| 意味 | 例文 |
second-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
In the method of manufacturing an evaporation donor substrate, a first substrate which is an evaporation donor substrate is irradiated with first light (laser light) through a second substrate which is a mask substrate, whereby a material layer over the first substrate is patterned.例文帳に追加
蒸着用基板である第1の基板に、マスク基板である第2の基板を介して第1の光(レーザ光)を照射することにより、第1の基板上の材料層をパターン形成する蒸着用基板の作製方法である。 - 特許庁
The alignment layer arranged on the second substrate is rubbing treated taking the direction perpendicularly intersecting the arrayed direction of the group of the pixel electrodes to which voltage with an identical polarity is applied in a 1H inversion driving as the rubbing direction Rb.例文帳に追加
第2基板に設けられた配向膜には、1H反転駆動において同一極性の電圧が印加される画素電極群の配列方向と直交する方向をラビング方向(Rb)としてラビング処理が施されている。 - 特許庁
Water is supplied for the second time at the time of regeneration after final rinsing to dilute the saturated salt water and generate salt water having a substantially specified concentration, which flows down into an ion exchange resin 43 layer so as to regenerate the ion removing capability of the ion exchange resin 43.例文帳に追加
最終すすぎ後の再生時に二回目の給水を行い飽和塩水を希釈し、略規定濃度の塩水を生成しイオン交換樹脂43層に流下させ、イオン交換樹脂43のイオン除去能力を再生する。 - 特許庁
The circumference of a noble metal core particle of ≤8 nm is coated with a 1 to 6 atomic layer, i.e., with a second noble metal of ≤1 nm, so as to provide a core shell type noble metal nanocolloid particle having a particle diameter of ≤10 nm.例文帳に追加
8nm以下の貴金属コア粒子の周囲を、1〜6原子層、すなわち1nm以下の第2の貴金属で被覆することにより、粒子径が10nm以下のコアシェル型の貴金属ナノコロイド粒子提供することができる。 - 特許庁
In this case, a domain 123 related to a base part, which is the tip corresponding part 121 of the second aperture part 12, is positioned on a domain facing the corner part continuing to the surface part of the bolster part 21 on the exfoliation layer 23.例文帳に追加
このとき、第2開口部12の先端対応部分121であって前述した基部に係る領域123は、剥離層23上の前記枕部21の表面部に連なる角部に対向する領域に位置している。 - 特許庁
In the coating film 20, a region acting on cutting (a ridge part 1 on the edge here) has an exposed part 30 in which the film other than oxide (the second layer 22 (TiCN) here) is exposed on the surface, by removing one or more layers containing oxide films.例文帳に追加
被覆膜20のうち、切削に作用する領域(ここでは刃先稜線部1)は、酸化物の膜を含む1層以上を除去することで、酸化物以外の膜(ここでは第2層22(TiCN))が表面に露出された露出部30を備える。 - 特許庁
The minute liquid droplet of the functional liquid for a luminescent layer is discharged to each pixel forming region 5 that is partitioned from the nozzle of a second liquid drop discharge head 45, and the liquid droplet 17 of the functional liquid is stuck to the pixel forming region 5.例文帳に追加
また、区画形成された各画素形成領域5に、第2液滴吐出ヘッド45のノズルから、発光層用の機能液の微小液滴を吐出し、画素形成領域5に機能液の液滴17を付着する。 - 特許庁
If the mesh is the first layer, a speed gradient is calculated at an approximate flow rate by a wall function (S120), a coefficient ν_t of eddy viscosity is approximated by the formula of Cebecci & Smith (S125), and the dissipative energy is calculated by a second total pressure loss expression (S130).例文帳に追加
メッシュが第1層であれば、壁関数で近似した流速で速度勾配を算出する(S120)とともに、渦粘性係数ν_tをCebecci&Smithの式で近似して(S125)、第2総圧損失式で散逸エネルギを算出する(S130)。 - 特許庁
In the core element 2 of a tension member layer 2d at a band-shaped element first end 1b and a band-shaped element second end, a plurality of tension member connecting portions 2f are formed by each tension member 4 and a remaining portion of the core element 2 around each tension member 4.例文帳に追加
帯状体第1端1b及び帯状体第2端のテンションメンバ層2dの芯体2において、各テンションメンバ4と各テンションメンバ4の周囲の芯体2の残部とにより複数のテンションメンバ接続部2fが形成される。 - 特許庁
