「surface element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor light-emitting element preventing multiple reflection in a transparent conductive film constituting an electrode formed on a light extracting surface to obtain excellent light extraction efficiency, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

光取り出し面に形成された電極を構成する透明導電膜内での多重反射を防止することができ、優れた光取り出し効率が得られる半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a brush element for cleaning the inside of a pipe, which can flexibly pass through the inside of the pipe of small bending radius of curvature R, which is easily operated and has high corrosion resistance and which does not damage the inner surface of the pipe, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

曲げ曲率半径Ｒが小さい管内部を柔軟に通過できると共に、操作性が良く、耐蝕性が高く、管内面を傷つけることのない、管内洗浄用ブラシ素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing III-V compound semiconductor optical element by which deterioration of quality of a surface of a semiconductor can be reduced, when a semiconductor crystal containing arsenic, phosphorous and nitrogen as group V constituent elements is grown.例文帳に追加

ヒ素、燐および窒素をＶ族構成元素として含む半導体結晶を成長する場合、該半導体表面の品質低下を縮小可能な、III−Ｖ化合物半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide the cutting method of a semiconductor substrate, with which the semiconductor substrate can precisely be cut into semiconductor chips, with markedly improved cutting precision to the surface of the semiconductor substrate with a functional element mounted thereon.例文帳に追加

半導体基板を半導体チップに精度良く切断することができ、特に、機能素子形成面である半導体基板の表面の切断精度を極めて高くすることができる半導体基板の切断方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a film, having low dependence on the wavelength and low dependence on the incident and exiting angles and having high antireflection effect and transmission enhancing effect as an antireflection film on the surface of optical parts or optical element by a high mass productivity method.例文帳に追加

光学部品ないし光学素子の表面への反射防止膜として、波長依存性および入出射角依存性が低く、反射防止効果および増透効果の大きな膜を、量産性の高い方法で得ることである。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor laser element having a ridge stripe 9, after the formation of the ridge stripe 9, an insulating mask 8 containing Si is oxidized using an etching solution containing hydrogen peroxide to inactivate the surface treatment.例文帳に追加

リッジストライプ９を有する半導体レーザ素子の製造方法において、リッジストライプ９を形成後、過酸化水素水を含むエッチング液を用いてＳｉを含む絶縁マスク８を酸化処理して、この表面処理を不活性化にする。 - 特許庁

There are provided the separation membrane module with at least the contact part side surface of the membrane seal part with treating liquid formed of the thermosetting fluororesin, and a manufacturing method of the separation membrane element used for the separation membrane module.例文帳に追加

膜封止部の、少なくとも被処理液との接触部側表面が、熱硬化性フッ素樹脂により形成されていることを特徴とする分離膜モジュール、及びこの分離膜モジュールに用いられる分離膜エレメントの製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of measuring electrical characteristics of TEG (Test Element Group) provided to a semiconductor substrate even when the surface of a measuring pad is damaged by etching a UBM (Under Bumping Metal) layer, and also a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

測定用パッドの表面がＵＢＭ層エッチングによって損傷を受けても、半導体基板に設けられたＴＥＧの電気的特性の測定が可能な半導体装置及びその半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a total reflection fluorescent X-ray analysis method and a device for use in the same, which detect or quantitatively analyze a metal contaminant element on the surface of a silicon wafer at high sensitivity and which can accurately obtain the positional information thereof.例文帳に追加

シリコンウエハ表面の金属汚染物元素を高感度で検出あるいは定量分析し、その位置情報を正確に得ることができる全反射蛍光Ｘ線分析方法及びそのために使用する装置を提供する。 - 特許庁

The method is applied to the liquid crystal display element utilizing the vertical orientation film composed of the oblique vapor deposition film of the inorganic oxide, and is characterized by having surface hydroxy groups of the oblique vapor deposition film having been subjected to chemical reaction treatment with a metal alcoholate.例文帳に追加

