| 意味 | 例文 |
second layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
A heat emitting resistor layer 17 is formed on a convex glaze layer 16 near the end face 15a, and a first electrode 18a and a second electrode 18b are formed by providing a gap G on its inclined face, and the gap G part is made to be a heat emitting part 19.例文帳に追加
端面15a近傍の凸状グレーズ層16上に発熱抵抗体層17が形成され、その傾斜面に間隙Gを設けて第1の電極18a、第2の電極18bが形成され、間隙G部分を発熱部19とする。 - 特許庁
Then, after a silicon oxide film 108 is formed, a contact hole is formed to the PAD section 105 through the second conductive layer and silicon oxide film 108 on the PAD section 105, and a third conductive layer which becomes an aluminum wiring 110 is formed in the contact hole.例文帳に追加
次に、シリコン酸化膜108を形成した後に、 PAD部105上の第二導電層とシリコン酸化膜108に、PAD部105まで達するコンタクトホールを形成し、アルミ配線110となる第三導電層を形成する。 - 特許庁
Further, an insulation layer 59 is disposed on a chip 50 so as to cover at least one part of each of the common electrode 52 and the first individual electrode 53a and the second individual electrode 53b is formed on the insulating layer 59.例文帳に追加
また、チップ50上に形成された共通電極52及び第1個別電極53aのそれぞれの少なくとも一部を覆うようにチップ50上に絶縁層59設け、該絶縁層59上に第2個別電極53bを形成した。 - 特許庁
This papermaking device is provided by arranging an insertion body-supplying device 10 equipped with a conveying belt 11 laid over a guide roll 12, a suction roll 13 and a supplying roll, and circulation moving endlessly at the upstream side of overlapping the second wet paper layer P_2 in the traveling range of the first wet paper layer P_1.例文帳に追加
第1湿紙層P_1の走行域で、第2湿紙層P_2を重畳させる上流側に、ガイドロール12とサクションロール13、供給ロールとに掛け渡した無端循環移動する搬送ベルト11を備えたインサート体供給装置10を配する。 - 特許庁
The surface of the thin film magnetic head on the recording gap layer 26 side of a bottom pole layer 10 has a first surface 10A including an end arranged in the air bearing surface 42 and a second surface 10B arranged in a position away from the air bearing surface 42.例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドの下部磁極層10の記録ギャップ層26側の面は、エアベアリング面42に配置された端部を含む第1の面10Aと、エアベアリング面42から離れた位置に配置された第2の面10Bとを有している。 - 特許庁
This decoupling capacitor unit is equipped with odd-numbered decoupling capacitors 104a and 104b mounted on a first upper metal layer 102a, and even-numbered decoupling capacitors 104c and 104d mounted on a second lower metal layer 102b.例文帳に追加
奇数番のデカップリング・コンデンサ104a、104bが上面の第1の金属層102aに取り付けられ、偶数番のデカップリング・コンデンサ104c、104dが底面の第2の金属層102bに取り付けられる複数のデカップリング・コンデンサを備える。 - 特許庁
The optical compensating element and its manufacturing method comprise a first optical anisotropic layer formed of an inorganic material, and a second optical anisotropic layer formed of a polymerization liquid crystal compound and having a means for holding a deoxidation atmosphere.例文帳に追加
支持体上に、無機材料で形成された第1の光学異方性層及び重合性液晶化合物で形成され、かつ、脱酸素雰囲気を保持する手段を有する第2の光学異方性層を備えた光学補償素子及びその製造方法。 - 特許庁
A semiconductor layer where the composition of first and second semiconductors changes in the film-thickness direction is formed on a substrate, and a pulse laser beam is applied to the semiconductor layer for ultra-high-speed crystal growth, thus forming the distortion semiconductor polycrystal.例文帳に追加
基板上に第1の半導体と第2の半導体の組成が膜厚方向に変化してなる半導体層を形成し、これにパルスレーザーを照射し超高速結晶成長をおこなうことにより、ひずみ半導体多結晶を形成する。 - 特許庁