The layer 5 is preferably formed in a semispherical, conical, pyramidal, or gable roof-like shape and is caused to act to liberate hot air in such a way that the air does not come into contact directly with the second surface 10 of the parts 1 on one side of the parts 1.例文帳に追加
断熱層5は好ましくは略半球形状、略円錐形状、略角錐形状、略切妻屋根形状とし、熱風を逃がして部品1の側面にある第2の面10に直接当たらない作用を持たせる。 - 特許庁
In this nonaqueous electrolyte second battery, a fine negative electrode current collector exposed portion, on which lines are provided having a width of not more than 100 μm, or lines having a width of not more than 100 μm and intersected each other is formed on a negative electrode active material layer coated on a negative electrode current collector.例文帳に追加
負極集電体上に形成された負極活物質層に、100μm以下の幅を持つ線、もしくは100μm以下の幅を持つ線が交差複合された微細な負極集電体露出部を設ける。 - 特許庁
The trunk part 25a of a common electrode to be laid in layer overlaps the discrete electrodes 24b and 24c in the second and third arrays in the plan view and the branch part 25b overlaps the discrete electrodes 24a and 24d in the first and fourth arrays in the plan view.例文帳に追加
積層するコモン電極の幹部25aは、第2列、第3列目の個別電極24b、24cと平面視で重複し、枝部25bは、前記第1列、第4列の個別電極24a、24dと平面視で重複させる。 - 特許庁
Furthermore, the device has a control means 204 for controlling the potential difference between the first and second electrodes so as to make the liquid crystal layer generate a DC electric field from powering on of the liquid crystal display device, until up to before lighting of the light source.例文帳に追加
さらに、該液晶表示装置の電源投入から光源の点灯前までの間に、液晶層に直流電界を発生させるよう第1および第2の電極間の電位差を制御する制御手段204を有する。 - 特許庁
Pedestals 31, 32 are formed on a buffer region 4 so that the height of the surface of a second metal layer 19 on the buffer region 4 is higher than that on a gate region 3 before pressure is applied to a contact terminal member 6.例文帳に追加
コンタクト端子体6の未加圧状態においては、第2金属層19の、バッファ領域4上の表面高さがゲート領域3上の表面高さよりも高くなるように、バッファ領域4上に台座部31,32を設ける。 - 特許庁
On the upper surface of the p-type clad layer 104 positioned on both sides of the ridge part Ri, a first insulating film 107a of SiO_2 fine particles and a second insulating film 107b comprising an SiO_2 film are formed in this order.例文帳に追加
リッジ部Riの両側方に位置するp型クラッド層104の上面には、SiO_2微粒子からなる第1の絶縁膜107a、およびSiO_2膜からなる第2の絶縁膜107bがこの順で形成されている。 - 特許庁
One impurity diffusion region of the first transistor constitutes a common diffusion region continuously up to one impurity diffusion region of the second transistor through the impurity diffusion region arranged to the surface layer section of a substrate.例文帳に追加
第1のトランジスタの一方の不純物拡散領域が、基板の表層部に配置された不純物拡散領域を介して第2のトランジスタの一方の不純物拡散領域まで連続して共通拡散領域を構成している。 - 特許庁
A contact hole 135 defined as a side wall part having a first side wall having at least one inclined face forming a first inclined angle with respect to the first substrate and a second side wall facing the first side wall is formed in the insulating layer.例文帳に追加
絶縁膜には、第1基板から第1傾斜角で傾いた一つ以上の傾斜面を有する第1側壁及び第1側壁と向き合う第2側壁を有する側壁部により定義されるコンタクトホール135が形成される。 - 特許庁
The heat generated at the pn junction of the ESD protective element and conducted through the contact 12 is simultaneously diffused in three directions through the first metal wiring 21 and the second metal wiring 22 in the metal layer 13 and radiated to the pad.例文帳に追加
ESD保護素子のpn接合部で発生し、コンタクト12を伝導してきた熱は、金属層13において第1金属配線21と第2金属配線22を通って3方向に同時に拡散され、パッドに放熱される。 - 特許庁
The additives for the electrode material are used for the electrode material for the electric double layer capacitor which contains the first active carbon of ≤1 μm in mean particle diameter and with which the second active carbon of >1 μm in mean particle diameter is mixed.例文帳に追加
電極材料用添加材は、平均粒径1μm以下の第一活性炭を有し、平均粒径が1μmを超える第二活性炭が混合されている電気二重層キャパシタ用電極材料に使用されるものである。 - 特許庁