無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、金属アルコラートで化学反応処理されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for exposure by which the intensity unevenness (illumination unevenness) of exposing light is reduced as much as possible by roughly uniformizing the distribution of the arriving amount of a gas discharged from a resist at the surface of an optical element at the lowermost position of a projection optical system.例文帳に追加

レジスト放出ガスが投影光学系の最下端にある光学素子の表面に到達する到達量の分布を略均一にすることができ、露光光強度ムラ（照度ムラ）を可及的に少なくすること。 - 特許庁

The replica method of adding the resin layer to the surface of the sphere or flat plane substrate by using the negative die 23 which is thus manufactured permits the manufacture of the aspheric optical element highly accurate as compared to the elements of prior arts at a low cost.例文帳に追加

このようにして製作されたネガ型２３を用いて、球面もしくは平面基板表面に樹脂層を付加するレプリカ法により従来より高精度な非球面光学素子が低コストで製作できるようになる。 - 特許庁

To provide a method for producing a formed glass lump highly accurately transcribing the shape accuracy of a mold in the order of μm, and having a high-quality surface state utilizable as a material for producing an optical element by using the porous mold.例文帳に追加

型の形状精度をμｍオーダーで高精度に転写しており、光学素子製造用素材として利用可能な高品質な表面状態の成形ガラス塊を、多孔質の成形型を用いて製造する方法を提供する。 - 特許庁

To stably form a conductive thin film of an element part with good yield by using an ink jet droplet supplying device without depending on a vacuum film formation method or photolithography etching method, for the manufacture of an electron source base plate having a surface conduction type electron emitting element with a large area, and to manufacture an image forming apparatus using the electron source base plate at low cost.例文帳に追加

特に大面積の表面伝導型電子放出素子を有する電子源基板の製造において、素子部の導電性薄膜をインクジェット液滴付与装置を用い、真空成膜法とフォトリソグラフィ・エッチング法によらずに、安定的に歩留まり良く形成することができるようにし、またそれによって電子源基板を有する画像形成装置を低価格で製造できるようにする。 - 特許庁

This method determines a bottom surface and damps electromechanical ribbon elements on a channel having a bottom conductive layer formed under this bottom surface and is provided with a stage, where at least one fixed-amplitude voltage pulse is given to at least one ribbon element, and a stage where damping pulses obtained by dividing the fixed- amplitude voltage pulse by a narrow temporary gap are given to at least one ribbon element.例文帳に追加

底表面を定め、この底表面の下に形成された底導電層を有するチャネル上の電気機械リボン素子を減衰する方法であって、少なくとも一つのリボン素子に少なくとも一つの定振幅電圧パルスを提供する工程と、前記定振幅電圧パルスから狭い一時的なギャップによって分けられた制動パルスを少なくとも一つ前記リボン素子に提供する工程とを有する方法。 - 特許庁

This method has a first process for adding a catalyst element capable of lowering the crystallization temperature of the semiconductor film onto a conductive surface, a second process for forming the first semiconductor film having the crystal structure on the conductive surface added with the catalyst element, and a third process for forming the second semiconductor film containing phosphorus on the first semiconductor film.例文帳に追加

導電性表面上に半導体膜の結晶化温度を低下させることが可能な触媒元素を添加する第１の工程と、触媒元素が添加された前記導電性表面上に、結晶構造を有する第１の半導体膜を形成する第２の工程と、第１の半導体膜上にリンを含有する第２の半導体膜を形成する第３の工程とを有することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a dicing tape-integrated film for a semiconductor back surface, the film which keeps a good detachability when a semiconductor element is picked up, prevents generation of chip scattering and chipping of the semiconductor element when dicing a semiconductor wafer, and prevents cutting water used in dicing from intruding between an adhesive layer and a flip-chip film used for a semiconductor back surface when dicing the semiconductor wafer, and to provide method for producing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子のピックアップの際の良好な剥離性を維持しつつ、半導体ウェハのダイシングの際の半導体素子のチップ飛びやチッピングの発生、ダイシングの際に用いる切削水が粘着剤層とフリップチップ型半導体裏面用フィルムとの間に進入するのを防止することが可能なダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the rare earth magnet includes a step of forming a protective layer containing an oxygen and/or a nitrogen near the front surface of the metal layer, by bringing a mixed chemical seed containing plasma-excited oxygen and/or the nitrogen and a rare gas into contact with the metal layer provided on the front surface of a magnet element containing the rare earth element.例文帳に追加

