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surface element methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2223



例文

In the method of forming the element isolation trench, the upper end of the liner 14 composed of the silicon nitride film is exposed by downwardly retreating the top surface of a first embedded insulating film 17 packed in a groove 2a formed into a silicon substrate 1, after the liner 14 is caused to deposit on the internal wall of the groove 2a.例文帳に追加

本発明による素子分離溝の形成方法は、シリコン基板1に形成した溝2aの内壁に窒化シリコン膜ライナー14を堆積した後、溝2aの内部に充填した第1の埋め込み絶縁膜17の上面を下方に後退させ、窒化シリコン膜ライナー14の上端部を露出させる。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor and its manufacturing method, capable of improving light receiving characteristics such as low illuminance characteristics, by implanting impurity ion in the part where the silicon lattice structure of a trench inner wall in an element separation region is damaged, to prevent a photodiode from being damaged, for protecting the surface of a photodiode region.例文帳に追加

素子分離領域のトレンチ内壁のシリコン格子構造が損傷された部分に不純物イオンを注入してフォトダイオードが損傷されるのを防止してフォトダイオード領域の表面を保護し、低照度特性などの受光特性を向上させることができるCMOSイメージセンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sensor element available to an electrochemical measurement system capable of carrying, on the surface of a collector body, a sensing layer formed by including a biocatalyst identifying a target substance or a selectively permeable membrane selectively-obstruct permeation of a coexistence interfering substance causing an undesirable electrochemical reaction and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

標的物質を識別する生体触媒を含んでなる感応層、または好ましくない電気化学的反応を引き起こす共存妨害物質の透過を選択的に阻止する選択透過膜を集電体表面に強く担持できる、電気化学測定系に利用されるセンサ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a contaminant remover for removing contaminant adhering to the surface of an optical element on the side of a projection optical system closest to a substrate efficiently, and to provide an aligner capable of enhancing exposure precision, and a method of manufacturing device for producing high integration devices efficiently with high yield.例文帳に追加

投影光学系の最も基板側の光学素子表面に付着する汚染物質を効率的に除去することができる汚染物質除去装置、露光精度の向上可能な露光装置、高集積度のデバイスを歩留まりよく効率的に生産することのできるデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

The method for producing the nitride single crystal comprises forming a substance transport medium layer 12 containing a compound of a rare earth element on the surface of a nitride crystal 11 and growing the nitride single crystal 14 on a seed crystal 13 by bringing the seed crystal 13 into contact with the substance transport medium layer 12.例文帳に追加

窒化物結晶11の表面に希土類元素の化合物を含有する物質輸送媒体層12を形成し、種結晶13を物質輸送触体層12に接触させることにより、種結晶13に窒化物単結晶14を成長させることを特徴とする窒化物単結晶の製造方法である。 - 特許庁


例文

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, by which the semiconductor device using an SiC crystal is manufactured by peeling an SiC substrate from a stuck substrate formed by sticking the SiC substrate on an Si substrate without damaging an element such as an IC chip and an LSI chip formed on the surface of the SiC substrate.例文帳に追加

SiC基板がSi基板に貼り付けられた貼り合せ基板から、SiC基板の表面に形成されたICチップやLSIチップ等の素子を傷つけることなく、貼り合せ基板からSiC基板を剥離して、SiC結晶を用いた半導体デバイスを製造する、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave element dealing with a high frequency and a large power, which is provided with a piezoelectric substrate, a mutual diffusion preventing layer formed on the piezoelectric substrate and an electrode layer containing Al as a main component on the mutual diffusion preventing layer, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

圧電基板と、圧電基板上に形成された相互拡散防止層と、相互拡散防止層上にAlを主成分とする電極層を備える弾性表面波素子およびその製造方法において、高周波および大電力に対応した弾性表面波素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for efficiently drying materials comprises such steps as making a filter cake 2 on the surface of a filter medium 1 from a slurry containing liquid and solid, arranging the filter cake 2 and an oscillator 6 in opposed positions and generating a sound field between the filter cake 2 and the oscillator 6 through mechanical contact between the filter cake 2 and the oscillator 6 or a constitutive element 7 connected to the oscillator 6.例文帳に追加