A second layer 2 formed of a transparent resin 20 comprising an acrylic resin or a polyester resin and a brilliant agent 21 dispersed in the resin is formed on a first layer 1 formed by the powder coating of an acrylic resin or a polyester resin.例文帳に追加
アクリル樹脂又はポリエステル樹脂による粉体塗装により形成される第1層1の上に、アクリル樹脂或いはポリエステル樹脂からなる透明樹脂20と、ここに分散する光輝剤21から形成される第2層2を形成する。 - 特許庁
The organic electro-luminescence device has a substrate 10 and an organic electro-luminescence element X thereon which has first and second electrodes 6 and 39 and a functional layer Y containing at least an organic light emitting layer 62 held between these electrodes.例文帳に追加
基板10上に、第1電極6と第2電極39とこれら電極間に挟持された少なくとも有機発光層62を含む機能層Yとを有した有機エレクトロルミネッセンス素子Xを、備えてなる有機エレクトロルミネッセンス装置である。 - 特許庁
Two-dimensional photonic crystals are formed on a slab 21 having a quantum well structure obtained by alternately laminating a first semiconductor layer 211 and a second semiconductor layer 212 having partially overlapped electron band gaps by periodically forming pores 22 therein.例文帳に追加
電子のバンドギャップの一部が重複する第1半導体層211と第2半導体層212を交互に積層して成る量子井戸構造を有するスラブ21に、周期的に空孔22を形成することにより2次元フォトニック結晶を形成する。 - 特許庁
This work glove made of a polyvinyl chloride has the first layer 1 of the polyvinyl chloride resin formed on the outer surface of a knit glove 4, and the second layer 2 of the polyvinyl chloride resin formed on the surface of fingertip parts and the palm part.例文帳に追加
編み手袋4の外表面に塩化ビニル樹脂の第1層1が形成され、第1層1の表面のうち、指先部分と掌部分の表面に、塩化ビニル樹脂の第2層2が形成されている塩化ビニル製作業用手袋。 - 特許庁
This is the organic EL element having a first electrode 101 and a second electrode 102, an EL layer 103, and conductive particulates 104, and the organic EL element in which the conductive particulates 104 are dispersed in the EL layer 103 is used.例文帳に追加
第1の電極101および第2の電極102、EL層103、導電性微粒子104、を有する有機EL素子であって、EL層103中に導電性微粒子104が分散されている有機EL素子を用いる。 - 特許庁
Here treatment is executed with a condition that a solid phase reacting layer is formed between the Pt film of the second electrode part and the semiconductor substrate and the solid phase reaction layer is not formed between the WSi/W film of the first electrode part and the semiconductor substrate.例文帳に追加
その後、第2の電極部のPt膜と半導体基板との間で固相反応層が形成され、第1の電極部のWSi/W膜と半導体基板との間では固相反応層が形成されない条件で熱処理を行う。 - 特許庁
A second spacer layer 30 is formed on at least part of the field plate 32 and on at least part of the first spacer layer 28 between the gate electrode 24 and the drain electrode 22 and between the gate electrode 24 and the source electrode 20.例文帳に追加
第2のスペーサ層30は、ゲート電極24とドレイン電極22との間、およびゲート電極24とソース電極20との間にある第1のスペーサ層28の少なくとも一部の上と、フィールドプレート32の少なくとも一部の上に形成される。 - 特許庁
The first single crystal semiconductor layer is epitaxially grown to form a second single crystal semiconductor layer with the plasma chemical vapor deposition method using the silane system gas and hydrogen of 50 times or more in the flow rate ratio for the silane system gas as the raw material gas.例文帳に追加
シラン系ガスとシラン系ガスに対して流量比で50倍以上の水素とを原料ガスとして、プラズマ化学気相成長法により第1単結晶半導体層をエピタキシャル成長させて第2単結晶半導体層を形成する。 - 特許庁
The resin content per unit volume of the prepreg constituting either one of the second layer 2 and the third layer 3 is 25 %, and the synthetic resin content per unit volume of the prepregs forming the residual two layers is 20 %.例文帳に追加
