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second layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
In this case, the first insulating layer 15 is made of the prepreg material, and the second insulating layer 18 is made of only a thermosetting resin extruded from the prepreg material.例文帳に追加
この場合、第1の絶縁層15はプリプレグ材からなり、第2の絶縁層18は当該プリプレグ材から押し出された熱硬化性樹脂のみからなっている。 - 特許庁
In the meantime, since the first sebum absorbing layer located under the second sebum absorbing layer is equipped with sebum absorbing potential, even when sebum to be wiped off is much, the cleansing pad paper can properly cope with the state.例文帳に追加
その一方で、第2吸脂層の下側に位置する第1吸脂層が吸脂能力を備えているので、拭き取る皮脂が多い場合でも対処できる。 - 特許庁
In the semiconductor device, a non-doped first epitaxial layer 46 and an N- or N--type second epitaxial layer 47 laminated thereon are formed on a P--type semiconductor substrate 45.例文帳に追加
この半導体装置では、P^—型の半導体基板45上にノンドープの第1エピタキシャル層46、NまたはN^-で積層した第2エピタキシャル層47が形成される。 - 特許庁
Subsequently, the ground surface is exposed to proton emission and to two types of laser beams of different wavelengths to form an N^+ first buffer layer 2 and an N second buffer layer 12.例文帳に追加
次いで、この研削された面にプロトンを照射し、異なる波長の2種類のレーザを同時に照射して、N^+第1バッファ層2と、N第2バッファ層12とを形成する。 - 特許庁
In order to measure the film thickness of the recording layer, a light with a wavelength corresponding to the wavelength region in which the second pigment shows a greater absorption strikes on the recording layer.例文帳に追加
そして、記録層の膜厚を測定するために、第二の色素が大きな吸収を呈する波長領域に対応した波長の光を当てる構成とした。 - 特許庁
The power-supply plane or the ground plane is not formed at least within a part of the region of the second wiring layer facing the signal wiring line of the first wiring layer.例文帳に追加
第2の配線層における第1の配線層の信号配線に対向する領域の少なくとも一部には、電源プレーン又はグランドプレーンが設けられていない。 - 特許庁
The first and second reflection films 12, 14 are formed by laminating a disorder layer 21 and a natural superlattice layer 22 of the same material system alternately in a multilayer.例文帳に追加
第1、第2の反射膜12、14は、それぞれ、同一材料系の無秩序層21と自然超格子層22とが交互に多層にわたり積層されたものからなる。 - 特許庁
The bulk deposit layer can be deposited in such a way that it covers the above nucleation layer by allowing a second process gas containing tungsten hexafluoride and reductant to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加
バルク堆積層はその後、六フッ化タングステンおよび還元剤を含む第2の処理ガスを基板処理チャンバ内へ流すことによって、核生成層を覆って堆積される。 - 特許庁
Then the rear of the substrate is ground to the separate layer (step S5) and a collector layer is formed by second conductive impurity ion injection and annealing (step S6).例文帳に追加
その後は分離層に達するまで基板裏面を研削し(ステップS5)、第2導電型不純物のイオン注入とアニールによりコレクタ層を形成する(ステップS6)。 - 特許庁
The addition of the continuous foam layer and laminated fabric layer cooperate with the first and second sections in the bra cup to create a round and smooth silhouette underneath the clothing of the wearer.例文帳に追加
連続的なフォーム層と積層された布帛層の追加は、ブラカップ中の第一および第二の部分と協力して、着用者の丸く滑らかなシルエットを作成する。 - 特許庁
The first metal oxide layer 106a is made of zinc oxide (ZnO), and the second metal oxide layer 106b is made of a compound oxide of indium oxide (In) and tin oxide (Sn).例文帳に追加
第1の金属酸化物層が酸化亜鉛(ZnO)からなり、第2の金属酸化物層がインジウム(In)酸化物と錫(Sn)酸化物の複合酸化物からなる。 - 特許庁
[1] The laminate comprises a first layer made of a liquid crystalline polymer indicating optical anisotropy at a melting time and a second layer containing a saponified ethylene/vinyl ester copolymer.例文帳に追加