濾過媒体(1,11,21) の面上の濾過ケーキ(2,12,22) を液体および固体を含むスラリから作り、濾過ケーキ(2,12,22) および発振器(6,15,25)を互いに対して配置して、濾過ケーキ(2,12,22) と発振器(6,15,25) または発振器に接続された構成要素(7,16,26) との間の機械的接触により、濾過ケーキ(2,12,22) と発振器(6,15,25) との間に音場を生成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal/metal oxide composite by which a composite formed by solid-solubilizing a metal (easily reducible metal) consisting of a specified metal element in a metal oxide can be easily obtained as particles dispersed in a solvent or as a film formed on the surface of a substrate, for example.例文帳に追加

特定の金属元素からなる金属(易還元性の金属)が金属酸化物中に固溶等されてなる複合物を、例えば、溶媒中に分散している粒子として、もしくは、基材の表面に形成させた膜として、容易に得ることができる金属−金属酸化物複合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

In a method for manufacturing a cover glass for a solar cell, a solution containing at least one element selected from a group consisting of organo silica sol and colloidal silica and condensate of organo alkoxysilane is applied on the surface of a glass to be used as a substrate, and the glass is heated to 620 to 730°C and then cooled down.例文帳に追加

オルガノシリカゾル及びコロイダルシリカからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分と、オルガノアルコキシシランの縮合物を含有する溶液を、基材とするガラスの表面に塗布した後、620〜730℃に加熱し、その後、冷却することを特徴とする、太陽電池用カバーガラスの製造方法、並びに。 - 特許庁

例文

To provide a liquid crystal device in which an insulating film having a continuous flat surface on the upper layer side of a pixel electrode, is formed throughout an element substrate, and an insulating film having a uniform film thickness is also formed on each pixel electrode, and also to provide a method for manufacturing the liquid crystal device, and a projection display device.例文帳に追加

素子基板全体にわたって、画素電極の上層側に連続した平坦面を備えた絶縁膜を形成することができるとともに、各画素電極上に均等な膜厚の絶縁膜を設けることができる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁

Holograms are discretely disposed in order to enhance the authenticity in the authenticity identification element using the holograms, a gap of the holograms is turned into a light-scattering rough surface and, thereby, a hologram image can not be recognized under usual observation but the method capable of visualizing the hologram image is permitted only by using a prescribed authenticity determining sheet.例文帳に追加

ホログラムを用いた真正性識別体において、その真正性を高めるために、ホログラムを離散的に設け、その隙間を光散乱性の粗面とすることで、通常観察下では、ホログラム画像を認識できず、所定の真正性判定シートを用いてのみ、ホログラム画像を視認できる方法を可能とした。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of improving the performance in minute processing of a semiconductor element using an electron beam, an X ray, a KrF excimer laser beam, or an ArF excimer laser beam, excellent in terms of sensitivity, resolution, focal margin (DOF) performance, LWR, reduction of blur, and reduction of pattern surface roughness; and to provide a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

電子線、X線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度(DOF)性能、LWR、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a forming die production method which enables lead time reduction and cost saving in the production of a forming die material, the response to enhancement of the forming surface accuracy as a forming die, the securement of the comprehensive accuracy of the forming die and also enables to quickly, inexpensively provide a high-quality, high-performance optical element.例文帳に追加

成形型素材の製造リードタイム及びコストを抑えて、更には、成形用型としての成形面精度の高精度化への対応と併せ成形型の総合的な精度確保が可能な成形用型の製造方法を提供して、高品質・高性能の光学素子を素早く廉価に提供できるようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color conversion filter substrate capable of attaining an accurate pattern at low costs, without exerting adverse effects on the characteristics of a color conversion layer, when forming a transparent protection layer on the surface of the color conversion layer and pasting with an organic EL element substrate mounted with color conversion layer.例文帳に追加

