「surface element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing a solar cell device of semiconductor comprises the steps of: doping a semiconductor wafer before a diffusion process with a group IV element on the periodic table, its compound or a mixture containing any of them from the surface layer becoming the light receiving surface side; and repairing crystal damage by annealing.例文帳に追加

また半導体の太陽電池デバイスの製造方法において、拡散工程前の半導体ウエハに対し、元素周期律表の第ＩＶ族元素又はその化合物或いはその何れかを含む混合物を受光面側となる表層からドーピングし、アニーリングにより結晶ダメージを修復することを特徴とする太陽電池デバイスの製造方法の構成とした。 - 特許庁

A band pass filter 3 includes a substrate 11 and a band pass filter element X1 which is a conductive structure being formed on the substrate 11, On the surface of the substrate 11, an oxide film 12 is formed which comprises a SiO_2 film formed with a surface resistivity of 40 KΩ/square or higher by using a TEOS-CVD method.例文帳に追加

基板１１および基板１１上に形成された導電性構造体である帯域通過フィルタ素子Ｘ１を備える帯域通過フィルタ３であり、基板１１の表面には、ＴＥＯＳ−ＣＶＤ法を用いて成膜されたＳｉＯ２膜からなる酸化膜１２が形成されており、その表面抵抗率が４０ＫΩ／□以上である。 - 特許庁

The method for manufacturing a peelable polyimide film laminate includes: a process of subjecting surfaces of polyimide films having benzoxazole skeleton in the molecule to plasma treatment so as to control the surface element ratio O/C to the range of 0.45 to 0.65; and a process of laminating the polyimide films subjected to plasma surface treatment by heating and pressing the films without allowing an adhesive layer to intervene between the films.例文帳に追加

分子中にベンゾオキサゾール骨格を有するポリイミドフィルムの表面をプラズマ処理して、表面元素比率Ｏ／Ｃを０．４５より大きく、０．６５以下に制御し、プラズマ表面処理された当該ポリイミドフィルム同士を、接着剤層を介することなく加熱加圧して積層することを特徴とする剥離性ポリイミドフィルム積層体の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photosensitive resin composition, a photosensitive element and a print circuit board which can obtain a sufficient geometric followability and strippability when a resist is formed on a surface resin layer with a plating resist to be used in gold plating on a circuit of a circuit formation board and the like having a surface resin layer such as a solder resist.例文帳に追加

ソルダレジスト等の表面樹脂層を備える回路形成基板の回路等に金めっきを行うときに用いるめっきレジストで、表面樹脂層上にレジストを形成させる際、十分な形状追従性やはく離性を得ることが可能な感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of marking on the image projected on a surface includes taking in a second image from the surface, detecting presence of a marking point in the second image, and changing of a first image by arranging a graphic element on a location corresponding to the location of the marking point in the second image.例文帳に追加

本開示の実施形態によれば、表面上に投影されたイメージにマーキングする方法は、前記表面から第２のイメージを取り込むこと、前記第２のイメージ内のマーキングポイントの存在を検出すること、および第２のイメージ内のマーキングポイントのロケーションに対応するロケーションにグラフィック要素を配置することにより、第１のイメージを変更することを含む。 - 特許庁

A method of manufacturing the surface emitting laser element includes: laminating a transparent dielectric layer 111a with an optical thickness of λ/4 on an upper surface of a laminated body; forming, on an upper layer thereof, a first resist pattern 120a defining an outer shape of a mesa structure and a resist pattern 120b protecting a region corresponding to a low reflection rate part included in an emitting region; and etching the dielectric layer 111a.例文帳に追加

積層体の上面に、光学的厚さがλ／４の誘電体層１１１ａを積層し、その上面に、メサ構造体の外形を規定するレジストパターン１２０ａ及び出射領域における反射率が低い部分に対応する領域を保護するレジストパターン１２０ｂを形成・硬化させた後、誘電体層１１１ａをエッチングする。 - 特許庁