第2層2又は第3層3の何れか一方の層を構成するプリプレグの単位体積当たりの合成樹脂の含有量が25%であり、残りの2層を構成するプリプレグの単位体積当たりの合成樹脂の含有量が20%である。 - 特許庁
The second sealing layer 9 applies voltage on electrodes 5a of the solar cells 5 and electrodes 6a of the circuit layer at the time of manufacturing, thereby giving an anisotropic conductive function to the conductive filler 10 and energizing both electrodes 5a and 6a.例文帳に追加
第二の封止層9は、製造時に太陽電池セル5の電極5aと回路層6の電極6aに電圧を印加することで導電性フィラー10に異方導電性機能を付与し、両電極5a,6a間を通電させる。 - 特許庁
A memory device includes an organic active layer between a first electrode and a second electrode, wherein the organic active layer is formed of an electroconductive organic including a hetero atom.例文帳に追加
第1電極と第2電極間に有機活性層を含むメモリ素子であって、該有機活性層がヘテロ原子(hetero atom)を含む電気伝導性有機物によって形成される有機メモリ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A semiconductor device includes as an oxide semiconductor layer, a layer with a multilayer structure including a first oxide semiconductor film and a second oxide semiconductor film with a larger band gap than the first oxide semiconductor film and in contact with the first oxide semiconductor film.例文帳に追加
第1の酸化物半導体膜及び、第1の酸化物半導体膜に接して第1の酸化物半導体膜よりバンドギャップが大きい第2の酸化物半導体膜の積層構造を有する層を酸化物半導体層として用いた。 - 特許庁
The semiconductor device 1 comprises a single crystal semiconductor portion 19 including an n-type first semiconductor layer 15 and a p-type second semiconductor layer 17 arranged alternately on the surface of a semiconductor substrate to constitute a stripe plane.例文帳に追加
半導体装置1は、ストライプ状の平面が構成されるように、半導体基板の表面上に交互に配置されたn型の第1半導体層15とp型の第2半導体層17を含む単結晶半導体部19を備える。 - 特許庁
The nickel electrode for the alkaline storage battery is provided with a second electrode active material mainly made of nickel hydroxide having smaller true density on the surface layer than that of the inner layer of a first positive electrode active material made of mainly nickel hydroxide.例文帳に追加
本発明のアルカリ蓄電池用ニッケル電極は、水酸化ニッケルを主体とする第1正極活物質の表面層に内層部よりも真密度が小さい水酸化ニッケルを主体とする第2正極活物質を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
First doped semiconductor regions 18 having the same conductivity type dopant as a bottom semiconductor layer and second doped semiconductor regions 28 having an opposite conductivity type dopant are formed directly underneath a buried insulator layer 20 of the (SOI) substrate.例文帳に追加
底部半導体層と同じ導電型のドーパントを含む第1のドープされた半導体領域18及び反対導電型のドーパントを含む第2のドープされた半導体領域28がSOI基板の埋め込み絶縁層20の直下に形成される。 - 特許庁
The ratio (the length/a width) in the major axis (the second axis) direction to a width in the minor axis (the first axis) direction of this elliptic shape, is set in a sufficient value for the free layer to hold anisotropic magnetization, and its length is less than a magnetic domain wall width in the free layer.例文帳に追加
この楕円形状の短軸(第一軸)方向の幅に対する長軸(第二軸)方向の長さの比(長さ/幅)は、フリー層が異方性磁化を保持するのに十分な値であり、その長さは、フリー層における磁区壁幅未満である。 - 特許庁
The first and the third layer 10a, 10c which are the same temperature sensitive magnetic material are designed to have the same thickness while the second layer 10b is designed to have the thickness to minimize thermal deformation due to difference in thermal expansion coefficient.例文帳に追加
同じ感温磁性材である第1の層10aおよび第3の層10cとは、同じ厚さ寸法とし、それに対する第2の層10bの厚さ寸法も、熱膨張率の違いに起因する熱変形を最小限とするべく設定する。 - 特許庁