色変換層表面に透明保護層を形成する際と、有機EL素子を搭載した有機EL素子基板と貼り合せる際とに、色変換層の特性に悪影響を及ぼすことなく、高精度なパターンを低コストで得ることができる色変換フィルタ基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the glass material for the mold pressing, an alkali treatment is applied on the surface of the glass material containing a phosphate and preliminarily processed in a prescribed shape, then a carbon-containing film is formed thereon, and in the method for manufacturing the optical element, the glass material for the mold pressing is molded by pressing in a state in which the glass material is softened by heating.例文帳に追加

リン酸塩を含み、所定形状に予備加工したガラス素材の表面にアルカリ処理を施した後に、炭素含有膜を形成してなるモールドプレス用ガラス素材、および前記モールドプレス用ガラス素材を、加熱により軟化した状態でプレス成形する光学素子の製造方法である。 - 特許庁

To provide a solar battery rear surface protecting film improved in adhesion with a filler part containing an ethylene/vinyl acetate copolymer composition or the like enclosing a solar battery element, heat resistance, flexibility, light reflectivity and durability in a thermal cycle, a manufacturing method thereof and a solar battery module.例文帳に追加

太陽電池素子を包埋する、エチレン・酢酸ビニル共重合体組成物等を含む充填材部との接着性、耐熱性、可撓性、光反射性及び冷熱サイクルに対する耐久性に優れた太陽電池用裏面保護フィルム及びその製造方法並びに太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a surface acoustic wave element which can uniformize film reductions resulting from development in a plurality of pad electrodes on a piezoelectric substrate to prevent a pad electrode with extremely large film reductions from occurring while preventing electrostatic destructions in each electrode on the piezoelectric substrate.例文帳に追加

圧電基板上の各電極における静電破壊を防止した上で、圧電基板上の複数のパッド電極における現像による膜減り量を均一化して、極端に膜減り量が大きいパッド電極が発生するのを防止することができる弾性表面波素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The photoelectromotive element manufacturing method comprises a step of forming a compound thin film containing aluminum, gallium or indium and sulfur, selenium or tellurium on a substrate in an oblique direction to the substrate, and a step of attaching a pair of electrodes with a space on the surface of the compound thin film.例文帳に追加

基板上に、アルミニウム、ガリウムもしくはインジウムと、硫黄、セレンもしくはテルルとを含む化合物薄膜を前記基板表面に対して斜めの方向に成膜する工程、および上記の化合物薄膜の表面に互いに間隔をあけて一対の電極を付設する工程からなる光起電力素子の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the solid-state imaging element comprises, at least a step of forming the hole 13 in a part directly above the sensor 2 of the transparent film 9, the step of forming the organic polymer 10 by embedding the polymer in the hole 13, and the step of planarizing surface by etching back the polymer 10.例文帳に追加

そして、透明膜9の受光センサ部2の直上の部分に孔部13を形成する工程と、この孔部13を埋めて有機ポリマー10を形成する工程と、この有機ポリマー10に対してエッチバックを行って表面を平坦化する工程とを少なくとも有して上記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

The surface defect detecting method and device is constituted so that whether it is defect or not is discriminated by using an optical system constituted of a belt like light source 1 used for both dark field lighting and bright field lighting and a light receiving element 3 for detecting the defect in the dark field and bright field and comparing the taken image with a prescribed value.例文帳に追加

暗視野照明及び明視野照明を兼用する帯状光源1と、暗視野及び明視野で欠陥を検出する受光素子3とから構成した光学系を用い、取り込んだ画像を所定値と比較して欠陥か否かを判定するようにした表面欠陥検出方法及び装置。 - 特許庁

In the method of manufacturing the solar cell substrate including a synthetic resin sheet as a structural element, the uneven structure is formed on the surface of the synthetic resin sheet by thermally pressurizing a porous material to the synthetic resin sheet and then peeling the porous material.例文帳に追加

合成樹脂シートを構成要素に含む太陽電池基板を製造する方法であって、上記合成樹脂シートに多孔質体を熱圧着し、該多孔質体を剥離することにより、該合成樹脂シート表面に凹凸構造を形成することを特徴とする太陽電池基板の製造方法である。 - 特許庁

In the optical disk discriminating method, the reflected light from an optical disk is detected with high accuracy by switching a plurality of laser beams and moving spherical aberration correcting element while moving an objective lens closer to or away from the recording surface of an optical disk, and kinds of a plurality of optical disk are discriminated by signals generated from the detected reflected light.例文帳に追加