The method of manufacturing a gallium nitride compound semiconductor element having a p-type gallium nitride semiconductor layer doped with Mg comprises irradiating the surface of the p-type gallium nitride semiconductor layer with ultrasonic waves in at least one treating liquid among strong acids and strong alkalis to pretreat the surface of the layer before resist coating for p-type patterning.例文帳に追加

マグネシウムがドープされたｐ型窒化ガリウム系半導体層を有する窒化ガリウム系化合物半導体素子の製造方法において、ｐ型パターニングのためのレジスト塗布の前に、強酸及び強アルカリの少なくとも１つの処理液中で超音波を照射しながらｐ型窒化ガリウム系化合物半導体層の表面を前処理する。 - 特許庁

In the manufacturing method of semiconductor devices, when a gate insulating film 24 is to be manufactured, silicon and a group III or IV element are deposited in ozone gas atmosphere, the number of molecules in ozone to be supplied onto a substrate surface is set to the same as the number of atoms in the silicon to be supplied onto the substrate surface or more, or preferably, five times larger than the number of atoms.例文帳に追加

ゲート絶縁膜２４を製造するときに、オゾンガス雰囲気中で、シリコンとIII族元素又はIV族元素とを蒸着し、その際に基板表面に供給されるオゾンの分子数を、基板表面に供給されるシリコンの原子数と同じかそれより多くし、好ましくは５倍以上として行なう半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of preventing generation of a spike and conduction failure by fully covering a sidewall surface and bottom surface of a hole with target material in forming the target material as a barrier layer and an Al layer or the like especially on the hole with a high aspect ratio formed on a semiconductor substrate such as an Si wafer.例文帳に追加

Ｓｉウエハ等の半導体基板上に形成された特に高アスペクト比の穴に、バリア層やＡｌ層等となるターゲット材料を成膜した際に、穴の側壁面及び底面をターゲット材料で完全に覆うことを可能にすることにより、スパイクの発生や導通不良の発生を防止することが可能な、半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the solar cell element has steps of preparing a silicon substrate containing a first conductivity-type semiconductor impurity, performing reactive ion etching on a first surface of the silicon substrate, forming the antireflection film on the first surface of the silicon substrate, and printing and sintering silver paste on the antireflection film.例文帳に追加

本発明の太陽電池素子の製造方法は、第1の導電型半導体不純物を含有するシリコン基板を準備する工程と、シリコン基板の第1の面に反応性イオンエッチングを行う工程と、シリコン基板の第1の面に反射防止膜を形成する工程と、反射防止膜に銀ペーストを印刷し焼成する工程と、を有する。 - 特許庁

To provide an improved plasmon element itself important for assisting and supporting various application techniques and utilization techniques and a relatively simple method of high capacity for manufacturing the same, especially to provide a composite film capable of patterning a surface plasmon intensifying field in high density and having the surface plasmon intensifying field low in cost.例文帳に追加

各種応用技術、利用技術の発展を援助し、支えるのに重要な改良されたプラズモン素子自体、及びそのための、比較的簡単で高性能な製造法を提供することを目的とするものであり、特に、表面プラズモン増強場を高密度にパターニングでき、かつ低コストな表面プラズモン増強場を有する複合膜を提供すること。 - 特許庁

In the production method of the rare earth magnet by sintering a formed body of magnet raw material powder containing a rare earth element in the state of placing the formed body on the sintering tool, particles having oxide nuclei 1 containing oxides and surface layers 2 covering the surface of the oxide nuclei 1 and containing rare earth oxides are interposed between the sintering tool and the formed body.例文帳に追加

焼結用治具上に希土類元素を含む磁石原料粉の成形体を載置した状態で焼結する希土類磁石の製造方法であって、焼結用治具と前記成形体との間に、酸化物を含む酸化物核１と酸化物核１表面を覆うとともに希土類酸化物を含む表面層２とを有する粒子を介在させる。 - 特許庁

