適には、パターンＰを複数回繰り返したパターン）と、の２種類を用いる。 - 特許庁

A deflector (400) for measuring a pattern is separately provided to take a pattern measurement at a scanning distance equal to each exposure deflection distance or above.例文帳に追加

パターン計測用の偏向器（４００）を別途設けることにより、個々の描画偏向距離以上の走査距離でパターン計測を行う。 - 特許庁

To form a high-accuracy pattern so that a residual film of a photosensitive material may not be generated on a joint of the pattern on a boundary line of a scanning band.例文帳に追加

走査バンドの境界線上におけるパターンのつなぎ目に感光材料の残膜が生じないように、高精度のパターンを形成する。 - 特許庁

In the color image forming apparatus, regarding a pattern for detecting the positional deviation in sub scanning and main scanning directions, the pattern is arranged at a pattern interval corresponding to a velocity difference between the surface velocity of each color drum and a carrying velocity of a transfer body such as a carrying belt.例文帳に追加

副走査、主走査方向の位置ずれ検出パターンにおいて、各色のドラムの表面速度と搬送ベルトなどの転写体の搬送速度との速度差に応じたパターン間隔で配置することを特徴とするカラー画像形成装置。 - 特許庁

When a substrate 31 having a rugged pattern on a surface is made, plotting of a pattern in accordance with the rugged pattern is performed by scanning of an electron beam EB.例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有する基板３１を作製する際、レジスト１２が塗布された円形基盤１１に、電子ビームＥＢの走査により凹凸パターンに応じたパターンの描画を行う。 - 特許庁

When a copy start key is depressed, preliminary scanning (S605) and detection of generation pattern (S607) are conducted.例文帳に追加

コピースタートキーが入力されると、プレスキャン（Ｓ６０５）およびジェネレーションパターンの検出（Ｓ６０７）が行なわれる。 - 特許庁

To provide a scanning AC hole microscope and a usage for measuring a region pattern of magnetic material.例文帳に追加

走査型ＡＣホール顕微鏡と磁性材料の領域パターンの測定する用法を提供すること。 - 特許庁

The rectangular pattern TP2 is detected and the recording position is operated in the main scanning direction X (step S6).例文帳に追加

矩形パターンＴＰ２を検出し、主走査方向Ｘにおける記録位置を演算する（ステップＳ６）。 - 特許庁

The rectangular pattern TP1 is detected and the recording position is operated in the main scanning direction X (step S2).例文帳に追加

矩形パターンＴＰ１を検出し、主走査方向Ｘにおける記録位置を演算する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 is equipped with a hydrostatic bearing guide 51 for moving a stage in a main scanning direction.例文帳に追加

パターン描画装置１は、ステージを主走査方向に移動させるための静圧軸受ガイド５１を有する。 - 特許庁

For example, when the circuit pattern 11 having line segment patterns A to D in four directions is formed, a satellite located in front of the scanning direction is prevented from arriving at the outside of the pattern by scanning the discharge head while rotating a rotation stage 7, such that the longitudinal direction of the respective line segment pattern is coincident with the scanning direction of the liquid discharge head 10.例文帳に追加

例えば４方向の線分パターンＡ〜Ｄを有する回路パターン１１を形成するときは、各線分パターンの長手方向が液体吐出ヘッド１０の走査方向と一致するように回転ステージ７を回転させて走査することで、走査方向前方のサテライトがパターン外に着弾するのを防ぐ。 - 特許庁

The wiring filling factor is checked by scanning a specific measurement area on a layout pattern of wiring.例文帳に追加

配線のレイアウトパターン上の所定の測定領域内を走査して配線充填率をチエックする。 - 特許庁

The rearranging part 5 performs rearrangement by frame unit concerning the scanning line signal scanned by the prescribed operation pattern.例文帳に追加

並び替え部５は、所定の動作パターンで走査された走査線信号をフレーム単位に並び替える。 - 特許庁

A printer draws unit patterns 31a-31f constituting the test pattern by one outward trip scanning.例文帳に追加

プリンタは、１回の往路走査により、テストパターンを構成する単位パターン３１ａ〜３１ｆの描画を行う。 - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE SYSTEM FOR DIMENSION MEASUREMENT, AND EVALUATION SYSTEM OF CIRCUIT PATTERN FEATURE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

