「surface element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a microstructure in which a new microstructure having a frame shape and a semiconductor element for controlling the microstructure are integrally formed on a same insulative surface by a same process, and a manufacturing method thereof, by which cost reduction can be achieved.例文帳に追加

枠形状を有する新たな微小構造体と、当該微小構造体を制御する半導体素子とを同一絶縁表面上に同一工程で一体形成することで、より低コスト化を図ることが可能な微小構造体ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for operating the separation membrane module mounted with the spiral membrane element formed by winding the bag-like separation membrane together with the raw water spacer around the outer peripheral surface of a filtrate collecting pipe and which periodically or irregularly changes the flow direction of the raw water of the separation membrane module.例文帳に追加

透過水集水管の外周面に袋状の分離膜を原水スペーサーと共に巻回してなるスパイラル型膜エレメントを装着する分離膜モジュールの運転方法であって、該分離膜モジュールの原水の流れ方向を定期又は不定期に反対方向へ変更する。 - 特許庁

To provide a luminescent element, which is excellent in luminescent brightness and luminous efficiency, durability, has low manufacturing cost, can be made in a large screen, and so can be effectively utilized as surface light source such as full-color display, backlight, illumination light source or the like, and a light source array or the like such as a printer, and its manufacturing method.例文帳に追加

発光輝度、発光効率及び耐久性に優れ、製造コストが低く、且つ大面積化が可能であるためにフルカラーディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源、プリンター等の光源アレイ等に有効に利用できる発光素子、並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

The organic electroluminescence element and its manufacturing method are such that an inorganic pixel defining film having an opening exposing at least one part in the upper part of a first electrode is formed, and the cross section shape of the upper surface of the inorganic pixel defining film is formed in a curved shape having no discontinuous point.例文帳に追加

有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法は、第１の電極の上部の少なくとも一部を露出させる開口部を具備する無機画素定義膜を形成し、無機画素定義膜の上面の断面形態が不連続点のない曲線形態を成すことを特徴とする。 - 特許庁

The light-emitting display element protective material includes porous silica particles where a specific surface area measured by a nitrogen absorption method is 300-1,500 m^2/g and an average pore diameter measured by the method is 0.5-4.0 nm and an average particle size is 10-100 nm, and a binder.例文帳に追加

窒素吸着法により測定した比表面積が３００ｍ^2／ｇ以上１５００ｍ^2／ｇ以下であり、前記方法により測定した平均細孔径が０．５ｎｍ以上４．０ｎｍ以下であり、かつ平均粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である多孔質シリカ粒子と、バインダーとを含む発光表示素子保護材料である。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrode for an electrochemical element capable of electrochemically storing and releasing lithium ion includes a pretreatment method of decompressing an atmosphere in which lithium 31A and the electrode are arranged, generating lithium vapor by irradiating electron beams 33 on the surface of the lithium 31A, and granting lithium to the electrode with the use of the lithium vapor.例文帳に追加

本発明によるリチウムイオンを電気化学的に吸蔵・放出可能な電気化学素子用の電極の製造方法は、リチウム３１Ａと電極とが配置された雰囲気を減圧し、リチウム３１Ａの表面に電子ビーム３３を照射することによってリチウム蒸気を発生させ、リチウム蒸気を用いて電極にリチウムを付与する前処理方法を含む。 - 特許庁

A method for forming the barrier film by subjecting the Si surface to passivation by the atom-like hydrogen can perform a barrier effect by an extremely thin film for enabling space-saving, as compared with a method for forming the barrier film according to a conventional metal film or the like, and can provide an effect of reducing cost in association with no use of a metal element.例文帳に追加

本発明のＳｉ表面を原子状水素により不動態化することによるバリア膜の形成法は，従来の金属膜などによるバリア膜の形成法と比較して，省スペース化を可能にする極めて薄い膜によりバリア効果を発揮でき，且つ金属元素を使用しないことに伴うコストの低減化をもたらす効果がある。 - 特許庁