〔1〕溶融時に光学的異方性を示す液晶性ポリマーからなる第一層と、エチレン−ビニルエステル共重合体けん化物を含む第二層とを含む積層体。 - 特許庁
The prescribed depth at the time is the middle of the electrode layer 22 positioned second from the bottom and the electrode layer 12 positioned on it of the electrode layers 12 and 22.例文帳に追加
このときの所定の深さは、電極層12及び22のうちで、下から2番目に位置する電極層22とその上に位置する電極層12との中間とする。 - 特許庁
The first electrode 101 in one wiring layer is disposed mutually opposite to the second electrode 102 in the other wiring layer formed in the upper or lower side of the first electrode.例文帳に追加
一の配線層の第1電極101と、その上方又は下方に設けられた他の配線層の第2電極102とは相互に向かい合うように配置されている。 - 特許庁
Nitrogen is supplied onto the exposed surface of the first group III semiconductor layer, while nitrogen is not supplied onto the exposed surface of the second group III nitride semiconductor layer.例文帳に追加
第1のIII族窒化物半導体層の露出している表面に窒素を供給して、第2のIII族窒化物半導体層の露出している表面に窒素を供給しない - 特許庁
Difference between the edge removing width B of the second low-k film 22 in the upper layer and the edge removing width A of the first low-k film 12 in the lower layer is set at 0.4 mm or more.例文帳に追加
上層の第2low−k膜22のエッジ除去幅Bと、下層の第1low−k膜12のエッジ除去幅Aとの差を0.4mm以上にする。 - 特許庁
Most of uneven thickness is eliminated by the first abrasive grain layer 43L, and subsequently, the grinding wheel part 4 is slid in the axial direction to perform finishing with the second abrasive grain layer 43R.例文帳に追加
そして、第1砥粒層43Lで大部分の偏肉を除去し、次いで砥石部4を軸方向に対しスライドさせて第2砥粒層43Rで仕上げを行う。 - 特許庁
An adhesive layer 26 and the second conductor layer 32 of the release sheet 28 are simultaneously brought into contact with an outer peripheral surface of a core 29 for taking up and supporting the adhesive tape 25.例文帳に追加
そして、当該粘着テープ25を巻回支持する巻芯29の外周面に、粘着層26と剥離シート28の第2導体層32とを同時に接触させる。 - 特許庁
After the photosensitive layer for a black matrix is developed, a photosensitive layer for color pixels is formed on the glass substrate 3 and subjected to proximity exposure to transfer the pattern of color pixels in the similar process by a second exposure section 27.例文帳に追加
ブラックマトリクス用感光層の現像後、カラーピクセル用の感光層をガラス基板3に形成し、第2露光部27で同様にカラーピクセルのパターンをプロキシミティ露光する。 - 特許庁
Only a viscosity of second layer 18b, medium layer of curtain film 18, is made high sticky as 330 mPas, and viscosity of other layers are less than 200 mPas.例文帳に追加
カーテン膜18の各層において、その中間層である第2層18bの粘度のみ330mPasと高粘性にし、その他の層の粘度は200mPas以下とする。 - 特許庁
In the area Y, a portion of a second planarizing layer F2 covering the side surface S1 of the first planarizing layer F1 overlaps with a part of the high potential side potential supply line VHa.例文帳に追加
領域Yにおいては、第2の平坦化層F2のうち第1の平坦化層F1の側面S1を覆う部分が高位側電位供給線VHaの一部と重なる。 - 特許庁
When a refractive index of the support 11 is set to be η1, the refractive index of the first layer 12 is set to be η2, and the refractive index of the second layer 13 is set to be η3, it is set to be η1<η2<η3.例文帳に追加
支持体11の屈折率をη1とし、第1層12の屈折率をη2とし、第2層13の屈折率をη3とするとき、η1<η2<η3とする。 - 特許庁
The second sealing layer 8 is disposed so that it does not overlap with the first sealing layer 7 in a lamination direction of the glass substrates 2, 3 in the cross section including the lamination direction of the glass substrates 2, 3.例文帳に追加
第2の封着層8はガラス基板2、3の積層方向を含む断面において、第1の封着層7と該積層方向に重ならないように配置されている。 - 特許庁
The light transmissive image has 100-800 μm thickness as a whole including a superimposing image formed from the first image forming layer (4) and the second image forming layer (5).例文帳に追加