寸法計測走査型電子顕微鏡システム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法 - 特許庁

The position of the defect in the mask can be found by scanning a smaller region in the pattern.例文帳に追加

マスクの欠陥の位置は、パターンのより小さい領域を走査することによって発見することができる。 - 特許庁

Gradation correction by a method of gradation correction for laser scanning exposure is performed on the basis of measured density values of a test print including a horizontal stripe test pattern comprising horizontal line groups extending in a main scanning direction and a vertical stripe test pattern comprising vertical line groups extending in a sub scanning direction.例文帳に追加

主走査方向に延びる横ライン群からなる横縞テストパターン及び副走査方向に延びる縦ライン群からなる縦縞テストパターンを有するテストプリントの測定濃度値に基づいて、レーザ走査露光のための階調補正方法階調補正が行われる。 - 特許庁

The pattern drawing apparatus carries out exposure scanning along a main scanning direction covering each of a plurality of scanning regions As defined by each prescribed width w from a start position Ps on a substrate 9 along a sub scanning direction, by relatively moving a plurality of exposure heads in the main scanning direction and the sub scanning direction with respect to the substrate.例文帳に追加

パターン描画装置では、複数の露光ヘッドを基板に対して主走査方向と副走査方向とに相対移動させることで、基板９上の開始位置Ｐｓから副走査方向に所定幅ｗごとに規定される複数の走査領域Ａｓのそれぞれを担当する主走査方向に沿った露光走査が行われる。 - 特許庁

Information regarding the tilt of a recording head is detected on the basis of the test pattern by recording the test pattern with a scanning rate slower than that in normal recording.例文帳に追加

通常の記録よりも遅い走査速度によりテストパターンを記録し、このテストパターンに基づき記録ヘッドの傾きに関する情報を検出する。 - 特許庁

The resist pattern is measured after a plasma or an electron beam is applied, so that a change of pattern in dimension due to electron beam scanning for measurement can be prevented.例文帳に追加

プラズマ又は電子線を照射した後にレジストパターンを測定するため、測定時の電子線走査によってパターン寸法が変化することを抑止できる。 - 特許庁

A nondefective characteristics extracting pattern is stored in a characteristics extracting circuit 7B, and an inspection excluding area is detected by scanning this pattern.例文帳に追加

又特徴抽出回路７Ｂで欠陥としない特徴抽出パターンを記憶し、これを走査することによって検査除外領域を検出する。 - 特許庁

By scanning an original plate where a pattern is formed and irradiating the original plate with charged particle beams or electromagnetic waves, the pattern is transferred to a sample.例文帳に追加

パターンの形成された原版を走査させ、荷電粒子ビームまたは電磁波を、前記原版に照射することにより、試料にパターンを転写する。 - 特許庁

This measuring method of a dimension of a register pattern consists of cooling a sample before measuring a regist pattern dimension with a scanning electron microscope.例文帳に追加

レジストパターンの寸法を走査型電子顕微鏡で測定するにあたり、試料を冷却して測定することを特徴とするレジストパターンの寸法測定方法。 - 特許庁

In the area where the scanning line (a gate wiring) 2 and the signal line (a source wiring) 6 cross each other, the scanning line (the gate wiring) 2 has a pattern having at least one or more bent parts 8a on both sides of the pattern.例文帳に追加

走査線（ゲート配線）２と信号線（ソース配線）６が交差する領域において、走査線（ゲート配線）２はパターンの両側に少なくとも一回以上の折れ曲がり部８ａを有したパターンとする。 - 特許庁

A pattern is formed under the conditions that the resolution R [μm] of dots in the scanning direction in the pattern to be formed on a work and the scanning shift distance S [μm] during one time of pixel switching are in the relation of S>R.例文帳に追加

ワーク上に形成されるパターンのスキャン方向のドットの分解能Ｒ［μｍ］と一回の画素スイッチングの間のスキャン移動距離をＳ［μｍ］とした時に、Ｓ＞Ｒとなる様に設定してパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a progressive scanning converter capable of applying excellent progressive scanning conversion to an interlace video signal subjected to pull-down conversion without causing mis-interpolation even when the interlace video signal partially or temporarily causes a pattern deviated from a regular pattern.例文帳に追加