The method for growing the group III nitride crystal comprises steps of: preparing a first group III nitride crystal 10 having an alkali metal element concentration of <1.0×10^18 cm^-3; and growing a second group III nitride crystal 20 on a major surface 10 m of the first group III nitride crystal 10 by the HVPE method at an atmospheric temperature higher than 1,100°C.例文帳に追加

アルカリ金属元素の濃度が１．０×１０^18ｃｍ^-3未満の第１のＩＩＩ族窒化物結晶１０を準備する工程と、ＨＶＰＥ法により、１１００℃より高い雰囲気温度で、第１のＩＩＩ族窒結晶１０の主面１０ｍ上に、第２のＩＩＩ族窒化物結晶２０を成長させる工程と、を備える。 - 特許庁

In a method for manufacturing a solar cell module having such a structure, the solar cell module is formed by a roll lamination method, that is, by thermally press-fitting the uppermost surface member, the lowermost rear member and the sealing material to the photovoltaic element aggregate.例文帳に追加

周縁部に角部を有していない光起電力素子集合体が最表面部材と最裏面部材の間に封止材を介してなる太陽電池モジュールの製造方法においては、太陽電池モジュールがロールラミネーション方式により、光起電力素子に最表面部材、最裏面部材及び封止材を熱圧着することで太陽電池モジュールを形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, along with a manufacturing method and assembling method thereof, capable of preventing the breakage of a semiconductor chip element surface, especially that of a low dielectric constant insulating film arranged directly above a solder material, by minimizing a thermal stress from reflow of the solder material used for connecting a semiconductor chip to a substrate.例文帳に追加

半導体チップと基板との接続に用いられる半田材料のリフローによる熱応力を最小限にし、半導体チップ素子面の破壊、特に半田材料の直上に配置された低誘電率絶縁膜の破壊を防止することができる半導体装置、半導体装置の製造方法及び組立方法を提供する。 - 特許庁

To provide with a relatively simple process a semiconductor device that ensures airtightness of a semiconductor chip, avoids the adhesion of a resin to an element formation surface, and avoids the increase in manufacturing cost, and its manufacturing method in a junction reinforcement method that can be applied to the semiconductor device for handling a high-frequency signal ranging from a microwave band to a millimeter wave band.例文帳に追加

マイクロ波帯からミリ波帯までの高周波信号を取り扱う半導体装置に適用することができる接合部補強方法であって、半導体チップの気密性が確保され、素子形成面への樹脂の付着を回避でき、かつ比較的簡単な工程で製造コストの上昇を回避できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a copper metal wiring of a semiconductor element which can improve burying of copper, by maximizing the suction site of chemical reinforcing agent on the surface of a diffusion barrier layer by carrying out a plasma treatment after chemical reinforcing agent deposition when a copper metal wiring is formed by using a CECVD method.例文帳に追加

ＣＥＣＶＤ法を用いて銅金属配線を形成する場合、化学的強化剤蒸着後プラズマ処理を行うことにより、拡散障壁層の表面に化学的強化剤の吸着サイトを極大化させ、これにより銅の埋込み特性を向上させることができる半導体素子の銅金属配線形成方法を提供すること。 - 特許庁

To efficiency manufacture an epitaxial ferroelectric thin film element provided with excellent characteristics by solving such problems as film surface roughness in the case of using a vapor epitaxial growth method, restriction of film thickness formed each time in the case of using a sol-gel method, complexity of a process in forming a laminated structure film consisting of layers with different refractive indexes and so on.例文帳に追加

気相エピタキシャル成長法による場合の膜表面粗さの問題、ゾルゲル法による場合の一回当たりの膜形成厚みの制限、異なる屈折率の層からなる積層構造膜を形成する際の工程の複雑化などの問題を解決し、良好な特性を備えたエピタキシャル強誘電体薄膜素子を効率よく製造する。 - 特許庁

In the working method of a semiconductor chip, a film-like adhesive of the semiconductor chip is heated before die-bonding the semiconductor chip in a working method of the semiconductor chip forming a semiconductor element on the surface and adhering die bonding film-like adhesive on the rear face.例文帳に追加

