「semiconductor processes」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a nonvolatile semiconductor storage device formable without increasing the number of manufacturing processes, and including a resistance element capable of providing a desired resistance value.例文帳に追加

製造工程数の増加を招くことなく形成可能であり、かつ、所望の抵抗値を得ることが可能な抵抗素子を備えた不揮発性半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To perform a thermal process by a thermal processor which thermally processes a semiconductor wafer without shortening the lifetime of a small number of carriers.例文帳に追加

本発明は半導体ウェハに熱処理を施すための熱処理装置に関し、少数キャリアのライフタイムを短縮することなく熱処理を行うことを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit that processes video/audio signals from a recording medium, and seamlessly reproduces both two-dimensional and three-dimensional video images.例文帳に追加

記録媒体からの映像・音声信号を処理して、平面視映像と立体視映像とのいずれをもシームレスに再生可能な半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

Consequently, since the notch is not exposed to the front surface of the semiconductor wafer, the faults caused by the notch can be prevented from being generated when executing miscellaneous processes.例文帳に追加

これにより、半導体ウェハ表面にノッチ部が露出しないため、各種プロセス実行時にノッチ部に起因する障害の発生を防止することを可能とした。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a production method therefor with which the processes of high productivity can be proved, controllability in gate length line width is improved and an effective gate length is extremely fine.例文帳に追加

生産性の良いプロセスで行え、ゲート長線幅の制御性が良く、実効ゲート長の極めて微細な半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a highly reliable semiconductor device which does not have any void in the space between adjacent capacitors and adjacent conductor wiring without increasing the number of photolithographic processes, and a method for manufacturing the device.例文帳に追加

フォト工程を増加させることなく、隣接キャパシタ，隣接導体配線の間隙にボイドのない高信頼性の半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a manufacturing method therefor which suppress an increase in the number of manufacturing processes resulting from adoption of a heat releasing structure (heat sink).例文帳に追加

放熱のための構成（ヒートシンク）を採用することによる製造工程数の増加を少なく抑えることができる、半導体装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor element manufactured at a low cost with high mass-productivity, in which the heat processes frequency with a parallel pn layer is reduced to prevent degradation in characteristics.例文帳に追加

並列ｐｎ層が受ける熱処理回数を削減することができて、その特性劣化を防止できると共に、安価に且つ量産性良く製造できる半導体素子を得る。 - 特許庁

To provide an analog semiconductor integrated circuit device capable of complicated signal processing, without inviting increase in the processes or increasing the manufacture work period.例文帳に追加

工程の増加や製造工期の増大を招くことなく複雑な信号処理が可能であるアナログ半導体集積回路装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device such as EPROM wherein gate oxide films of different film-thickness are formed with no increase in photolithography processes.例文帳に追加

フォトリソグラフィー工程数を増加させることなく、膜厚の異なるゲート酸化膜を形成できるＥＰＲＯＭ等の半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor memory device such that incidence of UL light on memory cell regions is suppressed in manufacturing processes and local variations in memory cell characteristics is suppressed.例文帳に追加

製造工程においてメモリセル領域へのＵＶ光の入射が抑えられ、メモリセル特性の局所的なバラツキが抑えられた不揮発性半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device with which the manufacturing conditions may be set easily and wires or the like may be formed with the ultra-fine processes without the resist mask pattern falling down during the process.例文帳に追加

製造条件の設定が容易で、工程中にレジストマスクパターンが倒れることもなく配線等を微細加工できる半導体装置の製造を提供する。 - 特許庁

To provide an organic semiconductor material which is excellent in carrier mobility and in stability in air, and can be produced in solution processes for printing, coating and the like, and to provide an organic transistor.例文帳に追加

キャリア移動度および空気中での安定性に優れ、印刷や塗布等の溶液プロセスで製造できる、有機半導体材料及び有機トランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device on which generation of dusts can be suppressed and the global flatness of an interlayer insulating film can be accomplished by a few number of processes.例文帳に追加

より少ない工程数でかつダストの発生を抑えて層間絶縁膜のグローバル平坦化を達成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of fabricating a semiconductor device with requested characteristics in high yield at low cost without making processes and devices complex.例文帳に追加

本発明は、工程、装置を複雑化することなく、要求される特性を有する半導体装置を低コストで、歩留まりよく作製できる技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a nonvolatile memory/analog IC mixed semiconductor device, which can be produced by a little processes and has high reliability, and a production method for the same.例文帳に追加