A method for manufacturing a ferroelectric thin film comprises the steps of forming a seed layer containing an ultra-fine particle powder which contains a constituting element of the ferroelectric thin film, on the surface of a substrate for constituting a substrate prior to a formation of the ferroelectric thin film, forming the ferroelectric thin film on an upper surface of the seed layer, and crystallizing the thin film with the seed layer as a nucleus.例文帳に追加

強誘電体薄膜の形成に先立ち、下地を構成する基板表面に、前記強誘電体薄膜の構成元素を含む超微粒粉を含むシード層を形成し、このシード層の上層に、強誘電体薄膜を形成し、このシード層を核として結晶化を行うようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a system and a method used to compensate for locally enlarged errors and/or focus errors that are generated due to the unevenness of the surface of a pattern generator, a substrate, and/or an optical element, at least in the projection system of a lithography system.例文帳に追加

リソグラフィシステムのパターンジェネレータ、基板および／または少なくとも投影系内の光学素子の表面の不均一性によって生じる局部的な拡大エラーおよび／または焦点エラーを補償するのに使用されるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

This is the transparent surface heating element and its manufacturing method, wherein a mesh-like conductive layer and a transparent resin layer are installed to form an almost same plane on at lease one face of a transparent plate board, and a pair or more of electrodes are equipped on the conductive layer.例文帳に追加

透明な基材の少なくとも一面に網目状の導電性層と透明樹脂層とがほぼ同一平面を形成するように設けられ、導電性層に一対以上の電極を備えている透明面状発熱体、及びその製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing for producing efficiently and continuously a polymer sheet having such excellent characteristics of an optical polymer sheet of a substrate for use in a liquid crystal display element as having neither warpage nor undulation, and an excellent surface smoothness and also having both satisfactory strength and heat resistance.例文帳に追加

反りやうねりがなく、表面平滑性に優れ、充分な強度、耐熱性を兼ね備えた、液晶表示素子用基板等の光学用高分子シートとして優れた特性を持つ高分子シートを効率よく連続生産するための製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating pretreatment method for a metallic surface for a chassis of a vehicle capable of forming a chemical conversion coating which reduces sludge generation without using a phosphorus element as an essential component, is good in wastewater treatality, and has satisfactory adhesion and corrosion resistance.例文帳に追加

リン元素を必須成分とせず、スラッジ発生が極めて少なく、廃水処理性が良好で、かつ、良好な密着性や耐食性を有する化成皮膜を形成することができる車両のシャシ用金属表面の塗装前処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a piezoelectric element comprises a step for making trenches 1a on the surface of a reinforcing plate 1, and a step for bonding the reinforcing plate 1 to a quartz plate (a substrate of piezoelectric material) 2 by introducing an adhesive having fluidity into the trenches 1a of the reinforcing plate 1.例文帳に追加

補強板１の表面に溝１ａを形成する工程と、補強板１の溝１ａに流動性を有する接着剤を導入することによって、補強板１と水晶板（圧電材料からなる基板）２とを接合する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide an image processing checking method and an image processing checking device which can extract an accurate edge element even though much pepper and salt noise caused by surface characteristic is included in an image and also an object to be checked has small variable-density difference of a defected image.例文帳に追加

画像中に表面特性に起因したゴマ塩ノイズが多く含まれ、かつ、欠陥画像の濃淡差が小さい検査対象であっても、精度の良いエッジ要素を抽出可能な画像処理検査方法および画像処理検査装置を提供する。 - 特許庁

In this heater control method, a potential difference between the heater and a ground surface at non energizing time is eliminated by arranging a semiconductor element 2 to a side in which the heater is not grounded and by current carrying control, whereby the leak current is prevented from flowing to the ground side via an insulator.例文帳に追加

本ヒータ制御方法は、ヒータ１の非接地側に半導体素子２を設けて通電制御を行うことで、非通電時にヒータと、接地面との電位差をなくし、絶縁体を介して接地側へリーク電流を流れないようにすることができる。 - 特許庁