上記課題を解決する本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類元素を含有する磁石素体の表面上に設けられた金属層に、プラズマ励起された酸素及び／又は窒素並びに希ガスを含有する混合化学種を接触させることにより、金属層の表面近傍部に酸素及び／又は窒素を含有する保護層を形成する工程を有するものである。 - 特許庁

The manufacturing method of an element comprises a step of patterning a mold on a substrate, a step of applying a carbon nanotube in the groove formed by the patterning and on the whole surface of the mold, a step of filling the groove with the carbon nanotube applied on the whole surface of the mold, and a step for removing the mold.例文帳に追加

本発明による素子を製造する方法は、基板の上にモールドをパターニングする段階と、パターニングによって形成された溝及びモールド前面に炭素ナノチューブを塗布する段階と、モールド前面に塗布された炭素ナノチューブを溝に満たして入れる段階及びモールドを取り除く段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of subjecting a semiconductor substrate having a region where a silicide film is formed on a surface to a plasma treatment in a gas atmosphere containing an oxygen element to form an oxide film on the silicide film and a process of forming a silicon nitride film covering the surface of the semiconductor substrate after the oxide film is formed.例文帳に追加

表面にシリサイド膜が形成された領域を有する半導体基板を、酸素元素を含むガス雰囲気中でプラズマ処理してシリサイド膜の上に酸化膜を形成する工程と、その酸化膜を形成した後、半導体基板の表面を覆うシリコン窒化膜を形成する工程と、を備えた。 - 特許庁

This oxygen sensor manufacturing method is provided with a process to make a dope element such as Pb as simple metal adhere to the surface of a platinum electrode provided in one surface of a solid electrolyte body and a process to obtain a detecting electrode by subjecting the platinum electrode to a heating treatment in an inert environment at 900-1500°C.例文帳に追加

本発明の酸素センサの製造方法は、固体電解質体の一面に設けられた白金電極の表面にＰｂ等のドープ元素を単体金属として付着させる工程と、この白金電極を９００〜１５００℃の不活性雰囲気下で加熱処理して検出電極を得る工程と、を備える。 - 特許庁

To provide: a vertical group III nitride semiconductor light-emitting element capable of solving problems of a lateral structure and a flip-chip structure, and increasing the amount of light emitted from the front surface by efficiently reflecting light traveling toward the rear surface out of ultraviolet light generated by a light-emitting layer; and a method of producing the same.例文帳に追加

ラテラル構造およびフリップチップ構造の問題を解決し、さらに発光層で発生した紫外光のうち、裏面に向かう光を効率的に反射して表面からの発光量を増大させることができるバーチカル型III族窒化物半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a non-aqueous electrolyte battery has a process in which a battery element is fabricated by winding a positive electrode, a separator of which at least one surface layer is a heat-resistant porous layer containing an aramid resin, and a negative electrode by using a winding core having a surface of which the contact angle with water is 90° or more.例文帳に追加

正極、少なくとも一方の表面層がアラミド樹脂を含む耐熱性多孔質層であるセパレータ、および負極を、水に対する接触角が９０°以上である表面を有する巻芯により捲回して電池素子を作製する工程を有する非水系電解質電池の製造方法である。 - 特許庁

In a measurement method, a wavefront of light from the optical system to be inspected is measured by using a measuring device including a reflection member having a reflection surface for reflecting the light from the optical system to be inspected, a holding part for holding the reflection member, and a measuring optical system including a reference surface or a wavefront conversion element.例文帳に追加

