「surface element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes forming a surface structure of a semiconductor element on a surface layer of a first main surface of a semiconductor substrate, forming a back electrode on a surface layer of a second main surface of the semiconductor substrate, and fixing a sheet having conductivity and elasticity on the back electrode layer.例文帳に追加

半導体基板の第１の主面の表面層に半導体素子の表面構造を形成し、半導体基板の第２の主面の表面層に、裏面電極を形成し、裏面電極層上に、導電性及び弾性を備えたシートを固着させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing of a chip-type electronic component that eliminates the need for work of separating an element body from a medium, capable of reliably forming a plating film on a surface of a base electrode layer formed on an end surface of the element body, and in which a surface of the element body could be hardly damaged.例文帳に追加

素子本体とメディアとを分離する作業が不要であり、素子本体の端面に形成してある下地電極層の表面にメッキ膜を確実に形成することが可能であり、しかも素子本体の表面にダメージを与えるおそれが少ないチップ型電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of filtering a polymer latex comprises pouring the polymer latex in a direction along the surface of a filter element in filtering the polymer latex, and performing filtering under the condition of flow of the polymer latex such that the polymer latex can wash the surface of the filter element by moving trapped matter remaining on the surface of the filter element.例文帳に追加

重合体ラテックスを濾過するに際し、重合体ラテックスを濾材の表面に沿った方向に流し、且つ重合体ラテックスが濾材の表面に残留する捕捉物を移動させて濾材の表面を洗浄できる重合体ラテックスの流量の条件下で濾過する重合体ラテックスの濾過方法。 - 特許庁

An HTO film 4a is formed isotropically along an internal surface of the element separating groove 3, and an HTO film 4a formed at a center portion of a bottom surface 3a of the element separating groove 3 is removed in an RIE method by anisotropic etching to leave the HTO film 4a along a side wall surface 3b of the element separating groove 3.例文帳に追加

素子分離溝３の内面に沿ってＨＴＯ膜４ａを等方的に形成し、素子分離溝３の底面３ａの中央部に成膜されたＨＴＯ膜４ａをＲＩＥ法により異方性エッチングして除去し、ＨＴＯ膜４ａを素子分離溝３の側壁面３ｂに沿って残留させる。 - 特許庁

In the manufacturing method for eliminating one portion of a semiconductor element surface in a line, a wire electrode 102 is arranged while a discharge gap is formed at an area to the surface of a semiconductor element 101, and a voltage pulse is intermittently applied to the wire electrode 102, thus eliminating one portion of the semiconductor element surface in a line.例文帳に追加

半導体素子表面の一部をライン状に除去する製造方法であって、半導体素子１０１の表面と放電隙間を形成した状態でワイヤ電極１０２を配し、ワイヤ電極１０２に間欠的に電圧パルスを印加することで、半導体素子表面の一部をライン状に除去する。 - 特許庁

To provide a method of improving positional accuracy of an electrode and an optical waveguide and directly mounting/manufacturing a surface emitting optical element on an optical path conversion element highly accurately by passive mounting, in a multichannel optical path conversion element comprising a plurality of optical waveguides and a mirror and converting the direction of an optical path made incident from the surface of the element.例文帳に追加

複数の光導波路とミラーによって構成され、素子表面から入射した光路の方向を変換する多チャンネルの光路変換素子において、電極と光導波路の位置精度を高め、高精度にパッシブ実装で面発光素子を光路変換素子へ直接実装製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a diffractive optical element which permits the shape correction of a metal mold based on the measured shape of a base surface in the method for manufacturing the diffractive optical element formed with the diffraction gratings defined by a phase function on a continuous surface, i.e. a plane, spherical surface or aspherical surface, as a base surface.例文帳に追加