プルダウン変換されたインターレース映像信号に部分的または一時的な規則パターン外れがある場合でも、誤補間なく良好に順次走査変換することができる順次走査変換装置を提供する。 - 特許庁

In the pattern drawing apparatus to directly form a circuit pattern, a measurement plate having photosensors disposed in pixels arranged in the main scanning direction and in the sub-scanning direction is mounted instead of a printed board on a drawing table.例文帳に追加

直接回路パターンを形成するパターン描画装置において、プリント基板の代わりに、主走査方向、副走査方向に沿って画素が配列されたフォトセンサを配置した計測板を描画テーブルに設置する。 - 特許庁

Then, respective amounts of deviation of position in the main scanning direction and sub-scanning direction in the dot patterns recorded on the recording medium are obtained (S307, S308) based on the read pattern and inputted pattern corresponding thereto.例文帳に追加

次に、該読み取りパターンと、それに対応する入力パターンとに基づいて、記録媒体に記録されたドットパターンにおける主走査および副走査方向それぞれの位置ズレ量を求める（Ｓ３０７，Ｓ３０８）。 - 特許庁

The device transmits the beam 17 from the terminal 12 with two different scanning patterns, i.e., a circular flowered pattern 625 or 650 of the center for cancellation and a spiral pattern 600 for the remaining part of scanning.例文帳に追加

装置は２つの異なる走査パターン、即ち相殺の中央部分のための円花飾りパターン（６２５又は６５０）及び走査の残りの部分のための螺旋パターン（６００）でターミナル（１２）からのビーム（１７）を伝達する。 - 特許庁

In the case of forming an upper pattern only on the lower pattern 2, using a scanning exposure system on the surface of a wafer where a difference in level exists by the lower pattern 2, dummy patterns 1 having the same height as the lower pattern 2 are arranged in the right and left positions of the lower pattern 2.例文帳に追加

下層パターン２により段差が存在するウェハ表面に，スキャン型の露光装置を用いて下層パターン２上にのみ上層のパターンを形成する場合，下層パターン２と同等の高さを有するダミーパターン１を下層パターン２の左右位置に配置する。 - 特許庁

To provide a semiconductor test circuit for remarkably reducing an amount of a scanning test pattern and shortening a full scanning test time by modifying the constitution of an inside scanning chain at any time without increasing a test terminal and remarkably shortening a once-scanning shift action period in an LSI full scanning design, and to provide its test method.例文帳に追加

ＬＳＩのフルスキャン設計において、テスト端子を増加させずに、内部スキャンチェーンの構成を随時変更し、１回のスキャンシフト動作期間の大幅な短縮を行うことで、スキャンテストパターン量の大幅な削減とフルスキャンテスト時間の短縮を可能とする半導体テスト回路及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁

In the charged particle beam scanning method scanning charged particle beams in the prescribed scanning pattern and the charged particle beam device, in accordance with a replacement of a frame, a scanning starting point in the vertical direction of a scanning line is changed by the prescribed amount in the prescribed direction.例文帳に追加

上記目的を達成するための一態様として、所定の走査パターンにて荷電粒子ビームを走査する荷電粒子ビーム走査方法、及び装置において、フレーム更新に従って、走査線の垂直方向における走査始点を、所定の方向に、所定量ずつ変化させる方法、及び装置を提案する。 - 特許庁

In the case where an image forming apparatus capable of obtaining an output image of 600 dpi in a main scanning × 600 dpi in a sub-scanning is used, counting by using a main scanning counter and a sub-scanning counter is carried out by an interval of 128 dots (128 lines in the sub-scanning), and then a one-dot diagonal lattice pattern is formed by logical calculation.例文帳に追加

主走査６００ｄｐｉ×副走査６００ｄｐｉの出力画像を得る画像形成装置の場合、主走査カウンタ、副走査カウンタを１２８ドット（副走査の場合は、１２８ライン）間隔にて計数し、論理演算することによって１ドット斜め格子パターンを生成することができるようになる。 - 特許庁