対物レンズを光ディスクの記録面に近づける又は遠ざけるように移動させながら、複数のレーザを切り換えると共に球面収差補正素子を動かして、光ディスクからの反射光を精度よく検出し、該検出した反射光から生成した信号により複数の光ディスクの種類を判別する。 - 特許庁

This method for manufacturing the optical substrate for display element consists of subjecting the surface having the transparent conductive film formed of the substrate with the transparent conductive film to irradiation with electron beams, or the irradiation with the electron beams and heat treatment, or the irradiation with the electron beams, the heat treatment and photoirradiation, or the irradiation with the electron beams and the photoirradiation.例文帳に追加

透明導電膜付き基板の透明導電膜形成面に、電子線照射、または電子線照射及び熱処理、または電子線照射及び熱処理及び光照射、または電子線照射及び光照射することを特徴とする表示素子用光学基板の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing method, the resist layer of a desired color is formed on an ultraviolet ray absorption layer 16 on the element of the substrate, pattern exposure 22 is then performed on a surface of the layer so as to form the slopes on the opposite side of the substrate with respect to a lateral side of the layer, and film hardening treatment is performed after developing the layer.例文帳に追加

製造方法は、上記基板の上記素子上の紫外線吸収層16の上に所望の色の上記レジスト層を形成後、この層の表面に現像後にこの層の側面に対し上記基板の反対側に上記斜面が形成されるようパターン露光22し、この層を現像後に硬膜処理を行なう。 - 特許庁

In the method of forming wirings of a semiconductor element in which ultra-fine electronic circuit wirings are formed, the electronic circuits are formed by embedding conductor materials including at least Cu layer into the substrate material and only the open surface of the electronic circuits is covered with a material for preventing movement by thermal diffusion of the conductor material.例文帳に追加

微細な電気回路配線を形成する半導体素子の配線形成方法において、基材中に少なくともCu層を含む導電体材料の埋め込みにより電気回路を形成し、該導電体材料の熱拡散移動を防止する材料によって、前記電気回路の開放表面のみを被覆する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a display element which has a process for cutting the brittle substrate having the coating film applied at least on one surface from the coating film side, the substrate is soda glass having ≤0.4 mm thickness and the thickness of the coating film is100 μm.例文帳に追加

少なくとも片面に被膜がコーティングされた脆性基板を被膜側から分断刃によって分断する工程を有する表示素子の製造方法において、基板が厚さ0.4mm以下のソーダガラスであり、被膜の膜厚が100μm以下であることを特徴とする表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a graphite material with coated surface comprises chemical vapor deposition of a raw material as a pyrolytic carbon source on a graphite material element to form a pyrolytic carbon coating layer and thereafter heat-treating of the coating layer at a temperature higher than the chemical vapor deposition temperature.例文帳に追加

表面が被覆された黒鉛材料の製造方法において、熱分解炭素源となる原料を黒鉛材料素材に化学蒸着させて、熱分解炭素被覆層を生成させた後、蒸着温度よりも高い温度で熱処理することを特徴とする黒鉛系炭素材料の製造方法。 - 特許庁

An organic luminescent layer manufacturing process in this manufacturing method of the organic EL element uses a printing cylinder on the surface circumference of which at least a plurality of solvent resistant projecting parts are continuously formed, and an organic luminescent material is printed on a substrate to be transferred.例文帳に追加

有機EL素子の製造方法における有機発光層製造工程が、少なくとも複数の耐溶剤性の凸部が表面円周上に連続形成された印刷用シリンダーを用い、被転写基板へ有機発光材料の印刷を行うことを特徴とする有機EL素子の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a sealing body for a surface light emitting device capable of making luminance of a plurality of light emitting elements uniform by suppressing variation of power supplied to the light emitting elements by a simple method, and capable of preventing degradation of luminance by preventing infiltration of water vapor, oxygen or the like into each light emitting element or electrode.例文帳に追加

簡便な工法にて複数の発光素子に給電される電力のバラツキを抑制してその発光輝度を均一化することができ、且つ各発光素子や電極への水蒸気や酸素等の侵入を防止して発光輝度の劣化を防止することができる面発光装置用の封止体を提供する。 - 特許庁