To provide a method by which bonding between an intermediate layer for the exfoliation of a substrate of a different kind of material and a second nitride semiconductor layer being separated as a self-standing substrate can be reduced and the yield in the production of a self-standing substrate of a nitride semiconductor such as GaN is improved.例文帳に追加
異種材料基板剥離のための中間層と自立基板となる第二の窒化物半導体層との結合を低減でき、GaN等の窒化物半導体自立基板の製造の歩留りを向上する方法を提供する。 - 特許庁
An original board having a ruggedness is pressed against a polymer substrate composed of two layers having at least chemical compositions different from each other and, thereby, a second layer from the surface which is hidden by the uppermost surface layer heretofore is visualized as a cross-section of a pillar part.例文帳に追加
少なくとも化学組成の互いに異なる2層からなる高分子基板に、凹凸を有する原盤を押し当てることにより、これまで最表面層によって隠されていた表面から第2番目の層がピラー部の断面として顕わになる。 - 特許庁
Then a glass plate 1 having a reinforced surface, a first resin layer 2, a solar battery cell row 3 formed by electrically connecting a plurality of solar battery cells 3a through copper foil 3b, a second resin layer 4, and the protective film 5 are laminated upon another in this order (b).例文帳に追加
表面に強化処理を施したガラス板1と、第1樹脂層2と、複数の太陽電池セル3aを銅箔3bで電気的に接続させてなる太陽電池セル列3と、第2樹脂層4と、保護フィルム5とをこの順に積層する(b)。 - 特許庁
As the beam passed through the transparent polymer dispersed type liquid crystal layer 41 is transmitted through a second transparent material and is absorbed in a light absorbing layer, the beam 41 does not disturb the image when a reflected light from the screen is observed.例文帳に追加
なお、透明な高分子分散型液晶層41を通過した光束は、第2透明部材44を透過して光吸収層47に吸収されるので、スクリーン4からの反射光を観察する際に画像を劣化させる原因とはならない。 - 特許庁
An organic EL display element 1A comprises an approximately white color light scattering layer 7 set on a front side of an element body 11A having a first substrate 2, a positive electrode 3, an organic EL layer 4, a negative electrode 5, and a second substrate 6.例文帳に追加
有機EL表示素子1Aは、第1の基板2と陽極3と有機EL層4と陰極5と第2の基板6とを有する素子本体11Aの正面側に、ほぼ白色の光散乱層7が設けられた構成となっている。 - 特許庁
The dye-sensitized solar cell 120 is provided with a first substrate 13, a second substrate 25, a translucent conductive layer 14, a semiconductor electrode 15, a catalyst electrode 23, a current collecting conductor layer 41, a plurality of relay connectors 51 and resin protective parts 61, 62 or the like.例文帳に追加
色素増感型太陽電池120は、第1基体13、第2基体25、透光性導電層14、半導体電極15、触媒電極23、集電導体層41、複数の中継接続体51、樹脂製保護部61,62等を備える。 - 特許庁
A second cover rubber 44 comprising a black rubber is arranged on an outer surface of the different color rubber layer 41, a part is ground to expose the different color rubber layer 41, and the different color part 40 comprising a white rubber is formed on the outer surface of the side wall part 3.例文帳に追加
異色ゴム層41の外面に、黒色のゴムからなる第2のカバーゴム44を配置し、その一部を研削して異色ゴム層41を露出させてサイドウォール部3の外面に白色ゴムからなる異色部40を形成する。 - 特許庁
After that, the dicing cut is applied to the wafer from the glass wafer 11 side till the bottom surface of the semiconductor wafer 1 in the photosensitive resin layer 13 and its lower layer on the scribe line 10 by a second dicing blade having fine abrasive grains and a narrow blade width to divide the groove for every chip.例文帳に追加
その後、砥粒が細かくブレード幅の狭い第2ダイシングブレードによって、スクライブライン10上を、ガラスウェハ11側から感光性樹脂層13並びにその下層の半導体ウェハ1底面までダイシングカットしてチップ毎に分割する。 - 特許庁