Scanning in the vertical directions and to the right and the left in a probeable region with a proving wave is enabled; thereby a scanning pattern such as a scanning period, a scanning direction or the like and a scanning region can be set freely; and proper information can be always acquired, for example, an object can be specified by acquiring detailed information of the detected object.例文帳に追加

探査可能領域にて上下左右に自在に探査波を走査可能とすることにより、走査周期や走査方向等の走査パターンや走査領域を自由に設定可能となり、例えば検出された物体の詳細情報を得て物体を特定するなど、常に適正な情報を得ることが可能となる。 - 特許庁

A transmission circuit 12 controls a probe 10 so as to successively repeat scanning patterns in three directions corresponding to a center direction, a left direction and a right direction over a plurality of scanning timings, and a reception circuit 14 forms reception signals corresponding to the scanning pattern at the scanning timing for each scanning timing.例文帳に追加

送信回路１２は、中央方向と左方向と右方向に対応した３方向の走査パターンを複数の走査タイミングに亘って順に繰り返すようにプローブ１０を制御し、受信回路１４は、各走査タイミングごとにその走査タイミングにおける走査パターンに対応した受信信号を形成する。 - 特許庁

When a color displacement correction process is executed, a sub scanning resist pattern for each color is produced in a conveyance belt (S101), and a sub scanning direction resist distance Ry is calculated (S102).例文帳に追加

色ずれ補正処理が実行されると，まず，搬送ベルトに各色の副走査レジストパターンが作成され（Ｓ１０１），副走査方向レジスト距離Ｒｙが求められる（Ｓ１０２）。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit, a semiconductor integrated circuit design method, a scanning test pattern generation method, and a program capable of reducing cost in a scanning test.例文帳に追加

スキャンテストにおけるコストを低減することができる半導体集積回路、半導体集積回路設計方法、スキャンテストパタン生成方法及びそのプログラムを提供すること - 特許庁

In each selection, voltage selected according to the three pieces of elements of the columns corresponding to that selection from the scanning pattern with 3 rows by n columns is applied to each scanning electrode 312.例文帳に追加

各選択では、３行ｎ列の走査パターンのうち当該選択に対応する列の３個の要素に応じた選択電圧が各走査電極３１２に印加される。 - 特許庁

When combining the plurality of reception signals, the plurality of reception signals obtained at the scanning timings different from each other for at least one scanning pattern are combined.例文帳に追加

複数の受信信号の合成にあたって、少なくとも１つの走査パターンについて互いに異なる走査タイミングで得られる複数の受信信号が合成される。 - 特許庁

The displacements of the toner image in the main scanning direction and the sub scanning direction are simultaneously detected based on the detection result, by a sensor, of the resist pattern formed by the respective imaging units.例文帳に追加

センサによる各作像ユニットが形成したレジストパターンの検知結果に基づいて、トナー画像の主走査方向と副走査方向との位置ずれ量を同時に検出する。 - 特許庁

In an LPH, SLED chips (Chips 1-58), in which a plurality of LEDs are arranged in a main scanning direction, are arranged in a zigzag pattern in the main scanning direction.例文帳に追加

ＬＰＨは、主走査方向に複数のＬＥＤが配列されたＳＬＥＤチップ(Ｃｈｉｐ１〜Ｃｈｉｐ５８)を、主走査方向に千鳥状に配列して構成される。 - 特許庁

Each voltage scanning pattern extending over the whole mass range is formed based thereon and retained in a memory part 51.例文帳に追加

そして、それに基づき質量範囲全般に亘る各電圧走査パターンを作成し、記憶部５１に保持しておく。 - 特許庁

An inkjet drawing apparatus discharges droplets in a scanning direction using a plurality of nozzles to draw a pattern.例文帳に追加

インクジェット描画装置は、複数のノズルを使用して液滴を走査方向に吐出してパターンの描画を行う。 - 特許庁

At the time when single scanning movement to the X-direction is finished, a lattice-shaped pattern is completed on the substrate.例文帳に追加

Ｘ方向への１回の走査移動が終了した時点で、基板上には格子状パターンが完成する。 - 特許庁