被検光学系からの光を反射する反射面を有する反射部材と、前記反射部材を保持する保持部と、参照面又は波面変換素子を含む測定光学系とを有する測定装置を用いて、前記被検光学系からの光の波面を測定する測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ferromagnetic tunnel junction element of high MR ratio and high yield, whose film thickness is 1 μm or less and sheet resistance is 0.4 Ω or less having a foundation electrode with an upper surface of small irregularities by an inexpensive device without carrying out surface treatment after film formation.例文帳に追加

１μｍ以下の膜厚でシート抵抗が０．４Ω以下であり、かつ凹凸の小さな上部表面を有する下地電極を持つ、高ＭＲ比かつ高歩留まりの強磁性トンネル接合素子を、成膜後の表面処理を行うことなく、かつ安価な装置にて実現する製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, in the production method of the rare earth magnet by sintering the formed bodies of the magnet raw material powder containing the rare earth element in the state of superposing the formed bodies on each other, the particles having the oxide nuclei 1 containing the oxides and the surface layers 2 covering the surface of the oxide nuclei 1 and containing the rare earth oxides are interposed between the formed bodies.例文帳に追加

また、希土類元素を含む磁石原料粉の成形体を重ね合わせた状態で焼結する希土類磁石の製造方法であって、成形体間に酸化物を含む酸化物核１と酸化物核１表面を覆うとともに希土類酸化物を含む表面層２とを有する粒子を介在させる。 - 特許庁

To provide a method of forming contact plug of a semiconductor element which can suppress formation of voids in a metal layer forming process subsequent to a contact plug forming process by selectively etching a subsequent interlayer insulation film formation of a contact plug so that the surface of the uppermost portion of the contact plug is higher than the surface of the uppermost portion of the interlayer insulation film.例文帳に追加

コンタクトプラグの形成後、コンタクトプラグの最上部の表面が層間絶縁膜の最上部の表面より高くなるように層間絶縁膜を選択的にエッチングすることにより、後続の金属層形成工程の際にボイドの生成を抑制する、半導体素子のコンタクトプラグ形成方法を提供すること。 - 特許庁

In a coupling part for optics, an optical fiber coupling part, and a method for manufacturing an optical element by using the same, the coupling part for optics provided with a through hole with a diameter almost equal to the outer diameter of an optical fiber at a cylinder central part has a flat surface parallel to a cylinder axis on a cylinder outer circumferential surface.例文帳に追加

本発明に係る光学用接続部品、光ファイバ接続部品及びこれを用いた光学素子の製造方法は、円柱中心部に光ファイバの外径とほぼ等しい貫通孔を備える光学用接続部品であって、該円柱の外周面に円柱軸と平行な平坦面を有することを特徴とする。 - 特許庁

There are provided a photoelectric conversion element comprising: a semiconductor laminated body; a silicon layer provided on the semiconductor laminated body; and a diffused transmission layer provided on the silicon layer, in which the silicon layer includes a surface having a plane direction {100} and a surface of the diffused transmission layer is not level, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

半導体積層体と、半導体積層体上に設けられたシリコン層と、シリコン層上に設けられた拡散透過層とを備え、シリコン層は面方位｛１００｝の表面を有し、拡散透過層の表面が凹凸を有する光電変換素子と光電変換素子の製造方法である。 - 特許庁

To provide a substrate coated with an ITO film that has less rugged and flat surface and is free from complicated manufacturing steps such as a heat treatment after coating or polishing a surface of the transparent ITO film, and its manufacturing method, as well as an organic EL element of an unlikely possibility of generating dark spots that a current is low to drive.例文帳に追加

膜表面の凹凸が小さく平坦性に優れ、成膜後の加熱処理や透明ＩＴＯ膜の表面の研磨といった複雑な製造工程が不要なＩＴＯ膜を有するＩＴＯ膜付き基体とそのの製造方法、および駆動電流が低く、ダークスポットが発生しにくい有機ＥＬ素子の提供。 - 特許庁