表面に半導体素子が形成され，裏面にダイボンディング用のフィルム状接着剤が接着された半導体ウェハをダイシングして形成された半導体チップの加工方法であって，半導体チップをダイボンディングする前に，半導体チップのフィルム状接着剤を加熱処理することを特徴とする，半導体チップの加工方法が提供される。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a silicon single crystal wafer that simply and effectively reduces minute waviness in a nanotopography region existing on the surface of a general (mirror surface-polishing) silicon wafer, reduces the manifestation of film thickness irregularity of a thin film by the CMP polishing treatment, and has improved nanotopography flatness where reduction in performance in the CMP process is not induced when performing the STI device element separation method.例文帳に追加

ＳＴＩデバイス素子分離手法を実施するに際し、一般のミラー（鏡面研磨）シリコンウエハ表面に存在するナノトポグラフィー領域の微小うねりを簡易に、かつ、有効に減少させ、前記ＣＭＰ研磨処理により形成する薄膜の膜厚ムラの発現を減少させ、ＣＭＰ工程におけるパフォーマンス低下を誘引することがないナノトポグラフィー平坦性が改善されたシリコン単結晶ウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the die that has a texture structure for printing on a surface of a die substrate, used for manufacturing the base structure of a transparent insulating substrate with the base structure used for the photoelectric conversion element, includes a step of performing a CVD film formation on an initial texture structure after a step of forming the initial texture structure on the surface of the die substrate.例文帳に追加

光電変換素子に用いる下地構造付透明絶縁基板の下地構造の製造に用いる、金型基板の表面に印刷用テクスチャ構造を有する金型の製造方法であって、前記金型基板の表面に初期テクスチャ構造を形成する工程の後に、初期テクスチャ構造上にＣＶＤ製膜を行う工程を含むことを特徴とする金型の製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing the solar cell element 10 has a substrate preparation step for preparing a semiconductor substrate 1 having a p-type semiconductor layer, a surface treatment step for exposing the surface of the p-type semiconductor layer to plasma which is formed by using gas containing nitrogen atoms, and a layer formation step for forming a passivation layer 7 on the p-type semiconductor layer exposed to the plasma.例文帳に追加

また、ｐ型半導体層を有する半導体基体１を準備する基体準備工程と、前記ｐ型半導体層の表面を、窒素原子を含むガスを用いて形成されるプラズマに曝す表面処理工程と、前記プラズマに曝した前記ｐ型半導体層の上にパッシベーション層７を形成する層形成工程とを有する太陽電池素子１０の製造方法。 - 特許庁

To provide a transparent electrode endowed with high conductivity and transparency as well as superb smoothness even after environmental test under high-temperature and high-humidity environments, and excellent in stability (all-light transmittance, surface resistance, and surface roughness (Ra, Ry)), a method for manufacturing the transparent electrode, and an organic electroluminescent element excellent in emission uniformity using the transparent electrode.例文帳に追加

本発明の目的は、高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性を有しかつ良好な平滑性を併せ持ち安定性（全光線透過率、表面抵抗、表面粗さ（Ｒａ、Ｒｙ））に優れた透明電極、該透明電極の製造方法、および該透明電極を用いた発光均一性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。 - 特許庁

To provide a surface treating device capable of performing surface treatment small in intra-plane fluctuation or the like, to provide an electron emitting element having excellent electron emitting characteristic, to provide an electron source high in uniformity, to provide an image forming device having excellent displaying quality and high in uniformity, and to provide the method capable of producing them in a high yield.例文帳に追加

被処理基板に処理剤を気相状態で供給して表面処理するに際し、面内ばらつき等の少ない表面処理を行なうことができる表面処理装置、良好な電子放出特性を有する電子放出素子、均一性の高い電子源、均一性が高く良好な表示品質を有する画像形成装置、及び歩留り良く製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the slider is provided with a stage for forming an air bearing surface 30 to base materials for slider including a thin film magnetic head element 22 and a stage for etching at least a part of the air bearing surface 30 using a convergent ion beam 100 so that the step between a part corresponding to the thin film magnetic head 22 and the other part is decreased.例文帳に追加