In the first passage component 140, a first gas passage 143 on the side of the first projection part 141 is a power generating body layer side passage, and its volume is larger than that of the second gas passage 144 which is a separator side passage.例文帳に追加
第1流路構成体140は、第1凸部141の側方の第1ガス流路143を発電体層側流路とし、その体積をセパレーター側流路である第2ガス流路144の体積より大きくしている。 - 特許庁
In a semiconductor layer, a first impurity region 8, a second impurity region 9, a third impurity region 10, a fourth impurity region 11, a fifth impurity region 12 and a sixth impurity region 13 are formed.例文帳に追加
半導体層には、第1不純物領域8、第2不純物領域9、第3不純物領域10、第4不純物領域11、第5不純物領域12および第6不純物領域13が形成されている。 - 特許庁
The widths of the first and second low concentration diffusion layers 104-2 and 104-3 which are operated as the field alleviating layer correspond to the widths L1 and L3 of the space of the first insulating film pattern, and correspond to the amount of gate overlap.例文帳に追加
電界緩和層として働く第1及び第2の低濃度拡散層104−2、104−3の幅は、第1の絶縁膜パターンのスペースの幅L1、L3にそれぞれ相当すると共に、ゲートオーバーラップ量に相当する。 - 特許庁
A metallized layer 10 is composed of a first metallized pattern 11 provided to the edge of the plate member of a frame member 5 and a second metallized pattern 12 provided to the outer edge 11a of the frame member of the first metallized pattern 11.例文帳に追加
メタライズ層10は、枠部材5の反板部材側の端部に設けられる第1のメタライズパターン11、ならびに第1のメタライズパターン11の反枠部材側の外縁部11aに設けられる第2のメタライズパターン12からなる。 - 特許庁
The rice transplanter includes a first transmission 50 to change speed of driving force of an engine 6 and transmit to a side line fertilizing pump 23 and a second transmission 70 to change speed of output of the side line fertilizing pump 23 and transmit to a deep layer fertilizing pump 24.例文帳に追加
エンジン6からの駆動力を変速して側条施肥ポンプ23に伝達する第1変速装置50、側条施肥ポンプ23の出力を変速して深層施肥ポンプ24に伝達する第2変速装置70を備えている。 - 特許庁
The electrode 12 of the first circuit board 11 is electrically connected to the electrode 14 of the second circuit board through the solder particle 22 sandwiched between these electrodes 12, 14 to break the surface oxide layer 22a.例文帳に追加
第1の回路基板11の電極12と第2の回路基板13の電極14は、これらの電極12,14の間に挟み込まれて表面の酸化膜22aが破られた半田粒子22によって電気的に接続される。 - 特許庁
The double layer glass panel 100 after molding the glazing gasket by the first applying gun 405, is horizontally placed on a second work table 30 by reversing by a reversing mechanism 60 so that the other surface of not molding the glazing gasket turns upward.例文帳に追加
第1塗布ガン405でグレージングガスケットを成形した後の複層ガラスパネル100をグレージングガスケットが成形されていない他方の面が上方を向くように反転機構60で反転して第2ワークテーブル30上に水平に載置する。 - 特許庁
A forming method of a ferroelectric capacitor used in an integrated circuit comprises steps of forming a lower electrode, a ferroelectric layer, and an upper electrode, and forming/defining an upper electrode by using a first mask and thereafter performing second annealing.例文帳に追加
集積回路に使用される強誘電性コンデンサを形成する方法は、下部電極、強誘電体層、上部電極を形成し、第一のマスクを用いて上部電極を画成した後第二のアニールを行う工程より成る。 - 特許庁
A second semiconductor stacked layer etching step S7-3 in the ridge waveguide part forming step S7 and a first semiconductor part etching step S9-3 in the semiconductor diffracting grating element forming step S9 are performed together at a time.例文帳に追加
リッジ導波路部形成工程S7における第2半導体積層エッチング工程S7−3と、半導体回折格子要素形成工程S9における第1半導体部エッチング工程S9−3とは、一括して行われる。 - 特許庁
Consequently, in the same layer of a multilayer wiring board, a first wiring pattern 100 interposed connectively between the power-supply terminals 110, 120 and a second wiring pattern 200 interposed connectively between the ground terminals 210, 220 can be so disposed in parallel with each other that they do not intersect each other.例文帳に追加
これにより、多層配線基板の同一層において、電源端子間を結ぶ第1配線パターン100と接地端子間を結ぶ第2配線パターン200とを交差しないように平行に設けることが可能となる。 - 特許庁