In its preferable manufacturing method, the rare-earth-based magnet where the corrosion resistance film is formed on its surface is dipped in a film formation treatment liquid containing hydrogenphosphate ions and calcium ions so as to form an inorganic film containing phosphorus and calcium as a constitution element on the surface of the corrosion resistance film.例文帳に追加

その好適な製造方法は、耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、リン酸水素イオンとカルシウムイオンを含む被膜形成処理液に浸漬することで、耐食性被膜の表面にリンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

This method selectively moves an element 14 having a first surface bonded by prescribed bonding force to a support substrate in a delivery side and a second surface capable of touching a support substrate in a receiving side from the support substrate 10 in the delivery side to the support substrate 18 in the receiving side.例文帳に追加

本発明にかかる方法は、受け渡し側の支持基板（１０）から受け取り側の支持基板（１８）に、受け渡し側の支持基板に所定の接着力で接着した第１の表面と、受け取り側の支持基板に接触することができる第２の表面とを有するエレメント（１４）を選択的に移動させる方法である。 - 特許庁

To provide a method of using a surface acoustic wave element by which it is easy to input a burst signal of prescribed frequency and measure the phase of the signal accompanying subsequent revolution, and stability of measurement is secured even with a revolution time and the frequency of an excited surface acoustic wave.例文帳に追加

所定周波数のバースト信号を入力し、その後の周回に伴う信号の位相を測定するのが容易であり、さらに、周回時間と励起する弾性表面波の周波数によっても測定の安定性を確保することが出来る、弾性表面波素子の使用方法を提供することである。 - 特許庁

The method is used to manufacture the inductor element 300, and it includes a step to etch a semiconductor substrate 110 to form a pillar-shaped part 140 wherein a face parallel to the semiconductor substrate 110 in the surface direction is apart from its periphery and a step to form an Au layer 320 on the surface of the pillar-shaped part 140.例文帳に追加

インダクタ素子３００の製造方法であって、半導体基板１１０をエッチングすることにより、半導体基板１１０の面方向に平行な面が周囲から離間した柱状部１４０を形成する工程と、柱状部１４０の表面にＡｕ層３２０を形成する工程とを含む。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes preparing the semiconductor element 10 having a bump electrode 10b arranged on a principal surface, and the circuit substrate 20 having a conductive layer 20b on electrode terminals 10p and 20p, and coating at least a part of a surface of the bump electrode with a bonding material 30 having a lower melting point than the bump electrode and conductive layer.例文帳に追加

バンプ電極１０ｂを主面に配設した半導体素子１０と、電極端子１０ｐ・２０ｐ上に導電層２０ｂを配設した回路基板２０を準備し、バンプ電極の表面の少なくとも一部に、バンプ電極及び導電層より融点が低い接合材３０を被覆する。 - 特許庁

In the membrane washing method, membrane washing particles 4 in which each surface is hydrophilized, and has ruggedness of ≥100 μm are charged inside a bioreaction tank 1, are made to flow by the air lift effect of bubbles jetted from a diffuser 3, and are made to scratch off depositions on the surface of a separation membrane element 2.例文帳に追加

請求項１の発明は、表面が親水化されており、表面の凹凸が１００μｍ以上である膜洗浄粒子４を生物反応槽１中に投入し、散気装置３から噴出する気泡のエアリフト効果により流動させ、分離膜エレメント２の表面の付着物を掻き取らせる。 - 特許庁

Furthermore, the present invention relates to a micro-optical element manufacturing method characterized in including a surface light emission laser production step of producing a surface light emission layer by performing step formation processing to form the plurality of steps on the substrate, and a lens formation step of integrally forming the lens over all the top face of each of the steps.例文帳に追加

また、基板上に複数の段差部を形成する段差部形成処理を行い、面発光レーザを作製する面発光レーザ作製工程と、それぞれの前記段差部の頂上面の全面にレンズを一体的に形成するレンズ形成工程とを含むことを特徴とする微小光学素子の製造方法である。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for changing the charge injection efficiency of a transparent conductive film and, in turn, granting a desired luminescent pattern thereto, the transparent conductive film with a surface modified by using the same having selectively high-luminance luminescent regions and non-luminescent regions, and a charge injection luminescence element.例文帳に追加