本発明のスライダの製造方法は、薄膜磁気ヘッド素子２２を含むスライダ用の素材に対してエアベアリング面３０を形成する工程と、エアベアリング面３０において、薄膜磁気ヘッド素子２２に対応する部分と他の部分との間の段差が減少するように、エアベアリング面３０の少なくとも一部を集束イオンビーム１００によってエッチングする工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加

球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method comprises a step of forming a passivation film on a semiconductor substrate surface having desired element regions and a wiring layer, a step of etching the passivation film to expose pad regions for external connections, and a step of etching the wiring layer surface with a liquid containing ammonium fluoride after that etching step.例文帳に追加

所望の素子領域および配線層の形成された半導体基板表面にパッシベーション膜を形成する工程と、外部接続を行うべきパッド領域を露呈せしめるべく、前記パッシベーション膜をエッチングするエッチング加工工程と、前記エッチング加工工程後、弗化アンモニウム含有液を用いて配線層表面をエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method comprises a step of providing a metal component 122 having an exterior surface, and a step of using a burnishing element to apply a varying pressure to an exterior surface within a selected area, within which the component has a varying thickness, to create a region 150 of residual compressive stress surrounded by an interior boundary 154.例文帳に追加

本方法は、外部表面を有する金属構成部品（１２２）を準備する段階と、バニシング要素（１１４）を使用して、その範囲内では構成部品が可変厚さを有する選択区域内の外部表面に対して可変圧力を加えて内部境界面（１５４）によって囲まれた残留圧縮応力領域（１５０）を形成するようにする段階とを含む。 - 特許庁

This composite titanium oxide film element unit is obtained by providing a substrate in which at least its surface layer contains, as main component, Ni-P (nickel-phosphorus), then forming a film of titanium or titanium-containing material on the prescribed area of the substrate and selectively forming the composite titanium oxide layer only on the film surface of titanium or titanium-containing material by a hydrothermal method.例文帳に追加

少なくとも表面の主成分がＮｉ−Ｐ（ニッケルリン）である基板と、この基板の所定の領域にチタンあるいはチタンを含む材料の膜を形成し、このチタンあるいはチタンを含む材料の膜の表面にのみ選択的に、水熱法によって複合チタン酸化物層を形成することを特徴とする複合チタン酸化物膜素子ユニットおよびその製造方法。 - 特許庁

This method for producing a carbon film comprises depositing or applying boron and/or a rare earth element or their compound on or to at least one side of an aromatic polyamide film, piling the film on or to at least the deposited or applied surface, laminating the plural films and baking the films in an inert atmosphere while pressurizing the film surface in the vertical direction under heat.例文帳に追加

芳香族ポリアミドフィルムの少なくとも片面に、ホウ素および／または希土類元素あるいはそれらの化合物を蒸着あるいは塗布し、少なくとも蒸着あるいは塗布面に該フィルムを重ね合わせ複数枚を積層させた後、不活性雰囲気中でフィルム膜面に垂直方向に加圧加熱しながら焼成することを特徴とする炭素フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a transparent electrode endowed with high conductivity and transparency as well as superb smoothness even after environmental test under high-temperature and high-humidity environments, and excellent in stability (all light transmittance, surface resistance, and surface roughness (Ra, Ry)), a method for manufacturing the transparent electrode, and an organic electroluminescent element excellent in emission uniformity using the transparent electrode.例文帳に追加

本発明の目的は、高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性を有しかつ良好な平滑性を併せ持ち、安定性（全光線透過率、表面抵抗、表面粗さ（Ｒａ、Ｒｙ））の優れた透明電極、該透明電極の製造方法、及び該透明電極を用いた発光均一性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。 - 特許庁

There is provided a method of manufacturing a nitride semiconductor laser element comprising: a step of forming a nitride semiconductor layer including a resonator surface at an end portion of a waveguide region; a step of sequentially forming a reflective mirror, a protective film, and a light-absorbing layer on the resonator surface; and an opening formation step of forming an opening corresponding to the waveguide region in the light-absorbing layer.例文帳に追加