To provide method of manufacturing a phosphor pattern which has no phosphor being removed by the development in photo processing, which embedment property of a substrate having unevenness surface into space is excellent and which can form an uniform shape of phosphor pattern in high precision, and to provide element for forming the phosphor pattern having good workability and environment safety.例文帳に追加

フォトプロセス等において現像等により除去される蛍光体を無くし、凹凸を有する基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パターンの製造法、作業性、環境安全性のよい蛍光体パターン形成用エレメントを提供する。 - 特許庁

To provide a lead frame and the manufacturing method thereof as well as a chip-type LED employing the lead frame, efficiently radiating heat generated from a semiconductor element and which will not cause degradation of characteristics, such as the change in the oscillating wavelength through self heat generation, the deterioration of a luminous efficiency or the like, while capable of being miniaturized and mounted on a surface.例文帳に追加

半導体素子から発生する熱を効率良く放熱し、自己発熱により発振波長の変化、発光効率の低下などの特性劣化を引き起こすことがない小型化、表面実装化も可能なリードフレームとその製造方法ならびにそれを用いたチップ型LEDを提供すること。 - 特許庁

In the diffraction optical element 1, a first antireflection film 41 is formed on the surface of a periodical grating 2 by a dipping method including processes of immersing a glass substrate 3 on which the periodical grating 2 is formed in a vessel 51 reserving a liquid 40 of the antireflection material, drawing the substrate up and drying by blowing hot air F.例文帳に追加

回折光学素子1では、周期格子2が形成されたガラス基板3を、反射防止材料の液体40を溜めた容器51に浸漬してから、引き上げて温風Fにより乾燥する工程からなるディッピング法により、周期格子2の表面に第1の反射防止膜41を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of an organic electroluminescent element comprises a process of forming the inorganic sealing layer having an inorganic sealing film composed of either a silicon oxide, a silicon nitride, or a silicon oxynitride on the second electrode, and a process of applying a plasma treatment on a surface of the inorganic sealing film by using fluorine-containing gas.例文帳に追加

第二電極上に形成する無機封止層が、酸化ケイ素、又は窒化ケイ素、酸窒化ケイ素のいずれか一つからなる無機封止膜を形成する工程と、該無機封止膜の表面にフッ素含有ガスを用いたプラズマ処理をおこなう工程とにより形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁

A detecting element 21 of the hydrogen sensor is made up in the form like a round rod and composed of a porous layer 27, inner electrodes 29, 30, a solid electrolyte layer 28, outer electrodes 31, 32, a gas diffusion layer 33 and a fine layer 34, which are formed on the outer circumference side of a heater section 22 by using a curved surface printing method or the like.例文帳に追加

水素センサの検出素子21は、ヒータ部22の外周側に曲面印刷等の手段を用いて形成された多孔質層27、内側電極29,30、固体電解質層28、外側電極31,32、ガス拡散層33および緻密層34からなり、全体として円形のロッド状をなす構造とする。 - 特許庁

There are provided the electrostatic charge image developing toner having toner particles containing a binder resin and a colorant and resin particles, and having a metal element on the surface of the resin particle, the electrostatic charge image developer containing the toner, and the image forming method using the developer.例文帳に追加

結着樹脂及び着色剤を含むトナー粒子と、樹脂粒子とを有する静電荷像現像用トナーであって、前記樹脂粒子の表面に金属元素を有することを特徴とする静電荷像現像用トナー、該トナーを含有する静電荷像現像用現像剤、及び該現像剤を用いた画像形成方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the angular velocity sensor element has the steps of: pasting a film tape 36 to a top surface of an Si wafer 34; peeling the film tape 36 from the Si wafer 34; and simultaneously eliminating the machining debris 37 produced at the time of laser irradiation by adsorbing the debris onto the film tape 36.例文帳に追加