少ない工程数で製造することができ、かつ、高い信頼性を有する不揮発性メモリ・アナログＩＣ混載型の半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device achieved in the reduction of the number of manufacturing processes when an enhancement-type FET and a depression-type FET are integrated.例文帳に追加

エンハンスメント型ＦＥＴとディプレッション型ＦＥＴとを集積する場合に製造工程数の削減を実現できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a compact semiconductor device with an insulation board positioned on a top plate of a cooler without increasing the number of processes or manufacturing cost, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

工程数や製造コストを増やすことなく絶縁基板を冷却器の天板に位置決めしたコンパクトな半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device including an N-type MOS transistor for ESD protection having a sufficient ESD protecting function without an increase in processes and without an increase in occupation area.例文帳に追加

工程の増加や占有面積の増加もなく、十分なＥＳＤ保護機能を持たせたＥＳＤ保護用のＮ型のＭＯＳトランジスタを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To enable a structure which is required for electrically isolating the imperfect insulation region of a gate to be lessened in exclusive area and to lessen semiconductor device manufacturing processes.例文帳に追加

ゲートの絶縁不良領域を電気的に分離する上で必要となる構造物の占有面積を小さくし、製造工程における工程増加を少なくする。 - 特許庁

To provide a polishing pad and a polishing method for giving scratchless polishing surface without increase in the number of processes in the chemical and magnetic polishing process of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の化学機械研磨において、工程数を増加させることなく、スクラッチのない研磨面を与える研磨パッド及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device capable of decreasing the number of processes required for forming wire layers including a Dual Damascene structure so as to reduce the cost.例文帳に追加

デュアルダマシン構造を含む配線において、配線に必要な工程数の削減ができ、コストの低減ができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The composition for the formation of an antireflection film contains a polymer having a trialkylsilyl structure or a trialkoxysilyl structure and a crosslinking agent, and is used for lithographic processes for the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

トリアルキルシリル構造又はトリアルコキシシリル構造を有するポリマー、及び架橋剤を含む半導体装置製造のリソグラフィープロセスに用いる反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

To suppress wasteful power consumption, in a semiconductor memory which has simple manufacturing processes, and of small occupancy area and large storage capacity can be realized.例文帳に追加

簡易な製造工程を有するとともに小占有面積でかつ大記憶容量を実現することの可能な半導体記憶装置において、無用な消費電力を抑制する。 - 特許庁

To prevent characteristics in a non-volatile semiconductor memory device from being deteriorated by an electromagnetic wave incident on an element isolation area in a plasma process out of manufacturing processes.例文帳に追加

製造工程中のプラズマ工程において、素子分離領域に入射した電磁波が不揮発性半導体記憶装置の特性を劣化させるのを防止する。 - 特許庁

To cut down the number of processes in a manufacturing method of a semiconductor device wherein after forming the source and the drain of MIS transistor its gate electrode is formed in a self-aligning way.例文帳に追加

ＭＩＳトランジスタのソース及びドレインを形成した後にセルフアラインでゲート電極を形成する半導体装置の製造方法において、工程数の削減を図る。 - 特許庁

A thin film transistor constituted of the semiconductor film having a crystallinity is manufactured more simply and easily than ever and in a few processes.例文帳に追加

本発明により、従来よりも簡易的で且つ数少ない工程で、結晶性を有する半導体膜で構成される薄膜トランジスタを作製することが可能である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a first MOS transistor and a second MOS transistor which have superior characteristics are manufactured while manufacturing processes are simplified.例文帳に追加

製造工程を簡略化しつつ、特性の優れた第１のＭＯＳトランジスタと第２のＭＯＳトランジスタとを製造する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device provided with a fuse and a capacitor while minimizing photographic and etching processes provided with the fuse and a MIM capacitor and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

ヒューズとＭＩＭキャパシタを備え、写真及びエッチング工程を最小化しながらヒューズとキャパシタを備える半導体素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide the metal wiring formation method of a semiconductor device, for performing oxidization processes for forming a metal deposition preventing film, in a closed space that is maintained at atmospheric pressure of lower.例文帳に追加

大気圧以下に保たれる密閉空間内で金属蒸着防止膜形成のための酸化工程を行なう半導体素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor laser array which can be reduced in size by eliminating complicated processes and, at the same time, can emit laser light with a high output.例文帳に追加