By subjecting the structure with the mask member M1 to selective embedding epitaxial growth, a pad film 12 is formed as a first selective embedded growth layer, and subsequently a p-type anode side region 13 as a second selective embedded growth layer are formed.例文帳に追加
マスク部材M1を付けたままで、埋込選択エピタキシャル成長法により、第1の埋込選択成長層であるパッド膜12を形成し、引き続き、第2の埋込選択成長層であるp型のアノード側領域13形成する。 - 特許庁
A power semiconductor device includes a plurality of trenches 4, which is installed in a first base layer 1 of a first conductive type having an interval, in such a way to divide a main cell MR and dummy cell DR at a position separated from a collector layer 3 of a second conductive type.例文帳に追加
電力用半導体装置は、第2導電型のコレクタ層3から離間した位置で、メインセルMRとダミーセルDRとを区画するように間隔をおいて第1導電型の第1ベース層1内に配設された複数のトレンチ4を含む。 - 特許庁
The carrier member includes a base substrate 100 having a rigid substrate 110; and a release layer 300 laminated on an outermost layer of the base substrate 100 so that there are provided a first surface in contact with the base substrate 100 and second surface extended to the outside of the base substrate 100.例文帳に追加
リジッド基板110を含むベース基板100、及びベース基板100と接する第1面とベース基板100の外側に向かう第2面を持つようにベース基板100の最外層に積層された離型層300を含む。 - 特許庁
In the recording and reproducing method, when the thermal decomposition temperature of the recording layer is 400°C or lower and the pit-length-modulated recording mark is to be formed in the recording layer, the second shortest signal recording pulse length in signals is changed between at the disk inner peripheral part and the outer peripheral part.例文帳に追加
記録層の熱分解温度が400 ℃以下であり、記録層にピット長変調した記録マークを形成する際に、信号中2 番目に短い信号記録パルス長をディスク内周部と外周部で変化させる記録再生方法。 - 特許庁
The one-pack type curable resin SOL1 for an intermediate layer stored in a first tank 12 is applied to the predetermined region of the steel sheet W for the car and the one-pack type curable resin SOL2 for the reinforcing material stored in a second tank 14 is applied to the resin layer on the steel sheet W.例文帳に追加
自動車用鋼板Wの所定の部位に、第1タンク12に貯留された中間層用一液硬化型樹脂SOL1を塗布した後、第2タンク14に貯留された補強材用一液硬化型樹脂SOL2を塗布する。 - 特許庁
Subsequently, in an ion implantation process, a first doped area is formed in the effective layer covered with the shield area, and a second doped area is formed in the effective layer covered with the extension area thus fabricating a thin film transistor having a self-alignment LDD structure.例文帳に追加
次にイオン注入工程により、遮蔽エリアに覆われた有効層内に第1ドープエリアを形成し、延伸エリアに覆われた有効層内に第2ドープエリアを形成し、セルフアライメントLDD構造を備えた薄膜トランジスタを製造する。 - 特許庁
Next, a powder layer is formed to a surface of the underlayer coating film layer by using a second nozzle 42 while rotating a paper supply roller body 100A retained to a horizontal posture around the central axis and spraying a powder from a horizontal direction.例文帳に追加
次に、水平な姿勢に保持した給紙ローラー本体100Aをその中心軸線回りに回転させながら、その下地塗膜層の表面に第2ノズル42を用いて水平方向から粉体を吹き付けて粉体層を形成する。 - 特許庁
Total sum of 0.2% strength and thickness of each of the one or more layers constituting the first wiring layer 52 is smaller than total sum of 0.2% strength and thickness of each of the one or more layers constituting the second wiring layer 56.例文帳に追加
第1配線層52を構成する前記1又は複数の層のそれぞれの0.2%耐力と厚みの積の合計が、第2配線層56を構成する前記1又は複数の層のそれぞれの0.2%耐力と厚みの積の合計よりも小さい。 - 特許庁