光透過性イメージは、第1イメージ形成層(4)と第2イメージ形成層(5)とから形成された重畳イメージを含み、全体として100〜800μmの厚さを有する。 - 特許庁
The first insulating layer has a plurality of slits 16a formed to communicate the outside thereof with the inside of an opening 16, and the second insulating layer 18 is provided in the slits 16a.例文帳に追加
第1の絶縁層15にその外側と開口部16内とを連通するスリット16aを複数設け、スリット16a内に第2の絶縁層18を設けている。 - 特許庁
The second sheet is punched into a desired shape of desired light emission and is arranged on a surface on a dielectric layer 5 side of the first sheet 1 with the phosphor layer underneath.例文帳に追加
第2のシートは、発光させようとする所望の形状に切り抜き、蛍光体層を下にして第1のシート1の誘電体層5の側の表面に配置する。 - 特許庁
The spiral wirings H1 to H9 are structured of a crystalline silicon film 103, a first rotating layer 104, a second rotating layer 105 and metal wirings W1 to W9.例文帳に追加
螺旋配線H1〜H9は、結晶シリコン膜103、第1の回旋層104、第2の回旋層105および金属配線W1〜W9から構成される。 - 特許庁
The base material 2 is laminated with the surface material 3 via an easy-peelable laminated film consisting of a first layer and a second layer, which are laminated by co-extrusion molding and can delaminate.例文帳に追加
共押し出し積層された層間剥離可能な第1層と第2層とからなる易剥離性積層フィルムを介して基材2と表面材3を積層する。 - 特許庁
Then, a protection layer 16 composed of SiO_2 is formed so that a bottom is stuck to the pad area and a top 18 covers the second sacrificial layer 40.例文帳に追加
次に、底部がパッド領域に対して接着するように、かつ頂部18が第2犠牲層40を覆うようにSiO_2からなる保護層16を形成する。 - 特許庁
Second, the substrate 10 is housed in a pressurizing tank, and the coating film is dried and solidified under a constant pressurizing/heating condition to form a first organic layer 12 as the hole injection layer.例文帳に追加
次に、この基板10を加圧槽に収容し、一定の加圧・加熱条件で塗膜を乾燥・固化させてホール注入層としての第1有機層12を形成する。 - 特許庁
A first lead wire 31 and a second lead wire 32, which are formed in the lead layer 16, have a first straight-line portion 31c and a second straight-line portion 32c, respectively.例文帳に追加
リード層16に形成された第1のリード線31と第2のリード線32とは、第1の直線部分31cと第2の直線部分32cとを有する。 - 特許庁
A second layer 44 is provided on a second face 24 of the substrate 20 so that it may overlap with the boundary 36 of the wiring pattern 30 but may not overlap with the resin portion 40.例文帳に追加
第2の層44は、基板20の第2の面24に、配線パターン30の境目36とオーバーラップするとともに、樹脂部40とオーバーラップしないように設けられている。 - 特許庁
The first layer has the refractive index between the refractive index of the first liquid and the refractive index of the second liquid and is provided between the first liquid and the second liquid.例文帳に追加
第1の層は、第1の液体の屈折率と第2の液体の屈折率との間の屈折率を有し、第1の液体と第2の液体との間に備えられる。 - 特許庁
A common mode choke coil CC is provided with a first magnetic body MB1, a second magnetic body MB2, and a layer structure LS positioned between the first and second magnetic bodies MB1 and MB2.例文帳に追加
コモンモードチョークコイルCCは、第1の磁性体MB1と、第2の磁性体MB2と、第1,2の磁性体MB1,MB2の間に位置する層構造体LSと、を備えている。 - 特許庁
Further, a terminal area 25 for mutually connecting wiring layers is formed by removing partially the second insulating layer 17B of a desired part, and a second electric conduction film 28B.例文帳に追加
そして、所望の箇所の第2の絶縁層17Bと第2の導電膜28Aとを部分的に除去することで、配線層同士を接続する接続部25を形成する。 - 特許庁
The second part connects with an upper part of the first part of the gate electrode, and faces an upper-end part 4B of the p-type base layer across a second part of the gate insulating film.例文帳に追加
第2の部分は、ゲート電極の第1の部分の上部と連続し、ゲート絶縁膜の第2の部分を介してp形ベース層の上端部4Bに対向する。 - 特許庁