導波路領域の端部に共振器面を有する窒化物半導体層を形成する工程と、 前記共振器面上に、反射ミラーと、保護膜と、光吸収層とを順次形成する工程と、 前記光吸収層に前記導波路領域に対応する開口部を形成する開口部形成工程とを具備する窒化物半導体レーザ素子の製造方法。 - 特許庁

This method for forming a metal wiring of a semiconductor element comprises the steps of forming a gate oxide film on a semiconductor substrate 41 to form a conductive line on the gate oxide film, nitriding a surface in which the conductive line is exposed, and oxidizing the semiconductor substrate 41 containing the conductive line formed with a tungsten nitride layer 47 on the exposed surface.例文帳に追加

半導体素子の金属配線の形成方法は、半導体基板４１上にゲート酸化膜４２を形成し、そのゲート酸化膜４２上に導電性ラインを形成する段階と、前記導電性ラインの露出された表面を窒化処理する段階と、露出された表面に窒化層４７が形成された導電性ラインを含む半導体基板４１を酸化処理する段階とを備える。 - 特許庁

In the area packaging method for treating the soldered electrodes of the semiconductor element included with the soldered electrodes or the circuit surface of the circuit board with the flux material, then connecting the soldered electrodes and the circuit surface of the circuit board, this flux material consists of a compound which has a flux effect and has a functional group reacting with at least bi- or higher functional epoxy groups.例文帳に追加

半田電極が具備された半導体素子の半田電極又は回路基板の回路面をフラックス材で処理を施し、その後半田電極と回路基板の回路面を接合するエリア実装方法において、該フラックス材がフラックス作用を有し、且つ少なくとも２官能以上のエポキシ基と反応する官能基を有する化合物からなるフラックス材である。 - 特許庁

The method for manufacturing the gallium nitride compound semiconductor element comprises a step for forming an aluminum nitride layer having conductivity on the surface of a silicon carbide substrate, whose surface is inclined at a first angle from the (0001) plane toward the [11-20] direction, and a step for forming a gallium nitride compound semiconductor laminated structure on the aluminum nitride layer.例文帳に追加

本発明による窒化ガリウム系化合物半導体素子の製造方法は、表面が（０００１）面から［１１−２０］方向に第１の角度で傾斜している炭化珪素基板の該表面に、導電性を有する窒化アルミニウム層を形成する工程と、該窒化アルミニウム層の上部に、窒化ガリウム系化合物半導体積層構造体を形成する工程と、を包含する。 - 特許庁

To provide a method wherein a metal plating film is formed on the surface of ferrite granulated powder produced in such a manner that, after granulation with an organic binder, heat treatment is performed so as to thermally decompose and remove the binder by wet plating treatment, to provide ferrite granulated powder having a metal plating film on the surface, and to provide a temperature switch element produced by using the same.例文帳に追加

有機系バインダを用いて造粒した後に熱処理することでバインダを熱分解除去して製造されてなるフェライト造粒粉の表面に、湿式めっき処理によって、金属めっき被膜を形成する方法、表面に金属めっき被膜を有するフェライト造粒粉およびこれを用いて作製された温度スイッチ素子を提供することを提供すること。 - 特許庁

In the method for producing the microbody, a microstructure composed of an organic material is arranged as a template, on a substrate, the aimed elements are deposited on the surface of the organic structure by a vacuum vapor deposition method or the like, and then the organic structure as the template is decomposed and removed by a UV-ozone treatment method or the like to obtain a microbody composed of only the aimed element components.例文帳に追加

本発明は、有機物にて構成された微小な構造体を鋳型として、基板上に配置し、真空蒸着法などにより、有機物構造体の表面に目的の元素を堆積させ、その後、紫外線-オゾン処理法などにより、鋳型である有機物構造体を分解除去することにより、目的の元素成分のみで構成された微小体を得ることを含む微小体の製造方法を提供する。 - 特許庁

With the manufacturing method of the watertight insulated wire with an insulation layer coated around the outer periphery of a stranded conductor composed of a plurality of stranded wires and at same time, with a gap between the element wires of the stranded conductor and the gap between the stranded conductor and the insulation layer filled with a watertight compound, the surface of the element wires is subjected to plasma treatment.例文帳に追加