連続面である平面、球面あるいは非球面をベース面として、そのベース面上に、位相関数により定義される回折格子が形成される回折光学素子の製造方法において、ベース面の測定形状に基づいて金型の形状修正が可能な回折光学素子の製造方法、およびそれにより製造される回折光学素子を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method of the photoelectric converting element includes a stage of forming the silicon nitride film on one principal surface of the silicon substrate, the manufacturing method of the photoelectric converting element being characterized in that the silicon substrate is a (p) type on the principal surface side and has the principal surface subjected to a surface treatment using plasma produced using raw material gas containing nitrogen gas before the silicon nitride film is formed.例文帳に追加

本発明の光電変換素子の製造方法は、シリコン基板の一主面上に窒化シリコン膜を形成する工程を備え、前記シリコン基板は、前記主面側がｐ型であり、前記窒化シリコン膜を形成する前に、窒素ガスを含む原料ガスを用いて形成されるプラズマによって前記主面の表面処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a perovskite oxide layer, a method for manufacturing a ferroelectric memory and a method for manufacturing a surface wave elastic wave element, wherein an interface with an electrode layer is excellent.例文帳に追加

電極層との界面が良好なペロブスカイト型酸化物層の製造方法、強誘電体メモリの製造方法および表面波弾性波素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a diffraction optical element capable of uniformly adjusting light intensities by positions on a surface to be irradiated, an illumination optical system, an exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a method of designing the diffraction optical element.例文帳に追加

被照射面上の位置毎の光強度を均一に調整することができる回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing an optical sheet having a functional layer on at least one surface of a substrate and having a diffusion element on the outermost surface of the functional layer and/or in the layer, and the method for manufacturing the optical sheet to be used for the surface of a display element for controlling the manufacturing conditions to have the relationship of the following expression (I) are provided.例文帳に追加

基材の少なくとも一方の面に機能層を有し、該機能層の最表面及び／又は内部に拡散要素を有する光学シートの製造方法であって、下記式（Ｉ）の関係を有するように製造条件を制御することを特徴とする表示素子表面に用いる光学シートの製造方法である。 - 特許庁

To provide a module with a built-in electric element such as semiconductor chip or surface acoustic wave element which is provided with a mechanical strength and which can be thinned, and its manufacturing method.例文帳に追加

機械的強度を備えながら薄型化することが可能な、半導体チップや弾性表面波素子などの電気素子を内蔵したモジュール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises a film forming step of forming a reflection preventive film on the surface of an optical glass element before annealing and the temperature condition of the film forming step is set at the annealing point of the optical glass element.例文帳に追加

アニール前の光学ガラス素子の表面に反射防止膜を成膜する成膜ステップを含み、成膜ステップの温度条件を光学ガラス素子の徐冷点とすることを特徴とする。 - 特許庁

In a method for manufacturing semiconductor devices, an element isolation insulating film 30 is formed in an element isolation recessed section 22a through thermal oxidation, after the recessed section 22a has been formed on the surface of a substrate 22 through wet etching.例文帳に追加

基板２２の上部に、ウエットエッチングにより素子分離用凹部２２ａを予め形成し、該素子分離用凹部２２ａに、熱酸化により素子分離用絶縁膜３０を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing liquid crystal display element, which can enhance design flexibility without damaging performance of a light source with respect to a liquid crystal display element arranged on a front surface of the light source.例文帳に追加

光源の前面に配置される液晶表示素子において、光源の性能を損なわず、かつデザイン性を高くすることが可能な、液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nitride semiconductor light-emitting element capable of forming a mechanically-stable wiring electrode with certainty from a light-emitting element surface from which a growth substrate for deposition is peeled out.例文帳に追加

成膜用の成長基板を剥離した発光素子面から機械的に安定した配線電極を確実に形成できる窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To implant a semiconductor package element into a human body or to provide a flexible element and a flexible pressure sensor which are mounted on an arbitrary curved surface, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

半導体パッケージ素子を人体に移植したり、若しくは任意の曲面に取り付けられるための柔軟素子、柔軟圧力センサ、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a highly reliable thin film magnetic head having a magnetic head element part with small working step and having no foreign matter such as abrasive grains and polishing debris on the surface of the element part.例文帳に追加