The first substrate and a second substrate to be a film-formed substrate are arranged in opposition, light is irradiated on the light-absorbing layer to heat it, and a film is formed on the second substrate.例文帳に追加
この第1の基板と被成膜基板となる第2の基板とを対向して配置し、光吸収層に光の照射を行って加熱し、第2の基板に成膜を行う。 - 特許庁
When the cleaning member 240 is not turned, following the rotation of the second read roller 70, the white reference cleaning layer 240b slides on the circumferential surface of the second read roller 70.例文帳に追加
一方、清浄部材240が第2読取ローラ70の回転に連れ回りしない場合には、白基準清浄層240bが第2読取ローラ70の周面を摺動する。 - 特許庁
A second circuit is formed in the area of the glass substrate to which the transparent conductive layer is not applied in the plating technology, and the second circuit is electrically connected to the first circuit.例文帳に追加
透明導電層を塗布しないガラス基板のエリアに、さらに、めっきの技術で第二の回路を形成し、第二の回路は電気的に第一の回路に結び合う。 - 特許庁
The positions of the plurality of hollows 5 that extends in parallel to each other are covered simultaneously with the first and second resin layers or are covered only with the second resin layer 2.例文帳に追加
上記複数個の互いに平行に延在する中空部5の位置は第一、第二樹脂層に同時に覆われるか、或いは第二樹脂層2単独で覆われる。 - 特許庁
In this donor substrate 40, a second phtothermal conversion layer 43B is formed in a second region 41B other than a first region 41A corresponding to a display region of a transfer object substrate.例文帳に追加
ドナー基板40に、被転写基板の表示領域に対応する第1領域41A以外の第2領域41Bに、第2光熱変換層43Bを設ける。 - 特許庁
The epitaxial layer 30 and the second wafer 23 are almost aligned in their crystal axes which are within the range from -15° to +15° for the side surface {100} of the second wafer 23.例文帳に追加
エピタキシャル層30と第2のウェハ30とは結晶軸が略合っており、第2のウェハ23の側面{100}に対して−15°から+15°の範囲内にある。 - 特許庁
A second mask 21' having a wiring groove pattern is formed by etching the second mask forming layer from the top of the third mask 12', and the connection hole 13 is dug to the middle of the first insulating film 8.例文帳に追加
第3マスク12’上から第2マスク形成層をエッチングして配線溝パターンを有する第2マスク21’を形成し、第1絶縁膜8の途中まで接続孔13を掘り下げる。 - 特許庁
The second lower electrode 112 includes a first extension part 112a extending from a side surface which is arranged in parallel with the first direction to the exterior of the second photoelectric conversion layer 122.例文帳に追加
第2下部電極112は、第1の方向と平行な側面から第2光電変換層122の外に延伸する第1延伸部112aを備えている。 - 特許庁
In addition, in measurement of elongation percentage by the second test piece in JIS K7113, the elongation percentage of an adhesive layer 13 being the second test piece 120 is ≥150%.例文帳に追加
更に、JIS K7113の2号形試験片による伸び率の測定において、2号形試験片120である接着剤層13の伸び率が、150%以上である。 - 特許庁
In the electric double layer capacitor, movements between the first and second electrodes and the separator are minimized, so that the area of the facing surfaces of the first and second electrodes increases.例文帳に追加
本発明による電気二重層キャパシタは、第1及び第2電極と分離膜の動きが最小化され、第1及び第2電極の対向する面積が広くなる。 - 特許庁
Further, the exterior second display electrode 8a and the interior second display electrode 8b are formed to be overlapped on the other end portion of the gap electrode 5 through the insulation layer 6.例文帳に追加
また、外側第二表示電極8a及び内側第二表示電極8bは、絶縁膜6を介して隙間電極5の他の端部と重なるように形成する。 - 特許庁
An accumulation layer 21 is formed at the side of the second main surface 10b of the silicon substrate 10 and an irregularly uneven area 20 is formed on the second main surface 10b.例文帳に追加
シリコン基板10には、第2主面10b側にアキュムレーション層21が形成されていると共に、第2主面10bに不規則な凹凸20が形成されている。 - 特許庁
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