The electrically conductive layer has a plurality of conducting wires and a second hole part that at least partially overlaps the first hole part and through which the local part of the upper surface of the heat dissipation component is exposed to the outside.例文帳に追加
前記導電層は、複数の導線と、前記第一穴部の穴部と一部が重なってるかすべてが重なっている穴部によって前記放熱部品の上表面の局部を外部に漏出させる第二穴部と、を具備する。 - 特許庁
In this case, members, which are pinchingly arranged towards the outer periphery of a three-dimensional layer 3, are projectingly pasted by utilizing the spaces between the board 2 and the first elastic member 3a and between the first elastic member 3a and the second elastic member 3b.例文帳に追加
この際、ボード2と第1の弾性部材3aとの間、第1の弾性部材3aと第2の弾性部材3bとの間を利用して立体層3の外周方向に介装した部材を突出させながら貼着する。 - 特許庁
A first electrode 12a, a second electrode 12b, and a conductive portion 12c made of the first conductive layer constitute a connection terminal of an IC circuit and an inductor portion 15a provided to the semiconductor substrate, an input/output terminal of the IC circuit, and wiring.例文帳に追加
第一導電層からなる第一電極12a、第二電極12b、導電部12cは各々、半導体基板に設けたIC回路とインダクタ部15aの接続端子、IC回路の入出力端子、配線を構成する。 - 特許庁
CCD11 of the imaging device 2 includes a first pixel 38a and a second pixel 38b with symmetrical element structures and an LCS terminal 37 capable of independently applying voltage to an element separation layer 48 for separating respective pixels 38a, 38b.例文帳に追加
撮影装置2のCCD11は、素子構造が対称な第一画素38a、第二画素38bと、各画素38a、38b同士を分離する素子分離層48に独立した電圧印加を可能とするLCS端子37とを有する。 - 特許庁
The invention also has a circulation pump unit 21 which circulates water W among the first well section 1, the connection section 3, the second well section 2 and a methane hydrate layer G1 in a normal direction T1 or a reverse direction T2 through normal driving or reverse driving.例文帳に追加
また、正転又は逆転駆動することにより、第1井戸部1と連結部3と第2井戸部2とメタンハイドレート層G1の間で水Wを正逆方向T1、T2に循環させる循環ポンプユニット21を備える。 - 特許庁
The surface light emitting element 10 is provided with a transparent substrate 11; and a first electrode 12, a light emitting layer 13 which emits a light by implanting holes and electrons, and a second electrode 14 that are formed in order on the transparent substrate 11.例文帳に追加
面発光素子10は、透明基板11と、透明基板11上に順に形成された、第1の電極12、正孔および電子を注入することにより発光する発光層13および第2の電極14とを備える。 - 特許庁
The micro lens array 28 may be provided with: a first surface 28a formed into a plane and brought into contact with the crystal layer; and a plurality of convex lens cells 27 arranged in the width direction of the photosensitive medium on a second surface 28b opposite the first surface.例文帳に追加
マイクロレンズアレイ28は、液晶層に接する第1面28aが平面に形成され、第1面とは反対側の第2面28bに感光媒体の幅方向に配列された複数個の凸レンズセル27を備えることができる。 - 特許庁
In the display apparatus, at least a thin-film transistor, a planarization film and a plurality of light-emitting elements are formed on a substrate, wherein each light-emitting element has at least a light-emitting layer, a first electrode and a second electrode.例文帳に追加
表示装置において、基板上に少なくとも薄膜トランジスタ、平坦化膜及び複数の発光素子が形成されており、発光素子には、少なくとも発光層と、第1の電極及び第2の電極を有している。 - 特許庁
A flat parallel surface plate 5 is placed between the beam splitter 3 and the collimator 6 to correct the spherical aberration caused by the thickness difference of the transparent substrate for the first and second information recording layer 9a, 9b of an optical disk 9.例文帳に追加
光ディスク9の第一と第二の情報記録層9a、9bに対する透明基板の厚み差異により生じる球面収差を補正するための平行平板5をビームスプリッタ3とコリメータ6との間に配置する。 - 特許庁
A sealing resin of an integrated circuit covered with a film layer member is removed by a first step of cutting by means of a metal file or the like, a second step of cutting by means of laser irradiation, and a third step of cutting by means of compressed gas.例文帳に追加