磁気ヘッド素子部の加工段差が小さくかつ素子部の表面に砥粒、研磨屑などの異物を含まない信頼性の高い薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical element by which the occurrence of the defect of an optical surface of a glass-made optical element due to cleaning with water or a water-based cleaning liquid is suppressed.例文帳に追加

光学素子製造方法において、ガラス製の光学素子の水また水系洗浄液を用いた洗浄による光学面の欠陥の発生を抑制することができるようにする。 - 特許庁

To provide a lens with built-in hologram element capable of reducing the unevenness of the adhesive on the joint surface on the assembly formation, and to provide a manufacturing method of the lens with built-in hologram element.例文帳に追加

本発明の課題は、アセンブリ形成時に接合面での接着剤のムラの発生を低減するホログラム素子内蔵レンズ及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To improve the transfer efficiency of element chips on a temporary substrate in a method for manufacturing a semiconductor device, by transferring the element chips formed on the temporary substrate to the surface of a flexible substrate.例文帳に追加

暫定基板に形成した素子チップをフレキシブル基板上に転写して半導体装置を製造する方法において、暫定基板上の素子チップの転写効率を向上させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method or the like of an optical element by which the optical element can be manufactured so that optical characteristics of a liquid crystal layer are not deteriorated and a surface protection function of the liquid crystal layer is provided.例文帳に追加

液晶層の光学特性を損なうことなく且つ液晶層の表面保護機能を具備するように製造することが可能な光学素子の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a die for molding an optical element having an excellent productivity and capable of obtaining a highly accurate molding surface shape at a low cost and to provide its manufacturing method and the optical element.例文帳に追加

生産性に優れ、低コストで高精度な成形面形状を得ることができる光学素子成形用金型及びその製造方法並びに光学素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of detecting damage to an optical element that can detect damage to an end surface or the inside of an optical element in a solid-state laser oscillator by using scattered light.例文帳に追加

散乱光を用いて固体レーザ発振器内の光学素子の端面もしくは内部に生じたダメージを検知することが可能な光学素子のダメージ検知方法を提供する。 - 特許庁

The first element isolation insulating film 31 is deposited over the entire surface by low-pressure CVD method, with such a thickness that an element isolation groove 13 is not embedded evenly and that a concave part 31v is formed.例文帳に追加

第１素子分離絶縁膜３１は、素子分離溝１３が平坦に埋まらず、窪み部３１ｖが形成されるような厚さで、減圧ＣＶＤ法によって全面堆積される。 - 特許庁

To provide a reflection substrate photosensitive element capable of securing adhesiveness with a substrate surface and improving a panel yield, and also to provide a manufacturing method of a reflection substrate plate using the reflection substrate photosensitive element.例文帳に追加

基板面との密着性を確保し、パネル歩留りを向上することができる反射下地感光性エレメント及びこれを用いた反射下地板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CMOS of a semiconductor element in which characteristics, a yield and reliability of the element are improved by forming a nitride film on a surface of a gate oxide film and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ゲート酸化膜表面に窒化膜を形成することで素子の特性、収率及び信頼性を向上させる半導体素子のＣＭＯＳ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for suppressing surface indentation flaw in an element tube (an element tube for a seamless steel tube) applied with correction by a straightener after made by hot tube making, and thereafter provided for cold working.例文帳に追加

熱間製管された後、ストレートナーによる矯正が施され、その後冷間加工に供される素管（継目無鋼管用素管）における外面押込み疵の抑制方法を提供する。 - 特許庁

To prevent cut dust having an adhesive property after dicing from residing on the surface of a semiconductor element in a wafer dicing method which mounts a wafer on a dicing tape and cuts out the semiconductor element.例文帳に追加