複数の素線が撚り合わせてなる撚線導体の外周に絶縁層が被覆し、前記絶縁層の被覆と同時に前記撚線導体の素線相互間の空隙部および前記撚線導体と絶縁層間の空隙部に水密コンパウンドを充填する水密絶縁電線の製造方法において、前記素線の表面をプラズマ処理することを特徴とする水密絶縁電線の製造方法で解決できる。 - 特許庁

The method of manufacturing the solid-state image sensor includes a barrier forming step of forming a barrier on a scribe line defining an element forming region including an imaging region having microlenses formed on the surface thereof with a predetermined gap provided between the sidewall of the element forming region and the barrier, an antireflection film forming step of forming an antireflection film on the surfaces of the microlenses and in the gap, and a barrier removing step of removing the barrier.例文帳に追加

表面にマイクロレンズが形成された撮像領域を含む素子形成領域を区画するスクライブライン上に、素子形成領域の側壁との間に所定の間隙設けて障壁部を形成する障壁部形成工程と、マイクロレンズ表面及び前記間隙内に反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程と、障壁部を除去する障壁部除去工程とを有する。 - 特許庁

In the optical compensation element and the manufacturing method thereof, at least one layer of the optically anisotropic layer is disposed on at least one side surface of a support, the optically anisotropic layer is formed with a polymerization product of a polymerizable composition containing a polymerizable liquid crystal compound, alignment of the polymerizable liquid crystal compound is fixed and an ultraviolet absorber is included in the optical compensation element.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の面上に光学異方性層を少なくとも１層有してなり、該光学異方性層が、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の重合生成物で形成されてなり、該重合性液晶化合物の配向が固定されており、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学補償素子及びその製造方法である。 - 特許庁

To provide the jointing method for a piezoelectric vibrating element which reduces the manufacture cost by increasing the productivity by completing adhesion by single adhesive coating operation, when lead electrodes are led out to both the top and reverse surface sides of one end edge of the piezoelectric vibrating element are adhered onto two pads in a recessed part formed on a package in one to one relation.例文帳に追加

パッケージに形成した凹陥部内の２つのパッド上に、圧電振動素子の一端縁の表裏両面側に夫々導出されたリード電極を一対一の関係で対応付けて導電性接着剤により接着する際に、一回の接着剤塗布作業によって接着を完了することにより生産性を高めて製造コストを低減するようにした圧電振動素子の接合方法を提供する。 - 特許庁

To provide a design method of an organic electroluminescent element, which enhances an amount of components of light emitted to the outside by setting a dimension between a light-emitting source and the surface of a light reflecting electrode in a wide range, when improving light extraction efficiency by extracting light guided in a substrate to the outside by providing a light diffusion layer between the substrate of the organic EL element and the atmosphere.例文帳に追加

有機ＥＬ素子の基板と大気との間に光拡散層等を設けることで本来基板内を導波する光を外部に取り出して光取り出し効率を向上するにあたり、発光源と光反射性の電極の表面との間の寸法を広い範囲のなかで設定することで、外部に出射する光の成分の量を向上することができる有機エレクトロルミネッセンス素子の設計方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic electroluminescence element includes a stage in which a donor substrate 130 is laminated on the upper surface of a substrate 110 having pixel electrodes, and a stage in which a predetermined area of the donor substrate 130 is irradiated with laser beams 250, 255 by using a laser irradiation apparatus 200 equipped with a diffraction optical element 280 to form an organic film layer pattern 120 on the substrate 110.例文帳に追加

本発明に係る有機電界発光素子の製造方法は，画素電極が設けられた基板１１０の上面にドナー基板１３０がラミネートされる段階と，回折光学素子２８０を備えたレーザー照射装置２００を用いてドナー基板１３０の所定領域にレーザービーム２５０，２５５が照射され，基板１１０上に有機膜層パターン１２０が形成される段階と，を含む。 - 特許庁