層膜部材を被覆した集積回路の封止樹脂を、金属製やすり等による第1の掘削工程とレーザ照射による第2の掘削工程と圧搾気体による第3の掘削工程により除去する。 - 特許庁
The winding 5 takes a right-half region (between flanges 22, 26) of the tube 21 as a winding region and a flange 24 sections it into a first single-layer winding part 5a and a second multilayer winding part 5b.例文帳に追加
すなわち、巻線5は、筒部21の右半分(鍔22と26の間)の領域を巻回領域とし、さらに、鍔24によって第1巻線部に単層巻きされた部分5aと第2巻線部に多層巻きされた部分5bに分けられている。 - 特許庁
In this manner, the alumina shaped body on the first alumina sintered body 21 is sintered into a dense second alumina sintered body as a support layer 12 and the electrode paste 23 is sintered into the flat-plate electrode 13.例文帳に追加
こうすることにより、第1アルミナ焼結体21上のアルミナ成形体を焼成して支持体層12としての緻密な第2アルミナ焼結体とすると共に電極ペースト23を焼成して平板電極13とすることができる。 - 特許庁
The semiconductor device 14 comprises a semiconductor substrate 1, a switch element 2 provided on the substrate 1, a first wiring layer 5 formed above the substrate 1, phase-change memory chips 6, first heating elements 7, second heating elements 9, and the like.例文帳に追加
半導体装置14は、半導体基板1、基板1上に設けられたスイッチ素子2、基板1の上方に設けられた第1の配線層5、相変位メモリ素子6、第1の加熱素子7、第2の加熱素子9等を具備する。 - 特許庁
In this case, where d_1 is the diameter of pores 12a making up the first pore layer 15, at least one among the pores 12a constituting the second to the fourth pore layers 16-18 is formed with a diameter d_2 that is smaller than d_1.例文帳に追加
このとき、第1空孔層15をなす空孔12aの直径をd_1とした場合、第2〜第4空孔層16〜18をなす空孔12aのうち少なくとも1つを直径d_1よりも小さな直径d_2で形成する。 - 特許庁
An integrated circuit device is provided with the ferroelectric material positioned between a first metal electrode and a second metal electrode and a passivation layer containing a titanium doped aluminum oxide positioned on the first metal electrode.例文帳に追加
本発明による集積回路デバイスは、第1の金属電極と第2の金属電極との間に位置する強誘電体材料と、第1の金属電極上に位置する、チタンドープトアルミニウム酸化物を含むパッシベーション層とを備える。 - 特許庁
A surface layer of the active material particle containing a nickel oxide having a NaCl type crystal structure or second lithium nickel compound oxide and an element M not constituting a crystal structure of the first lithium nickel compound oxide.例文帳に追加
活物質粒子の表層部は、NaCl型結晶構造を有するニッケル酸化物もしくは第2リチウムニッケル複合酸化物を含み、更に、第1リチウムニッケル複合酸化物の結晶構造を構成しない元素Mを含む。 - 特許庁
The electrode catalyst layer for fuel cell comprises a catalyst aggregate consisting of catalyst particles, a polymer electrolyte and first carbon particles not carrying the catalyst particles, and second carbon particles carrying the catalyst particles.例文帳に追加
燃料電池用の電極触媒層は、触媒粒子と高分子電解質と当該触媒粒子を担持していない第1の炭素粒子とからなる触媒凝集体と、触媒粒子を担持していない第2の炭素粒子とを備える。 - 特許庁
A laminated layer structure is formed with the first metal electrode film, the dielectric film of dielectric constant 15 or more formed using the amorphous metal oxide of BiZnNb, and the second metal electrode film in order.例文帳に追加
ポリマー基盤複合体基材上に、順次、第1金属電極膜と、BiZnNb系非晶質金属酸化物を用いて成る、誘電率が15以上の誘電体膜と、第2金属電極膜を形成して積層構造物とする。 - 特許庁
A contact layer 3a made of titanium, a first electrode film 3 made of platinum, a piezoelectric film 4 made of PZT and a second electrode film 6 made of platinum, are formed on an ALTiC substrate 1 in order by a sputtering method.例文帳に追加
アルチック基板1の上にチタンよりなる密着層3aと、白金よりなる第1の電極膜3と、PZTよりなる圧電体膜4と、白金よりなる第2の電極膜6をスパッタ法により順番に形成する。 - 特許庁
Respective semiconductor layers from the second semiconductor laminate structure 20 to an n-type DBR layer 38 laminated on a substrate 10 constitute a resonator 50 for laser oscillation and the optical detection mechanism is incorporated in the resonator 50.例文帳に追加
基板10上に積層された第2半導体積層構造20からn型DBR層38までの各半導体層がレーザ発振用の共振器50を構成しており、光検出機構が共振器50に内蔵されている。 - 特許庁
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