ウエハをダイシングテープにマウントし、半導体素子を切り出すウエハのダイシング方法において、ダイシング後に粘着性を有する切削屑が素子の表面に残留するのを防ぐ。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING THIN FERROELECTRIC FILM, FERROELECTRIC MEMORY DEVICE, FERROELECTRIC ELEMENT, INK-JET RECORDING HEAD, INK-JET PRINTER, SURFACE ACOUSTIC WAVE ELEMENT, FREQUENCY FILTER, OSCILLATOR, ELECTRONIC CIRCUIT, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

強誘電体薄膜の製造方法、強誘電体メモリ素子、圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド、インクジェットプリンター、表面弾性波素子、周波数フィルタ、発振器、電子回路、及び電子機器 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes a step of adhering a plurality of the semiconductor elements 2 divided into individual chip shapes with an adhering resin 5 so that the front surface of the substrate 1 where an element structure 21 as the semiconductor element 2 is made may meet to the front surface of the substrate 1.例文帳に追加

個々のチップ状に分割された半導体素子２を、複数個、その半導体素子２としての素子構造２１が作り込まれた表面が基板１の表面に対して対面するように貼合樹脂５で貼着する。 - 特許庁

To provide a reflective display that leaves a layer having a thickness smaller than 1,000 Angstroms on an optical element, and is manufactured using the method of flattening the surface of a substrate where an optical element is deposited on the surface.例文帳に追加

光学エレメント上に１０００オングストローム未満の厚さを有する層を残すことのできる、表面上に光学エレメントを堆積させた基板の面を平坦化する方法を用いて製造された反射型ディスプレイを提供すること。 - 特許庁

An MMIC chip 22, whose element-forming surface has a high-frequency transistor and a second wiring pattern 21, is secured on the substrate 11 using MBB method, with the element-forming surface and the principal plane of the substrate 11 made to face each other.例文帳に追加

基板１１上には、素子形成面に高周波トランジスタ及び第２の配線パターン２１が形成されたＭＭＩＣチップ２２がその素子形成面と基板１１の主面とを対向させ、ＭＢＢ法を用いて固着されている。 - 特許庁

The reforming method comprises irradiating the surface of a diamond 1, arranged in an oxygen element-containing atmosphere or in vacuum or in an inert element-containing atmosphere, with a high energy light beam to oxidize the surface of the diamond 1.例文帳に追加

酸素元素含有雰囲気中若しくは真空中、若しくは不活性元素含有雰囲気中に配置したダイヤモンド１の表面に高エネルギー光線７を照射することにより、ダイヤモンド１の表面を酸化して改質する。 - 特許庁

To provide a nanocarbon material composite with a silicon oxide particle as a nucleus, having high resistance properties, a large surface area and excellent process aptitude, a method for producing the same, and an electron emission element and an electronic device, such as a surface-emitting element, using the same.例文帳に追加

酸化シリコン粒子を核に持ち、高耐性で表面積が広く、プロセス適性に優れたナノ炭素材料複合体とその製造方法並びにそれを用いた電子放出素子と面発光素子等の電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a Josephson element, which grows an oxide superconducting film for lower electrode orientated in the C-axis in the direction almost vertical to the surface of a substrate without generating recesses and projections in and on the surface of the substrate, and the structure of the element.例文帳に追加

基板表面に略垂直方向にｃ軸が配向した下部電極用酸化物超電導膜を、表面に凹凸を発生させずに成長させたジョセフソン素子の製造方法及びその構造を提供する。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave element excellent in reliability by bringing it close to desired frequency characteristics, and consequently, by improving manufacturing efficiency in a manufacturing process of the surface acoustic wave element, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

弾性表面波素子の製造過程において、所望の周波数特性に近づけることができ、その結果、製造効率を高くすることができ、信頼性に優れた弾性表面波素子およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

If the plane heating element 1 is used in a manufacturing method of a seat integrally molding the plane heating element with the surface skin by foaming and hardening the urethane concentrate, the plane heating element can be easily heat welded to the surface skin, so that a seat without detriment of a good sealing comfort can be manufactured.例文帳に追加