For the heating element 3, a coating film of tungsten of which the impurity metal content is ≤0.01 weight% is formed on a surface of a base member made of tungsten, by an electron beam vapor deposition method taking tungsten powder of which the impurity metal content is ≤0.01 weight%, as an evaporation source or a chemical vapor deposition method using reduction with hydrogen of tungsten hexafluoride.例文帳に追加

発熱体３は、タングステン製の基体の表面に、不純物金属含有量が０．０１重量％以下のタングステン粉末を蒸発源とした電子ビーム蒸着法又は六フッ化タングステンの水素による還元反応を利用した化学蒸着法により、不純物金属含有量が０．０１重量％以下のタングステンの被覆膜を形成したものである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can keep both high adhesion to and high peelability from the substrate even in using the substrate for circuit formation having less surface irregularity, and is excellent in plating resistance, etching resistance and resolution, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

In a method of forming a photovoltaic element, which enables the precipitation of a silicon layer 110 on a substrate 103 by contacting the substrate 103 with a supersaturated solution obtained by dissolving a silicone in a metal solvent 109, before the substrate 103 contacts the supersaturated solution, a silicon thin film 107 is formed on the surface of the substrate 103 using a high-frequency plasma CVD method.例文帳に追加

金属溶媒１０９にシリコンを溶解した過飽和溶液に基板１０３を接触させることにより基板１０３上にシリコン層１１０を析出させる光起電力素子の形成方法において、過飽和溶液に基板１０３と接触させる前に、基板１０３表面にシリコン系薄膜１０７を高周波プラズマＣＶＤ法を用いて形成しておく。 - 特許庁

For the manufacturing method of the photoelectric conversion element interposing an electron transfer layer composed of photosensitive pigment, an electric charge separation layer, and a conductive layer between a pair of electrode layer of which, at least one side is transparent, the electric charge separation layer is formed by spraying a liquid containing photosensitive pigment on the surface of the electron transfer layer by ink-jet method.例文帳に追加

少なくとも一方が透明な一対の電極層の間に、光増感色素からなる電子輸送層、電荷分離層、および導電層を有する光電変換素子の製造方法において、該電荷分離層を、電子輸送層の表面に光増感色素を含む溶液をインクジェット法を用いて噴射することにより形成することを特徴とする、光電変換素子の製造方法。 - 特許庁

With respect to the ceramic capacitor which has a substrate having the Ti element at least on its surface and constituting an electrode, a dielectric layer comprising perovskite oxide formed by a hydrothermal crystallization method on the substrate and an electrode formed on the dielectric layer, a part of the dielectrics layer contains a PZT(lead titanate zirconate) containing at least Mn formed by a hydrothermal crystallization method.例文帳に追加

少なくとも表面にＴｉ元素を有しかつ電極となる基板と、基板上に水熱合成法で形成されたペロブスカイト型酸化物からなる誘電体層と、その上に形成された電極を有するコンデンサにおいて、前記誘電体層の一部が少なくとも水熱合成法で形成されたＭｎを含むＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）層を含むセラミックコンデンサに関する。 - 特許庁

To provide an optical semiconductor device including an optical element that does not degrade transmission of a light due to discoloration of a light-receiving surface even in the optical semiconductor device receiving high-density output light with high energy such as blue-violet laser or the like and that can be easily manufactured at low cost, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

青紫色レーザなどの、高エネルギーで高密度の出力の光を受光する光半導体装置でも、受光面が変色して光の透過率を低下させることなく、また、容易に製造することができて安価に得られる受光素子を有する光半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the semiconductor package has a semiconductor element mounted on the interposer, and the method of manufacturing the interposer includes a step of forming the conductor pattern on a metal foil of the prepreg formed by bonding the metal foil to the one surface by etching and a step of forming the coating layer so as to cover at least the part of the conductor pattern.例文帳に追加

また、半導体パッケージは、上記インターポーザに半導体素子を搭載しており、インターポーザの製造方法は、片面に金属箔を接合してなるプリプレグの金属箔にエッチングにより導体パターンを形成する工程と、前記導体パターンの少なくとも一部を覆うように被覆層を形成する工程とを有する。 - 特許庁