本発明の角速度センサ素子の製造方法は、Siウエハ34の上面にフィルムテープ36を貼付した後、前記フィルムテープ36をSiウエハ34から剥離すると同時に、レーザ照射時に発生した加工屑37をフィルムテープ36に吸着させることにより除去する工程を設けたものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a thin film photoelectric conversion element, and a deposition apparatus which can obtain a thin film having improved flatness on all over the surface and stabilized uniform film thickness distribution, even for a flexible substrate of large area, by inhibiting generation of wrinkles in a width direction and a length direction of a flexible substrate.例文帳に追加

可撓性基板の幅方向及び長手方向の皺の発生を防止して、大面積の可撓性基板でも、全面に亘って平坦性が向上し、均一な膜厚分布の安定化した薄膜が得られる薄膜光電変換素子の製造方法及び製造装置、並びに成膜装置を提供することにある。 - 特許庁

In the method for manufacturing the wavelength conversion element wherein an electrode 12 is formed on one surface of a nonlinear optical member 10, the formed electrode 12 is film-deposited corresponding to light passing regions 11a to 11c and constituted of a wiring part 12a and a bonding part 12b bonding wirings.例文帳に追加

非線形光学部材10の一方の面に電極12を形成した波長変換素子の製造方法であり、形成された電極12は光通過領域11aから11cに対応して成膜されており、それぞれ、配線部12aと配線を結合する結合部12bから構成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting device and its manufacturing method which are capable of forming a fluorescent layer into a desired shape, when the fluorescent layer formed on and around the light emitting surface of the semiconductor light emitting element is formed by filling a fluorescent layer forming mold with a fluorescent substance-containing material.例文帳に追加

本発明は、半導体発光素子の発光面を含む周囲に形成された蛍光体層を、蛍光体層形成用型に蛍光体含有材料を充填して形成する場合、蛍光体層を所望とする形状に形成することが可能な半導体発光装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical semiconductor integrated element structure for avoiding problems in the structure such as overhanging growth over a mask due to a dielectric mask area and surface orientation dependency of growth speed of a buried regrowing layer and an increase in the growth speed at a mask end, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

光半導体集積素子構造において問題となる、誘電体マスク面積や埋め込み再成長層の成長速度の面方位依存性に起因するマスク上への張り出し成長や、マスク端での成長速度増大を回避する光半導体集積素子構造およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a connection method for preventing peeling of a conductive adhesive due to thermal stress while maintaining satisfactory conductivity in a semiconductor device, wherein a semiconductor element which is subjected to surface roughening is fixed to a substrate or a lead frame by using the conductive adhesive.例文帳に追加

粗面加工を施した半導体素子を導電性接着剤を用いて基板またはリードフレームに固着した半導体装置において、充分な導通性を維持しつつ、熱ストレスによる導電性接着剤の剥離を防止する半導体装置の接続方法および半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a novel injection mold capable of well performing the injection- compression molding of a molded product such as the light guide plate of a liquid crystal display element or the like without generating a short shot, the reproduction failure of a fine processed surface, the distortion of the molded product and burr, and an injection molding method capable of smoothly taking out the molded product after molding.例文帳に追加

液晶表示素子の導光板などの成形品を、ショートショット、微細加工面の再現不良、成形品の歪み、並びにバリなどを生じることなく良好に射出−圧縮成形しうる新規な射出金型と、成形後の成形品をスムースに取り出すことのできる射出成形方法とを提供する。 - 特許庁

To perform a high-accuracy measurements which takes into consideration lens aberrations and properties of pixel of an imaging element or the like, at the measurement of a displacement amount of a surface, when deformations occurs due to external force and the temperature change or the like, in a common structure such as a heater block or the like, using digital image correlation method.例文帳に追加

デジタル画像相関法を利用してヒータブロック等の一般構造物が外力や温度変化等の要因により変形した場合のその表面の変位量を計測するに際して、レンズの収差や撮像素子の画素の特性等を考慮した高精度な計測を行うことを可能にする。 - 特許庁

In the method, the gallium nitride crystal is ammonothermally grown on the surface of a seed while controlling the temperature and the pressure in the interior of an autoclave, in which the seed, a nitrogen element-containing solvent and halogenated gallium pentaammoniate (wherein halogen is chlorine, bromine or iodine) are charged, so that the solvent is in a supercritical state and/or subcritical state.例文帳に追加