この面状発熱体１を用いると、ウレタン原液を発泡硬化させて面状発熱体を表皮と一体成形する座席の製造方法において、面状発熱体を容易に表皮に熱溶着させることが可能になり、着座感を損なうことのない座席を製造できる。 - 特許庁

The method of manufacturing the ceramic multilayer electronic component 1 includes the steps of: barrelling the element body made principally of ceramic to remove a surface layer of the element body; and forming a terminal electrode on an end surface of the element body using a plating liquid of ≥ph 5.例文帳に追加

本実施形態に係るセラミック積層電子部品１の製造方法は、主としてセラミックスからなる素体をバレル研磨して、素体の表層を除去する工程と、素体の端面に、ｐＨ５以上のめっき液を用いるめっきにより端子電極を形成する工程と、を有する。 - 特許庁

The filler 36 is then removed until an upper surface of a partition film 21 on the recording element 20A (when the recording element has no partition film 21, an upper surface of the recording element 20A) is exposed by using a dry etching method by which an etching rate of the filler 36 is higher than an etching rate of the first coating material 42.例文帳に追加

次に充填材３６のエッチングレートが第１被覆材４２のエッチングレートよりも高いドライエッチング法により記録要素２０Ａの上の隔膜２１の上面（隔膜２１がない場合は記録要素２０Ａの上面）が露出するまで充填材３６を除去する。 - 特許庁

In the method of measuring electromechanical characteristics of a piezoelectric element 1, the piezoelectric element 1 is clamped by not less than two measurement terminals 2a, 2b in contact with not less than two electrodes arranged on the same plane of the piezoelectric element 1, and a support member 3 in contact with a surface opposite to the surface on which the electrodes are arranged.例文帳に追加

圧電素子１の同一平面上に配設された２以上の電極に接触する２以上の測定端子２ａ・２ｂと、前記電極の配設面と対向する面に接触する支持部材３と、によって圧電素子１を挟持する圧電素子１の電気機械特性測定方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the photoelectric conversion device 1 comprises processes of: joining silicon bases 4a to the element base 3, providing the photoelectric conversion elements 2 onto the element base 3; and forming the lenses 4 by etching the silicon bases 4a on the surface of the element base 3 opposite to its other surface where the photoelectric conversion elements 2 are provided.例文帳に追加

シリコン基体４ａと素子基体３とを接合する工程と、素子基体３に光電変換素子２を設ける工程と、シリコン基体４ａを光電変換素子２とは反対の面側においてエッチング加工し、レンズ４を形成する工程とを有する、光電変換装置の製造方法。 - 特許庁

The method of growing semiconductor crystal of group II-V element on a substrate is comprised of following steps: (a) a step for preprocessing the substrate; (b) a step for growing a semiconductor crystal of group II-VI element on the surface of the substrate on a polar surface of group II element.例文帳に追加

基板上にＩＩ−ＶＩ族の半導体結晶を成長させる方法であって、（ａ）基板表面に所定の前処理を行う工程と、（ｂ）前記基板の表面上にＩＩ−ＶＩ族の半導体結晶をＩＩ族原子の極性面で成長する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method of taking out an optical element (molded article) surely and easily by eliminating adherence between an inner surface of a molding member and a contact (adherent) surface of the optical element by applying vibration to a sucking hand when the molded optical element (the molded article) is taken out from a forming mold by attraction.例文帳に追加

成形された光学素子（成形品）を吸着させて成形用型から取り出す際に、吸着ハンドに振動を与えることにより、型部材の内側面と光学素子との接触（密着）面との引掛かりを無くし、前記光学素子（成形品）を、確実・容易に取り出す方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a surface light-emitting laser for immediately radiating heat generated in an active layer outside and stabilizing the operation of an element.例文帳に追加

活性層で発生した熱を直ちに外部に放熱させ、素子の動作を安定化した面発光レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