本発明は、特に、煩雑な工程を無くし小型化をはかると共に、高出力でレーザ光が出射可能な窒化物半導体レーザアレイを提供することにある。 - 特許庁

To provide a III-nitride semiconductor laser element and the manufacturing method therefor, where it has superior light-emitting characteristic and it is manufactured without processes requiring a high assembling accuracy.例文帳に追加

高度な組立精度が要求される工程を有することなく、優れた発光特性を具備するIII族窒化物半導体レーザ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that has less number of processes such as film formation and etching, can control each process easily, and reliably and electrically join members.例文帳に追加

成膜、エッチング等の工程数が少なく、各工程のコントロールが容易で、部材間の電気的接合が確実な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device capable of manufacturing two or more kinds of fuse elements different in lamination structure and suppressing the increase in photo lithography processes.例文帳に追加

積層構造の異なる複数種のヒューズ素子を、フォトリソグラフィ工程の増加を抑制して製造することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a power factor compensation circuit of an inverter system which is simple in circuit configuration and allows semiconductor manufacturing processes to be simplified and manufacturing cost to be reduced, and also provide its method.例文帳に追加

回路構成が簡単で、半導体製造工程を簡略化して製造費用を低減し得る、インバータシステムの力率補償回路及びその方法をを提供する。 - 特許庁

A plurality of bays (BAY 1 to 4) as moving areas between wafer processes are arranged in a clean room CR, and a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses Mn1, Mn2, Mn3, etc., (any of n=1 to 4) are arranged.例文帳に追加

クリーンルームＣＲ内にウェハ工程間移動エリアである複数のベイ（ＢＡＹ１〜４）が配設され、複数の半導体製造装置Ｍｎ１，Ｍｎ２，Ｍｎ３…（ｎ＝１〜４いずれか）が並んでいる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor device that can increase a growing rate of an epitaxial layer without greatly increasing the number of processes.例文帳に追加

工程数を大幅に増加させることなしに、エピタキシャル層の成長レートを早くすることができる超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can have a passivation film prevented from cracking without causing problems of an increase in the number of manufacturing processes, an increase in thickness, etc.例文帳に追加

製造工程数の増加や厚さの増大などの問題を生じることなく、パッシベーション膜にクラックが生じるのを防止することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of applying high voltages of both positive and negative polarities required for driving memory elements to the memory elements after completion of manufacturing processes.例文帳に追加

製造工程完了後にメモリ素子の駆動に必要な正負両極性の高電圧をメモリ素子に印加することを可能とした半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁

To avoid degradation especially in sealing function with less number of manufacturing processes, in a mounting technology for semiconductor chips, comprising an LSI, etc., which is called COF(chip on film).例文帳に追加

ＣＯＦ(Chip On Film)と呼ばれるＬＳＩ等からなる半導体チップの実装技術において、特に封止機能が損なわれることがなく、また製造工程数を少なくする。 - 特許庁

To provide a packaging structure capable of reducing the number of manufacturing processes and costs without requiring a solder flow process, and excellent in connection reliability of a semiconductor element.例文帳に追加

はんだリフロー工程を必要とせず、製造工程数およびコストの削減が可能であり、かつ半導体素子の接続信頼性にすぐれた実装構造を提供する。 - 特許庁

To provide a diffraction grating formation method, diffraction grating and optical semiconductor element, capable of manufacturing diffraction gratings having different heights, by a small number of processes.例文帳に追加

本発明は、工程数の少ないプロセスによって、高さの異なる回折格子を作製できる、回折格子の形成方法、回折格子及び光半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can reduce the number of manufacturing processes by restraining re-diffusion of impurities from a source/drain region, and simplifying a process.例文帳に追加

ソース／ドレイン領域からの不純物の再拡散を抑制し、かつ、プロセスを簡略化して製造工程数を削減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask, by which dimensional accuracy on a final pattern after multiple exposure processes can be improved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

多重露光後の最終パターン上での寸法精度を改善することが可能なフォトマスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which an inductance value is improved by improving the efficiency of an inductor provided with a solid spiral coil without requiring specific processes.例文帳に追加

特別な工程を必要とせずに、立体的な螺旋形状のコイルを備えるインダクタの高効率化を図り、インダクタンス値を向上させた半導体装置の提供。 - 特許庁