透明導電性膜の電荷注入効率を選択的に変化させ、もって所望の発光パターンを付与する表面処理方法、かかる方法により表面改質され、高輝度の発光領域と非発光領域とを選択的に有する透明導電性膜及び電荷注入型発光素子を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of ensuring adequate shape follow-up properties and peelability when a cured product layer is formed on a patterned surface resin layer of a circuit-formed substrate equipped with the surface resin layer, to provide a photosensitive element using the same, and to provide a method for manufacturing a printed wiring board using these.例文帳に追加

パターニングされた表面樹脂層を備える回路形成済基板の表面樹脂層上に硬化物層を形成させる際に、十分な形状追従性及びはく離性を得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びこれらを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of etching a dielectric film at an appropriate etching rate and in good contrast while preventing damage of a base metal film and adhesion of an undesired substance to a surface of the base metal surface, in manufacture of a dielectric element having a base metal film and a dielectric film formed on the base metal film.例文帳に追加

卑金属膜及び該卑金属膜上に形成された誘電体膜を有する誘電体素子の製造において、卑金属膜の損傷、及び卑金属膜表面への不要物の付着を抑制しながら、誘電体膜を適度なエッチングレート且つ良好なコントラストでエッチングすることを可能にする方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treating agent which is suited for a liquid crystal display element equipped with a vertical orientation film composed of an oblique vapor deposition film of an inorganic oxide, and with which the temporal stability, alleviation of an image persistence phenomenon and lightfastness of the orientation are improved through surface treatment of the orientation film, and a method for the treatment.例文帳に追加

無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性、焼き付き現象の緩和及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

This method for processing the iron-based alloy comprises a plasticizing process including strong processing for imparting strain (=ε) corresponding to ≥4 to at least a part of a member formed from the iron-based alloy and a surface treating process for making an element to diffuse and intrude into the obtained strongly processed member from the surface.例文帳に追加

本発明の鉄系合金の加工方法は、鉄系合金で構成された部材の少なくとも一部に相当歪み（＝ε）が４以上となる強加工を含む塑性加工工程と、得られた強加工材に表面から元素を拡散侵入させる表面処理工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a magnetic head which has a floating surface protective film made of only a thin carbon film maintaining a stable adhesion property without using a thin silicon film in order to thin the floating surface protective layer while reducing the dead layer as much as possible on the ion injection read/write element, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

磁気ヘッド浮上面保護膜の薄膜化を推進するため、珪素薄膜を使用しないで、密着性を保ち、かつ、イオン入射によるリード/ライト素子へのデッドレーヤ形成を極力排除した炭素薄膜のみからなる浮上面保護膜をもつ磁気ヘッド及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the rare earth magnet manufacturing method, reactive chemical species formed from gas molecules which are generated by contacting at least one kind of gas molecules with a solid catalyst are contacted with the surface of a magnet elemental body containing a rare earth element, thereby, a protective layer formed of the reactive chemical species is formed on the surface of the magnet elemental body.例文帳に追加

希土類磁石の製造方法は、１種以上の気体分子を固体触媒に接触させて生成した気体分子に由来する反応性化学種を、希土類元素を含有する磁石素体の表面に接触させて、磁石素体の表面上に、反応性化学種に由来する保護層を形成するものである。 - 特許庁

This method comprises a step for forming an element separating film which demarcates the active region and the field region by forming a trench in a specified region on a semiconductor substrate, and then burying an insulating film; and a step for etching the semiconductor substrate in the active region into a specified depth, so that the surface becomes a curved surface.例文帳に追加

半導体基板上の所定の領域にトレンチを形成した後、絶縁膜を埋め込むことにより、アクティブ領域とフィールド領域を画定する素子分離膜を形成する段階と、前記アクティブ領域の半導体基板を所定の深さにエッチングするが、表面が曲面となるようにエッチングする段階とを含む。 - 特許庁