The manufacturing method gives the single-layer fine particle film wherein the film of the fine particles formed in one layer on the surface of the substrate is mutually bonded by a covalent bond with the first organic film formed on the surface of the substrate through the second organic film formed on the surfaces of the fine particles.例文帳に追加
基材表面に1層形成された微粒子の膜が微粒子表面に形成された第1の有機膜と基材表面に形成された第2の有機膜を介して互いに共有結合している単層微粒子膜を得る。 - 特許庁
A first electrode layer 115a of the p-side electrode 115 satisfies the relationships of n_EFF-n_E1≥1, d_1≥λ/(4πk_1), while a second electrode layer 115b of the p-side electrode 115 satisfies the relationships of n_EFF-n_E2<1, d_2<λ/(4πk_2).例文帳に追加
p側電極115の第1の電極層115aは、n_EFF−n_E1≧1、d_1≧λ/(4πk_1)の関係を満たし、p側電極115の第2の電極層115bは、n_EFF−n_E2<1、d_2<λ/(4πk_2)の関係を満たす。 - 特許庁
The first layer 31 is constituted by adhesive with high adhering force to the EL sheet substrate (PET film)11, and the second layer 31 is constituted by adhesive provided with high adhering force to the key top material.例文帳に追加
第1層31はELシート基材(PETフィルム)11に対して高い接着力を有する接着剤によって構成されかつ第2層31はキートップの材料に対して高い接着力を有する接着剤によって構成されている。 - 特許庁
In this sheet takeout device, air is nearly horizontally jetted from first nozzles A disposed near sides of a stacked layer S and second nozzles B disposed nearly above the first nozzles A in the rear of the first nozzles A to float a plurality of steel sheets P from the stacked layer S.例文帳に追加
積層Sの側方近接位置に配備した第1ノズルAと、第1ノズルAの後方やや上方位置に配備した第2ノズルBとから略水平方向にエアを噴射し、複数枚の鋼板Pを積層Sから浮き上がらせる。 - 特許庁
At least one DCB laminate structure including first and second metal layers 3 and 5 and a ceramic layer 4 disposed between the metal layers 3 and 5 is formed on a separate layer 2 of a base 1 by heating directly up to bonding temperature.例文帳に追加
第一および第二金属層3、5と該金属層3、5の間に位置するセラミック層4とを含む少なくとも1つのDCB積層構造が、直接接合温度にまで加熱することで支持体1の分離層2上に形成される。 - 特許庁
The shading layer BM has a first shading section BMa in an effective zone and a second shading section BMb in a peripheral zone, and the second shading section BMb is formed to have a thermal resistance smaller than that of the first shading section BMa.例文帳に追加
この遮光層BMは有効領域内の第1遮光部分BMaと周辺領域内の第2遮光部分BMbとを有し、第1遮光部分BMaよりも第2遮光部分BMbの方が熱抵抗が小さくなるように形成される。 - 特許庁
A second interlayer insulating film and first wiring, or a second wiring layer and a hard mask are formed on the surface of a silicon substrate 2, the silicon substrate 2 is conveyed to a reaction chamber S, and N_2 gas excited by microwaves is introduced to the reaction chamber S.例文帳に追加
第2層間絶縁膜と第1配線、あるいは、第2配線層とハードマスクをシリコン基板2の表面に形成し、そのシリコン基板2を反応室Sに搬送させ、その反応室Sに、マイクロ波によって励起されたN_2ガスを導入する。 - 特許庁
The liquid crystal retardation caused by a pre-tilt of a liquid crystal existing on both sides of a liquid crystal layer 71 is effectively canceled by first and second crystal plates provided in first and second optical compensation plates OC1 and OC2, respectively.例文帳に追加
第1光学補償板OC1に設けた第1の水晶板と、第2光学補償板OC2に設けた第2の水晶板とが、液晶層71の両端側に存在する液晶のプレチルトに起因する液晶リタデーションを実効的にキャンセルする。 - 特許庁
The liquid crystal cell 2 is provided with a first and a second film substrates 4 and 6 arranged at a prescribed interval, a cholesteric liquid crystal 10 held between the substrates 4 and 6 and the light absorption layer 12 provided on the rear surface of the second substrate 6.例文帳に追加
液晶セル2は、互いに所定の間隔をあけて設けた第1及び第2のフィルム基板4、6と、これら基板間に挟持されたコレステリック液晶10と、第2の基板6の背面に設けた光吸収層12とを備える。 - 特許庁
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