シード、窒素元素を含有する溶媒、およびハロゲン化ガリウムペンタアンモニエート(ここでいうハロゲンは塩素、臭素または沃素である)を入れたオートクレーブ内の温度および圧力を、溶媒が超臨界状態及び/又は亜臨界状態となるように制御してシードの表面にアモノサーマル的に窒化ガリウムを結晶成長させる。 - 特許庁

A two-dimensional or three-dimensional Poisson equation to handle a plane or a curved surface is given as a dominating equation to an area inside the anode and/or the cathode, and these are discrete by a boundary element method or a finite element method, and the current density i and the electric potential distribution ϕin the system are calculated through the simultaneous operation.例文帳に追加

アノード11、及び/又はカソード12の抵抗が無視できない系での電解めっきにおいて、めっき液13を含む領域に対しては3次元ラプラス方程式を支配方程式として与え、これを境界要素法で離散化し、アノード、及び/又はカソード内部の領域に対しては、平面または曲面を扱う2次元又は3次元のポアソン方程式を支配方程式として与え、これらを境界要素法または有限要素法で離散化し、それらを連立させ、系内の電流密度iおよび電位分布φを算出する。 - 特許庁

The manufacturing method is provided with a process for manufacturing an aluminum substrate that is made of an aluminum alloy where an emission activator has been added, and a process for forming an anodic oxide layer containing α alumina on the surface of the aluminum substrate, thus manufacturing the element for detecting beams where the anodic oxide layer containing α alumina where the emission activator has been added is formed on the aluminum substrate surface.例文帳に追加

発光付活剤の添加されたアルミニウム合金からなるアルミニウム基体を製造する工程と、前記アルミニウム基体の表面にα−アルミナを含有する陽極酸化皮膜を形成する工程とを有する製造方法により、アルミニウム基体表面に、発光付活剤の添加されたα−アルミナを含有する陽極酸化皮膜が形成されてなるビーム検知用素子を製造する。 - 特許庁

A method of manufacturing an SiC semiconductor element includes steps of: doping a surface layer of an SiC substrate 1 with an impurity; depositing a carbon film 2 on a surface of the SiC substrate doped with the impurity in an inert gas atmosphere; annealing the SiC substrate having the carbon film deposited; and removing the carbon film deposited on the annealed SiC substrate.例文帳に追加

SiC基板1の表面層に不純物のドーピングを行なう工程と、不純物がドーピングされたSiC基板の表面に、不活性ガス雰囲気中でカーボン膜2を堆積する工程と、カーボン膜が堆積されたSiC基板をアニール処理する工程と、アニール処理されたSiC基板に堆積されているカーボン膜を除去する工程とを含むことを特徴とするSiC半導体素子の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminated film having the stretching film layer containing the alicyclic structure containing polymer and the urethane resin layer includes a step for forming the stretching film layer where an average angle of contact with water with respect to the surface is 20-45° and a step for applying a water dispersing element of the water based urethane resin on the surface of the stretching film layer.例文帳に追加

脂環式構造含有重合体を含む延伸フィルム層とウレタン樹脂層とを有する積層フィルムの製造方法であって、表面の平均水接触角が20〜45度である延伸フィルム層を形成する工程と、その延伸フィルム層の表面に水系ウレタン樹脂の水分散体を塗布する工程とを含むことを特徴とする積層フィルムの製造方法及びこの方法により製造される積層フィルム。 - 特許庁

例文

The production method of the probe element is characterized in that it contains a first step for preparing a stage having a main surface and one or more recesses, and a second step for forming, on the main surface, a first photoresist layer which is formed by laminating two or more dry photoresist films and has a projection penetrating the first photoresist layer in the thickness direction to reach the recess.例文帳に追加

プローブ要素の製造方法は、主面を有すると共に該主面に1以上の凹所を有する基台を準備する第1のステップと、フィルム状をした2以上の乾燥ホトレジストを重ねた第1のホトレジスト層であって当該第1のホトレジスト層をこれの厚さ方向に貫通して前記凹所に達する突起部を有する第1のホトレジスト層を前記主面に形成する第2のステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁




  
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