In a photocatalytic function element wherein a film of photocatalyst particles 2 having photo-semiconductor particles 2a is formed to the surface of a base material 1 by a low temp. flame spraying method, the particle size of photo-semiconductor particles 2a is set to 25-50 μm.例文帳に追加

光半導体粒子２ａを備えた光触媒粒子２を低温溶射法にて基材１表面に溶射して、前記光触媒粒子２の皮膜を形成した光触媒機能体であって、前記光半導体粒子２ａの粒径を２５〜５０μｍとする。 - 特許庁

To devise the structure of a composite optical function part and a manufacturing method thereof so as to reduce production cost while ensuring high straightness and high surface accuracy by preventing the strain of an optical function element caused by heat strain, the restoration of the elastic deformation of a reinforcing member or the like.例文帳に追加

複合光学機能部品について、熱歪み、補強部材の弾性変形の復元等による光学機能素子の歪みを防止して、高真直度及び高面精度を確保しつつ、製造コストを低減できるように、その構造及び製造方法を工夫する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which prevents a hollow of a solder layer caused by a volume contraction in solder solidification from remaining in the outer edge part of a boundary surface between a semiconductor element and the solder layer, and is strong in thermal stress; and its manufacturing method.例文帳に追加

はんだ凝固時の体積収縮に起因して発生するはんだ層の凹みが半導体素子とはんだ層との境界面の外縁部に残存することを防止し、熱応力に強い半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor optical integrated device 1 forms a shape retaining layer 31 consisting of InP with p-type conductivity on the surface of a contact layer 16 consisting of InGaAs in performing the wet etching for forming an element isolation part 32.例文帳に追加

半導体光集積素子１の製造方法では、素子分離部３２を形成するためのウェットエッチングを行うにあたり、ＩｎＧａＡｓからなるコンタクト層１６の表面に、導電型がｐ型のＩｎＰからなる形状保持層３１を形成している。 - 特許庁

To provide a simple method for producing a superconducting thin film including a superconducting body consisting of a rare earth element, fluorine, iron, arsenic and oxygen while preventing a fluorine compound from being produced as an impurity on a film surface.例文帳に追加

膜表面における不純物としてのフッ素化合物の発生を抑制しながら、簡易な方法で、希土類元素、フッ素、鉄、ヒ素、及び酸素からなる超伝導体を含む超伝導薄膜を形成することができる超伝導薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wire bonding method, wherein tight fitting between a wire and an electrode, especially a wire and an upper surface electrode of a semiconductor element, is possible while the thickness of a semiconductor device is reduced, moreover requiring with no new equipment or lowering in productivity.例文帳に追加

ワイヤと電極との固着、特にワイヤと半導体素子の上面電極とを強く固着できると同時に半導体装置の薄型化が図れ、しかも新たな設備を必要とせず、また装置の生産性を低下させることないワイヤボンディング方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method includes an embedding step to form a buried layer 14 by achieving the growth of semiconductor crystal containing In or Ga as a group III element while supplying oxygen in a step region M1 present on the (100) surface of group III-V compound semiconductor crystal.例文帳に追加

ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体結晶の（１００）面上に存在する段差領域Ｍ１を、酸素を供給しながらＩＩＩ族元素としてＩｎ又はＧａを含む半導体結晶を成長させて埋込層１４を形成する埋込工程を含む。 - 特許庁

To provide a surface heating element manufactured with inexpensive, high-waterproof performance metal thin foils and having high performance, extremely excellent practicality, and epochal waterproof performance at a lower cost than by the conventional manufacturing method.例文帳に追加

コスト安にして防水性能が高い金属薄箔を用いた発熱体を生産でき、従来の製造法に比して安価で高性能な面状発熱体が生産可能となる極めて実用性に秀れた画期的な防水性能を有する面状発熱体を提供すること。 - 特許庁

The magneto-optic defect detection method applies a magnetic field to the object 1 to be inspected to detect a leakage magnetic field generated at a defective part 2 on the surface of the object 1 to be inspected by a magneto-optic effect of light penetrated through a magneto-optic element 10 approximated to the object to be inspected.例文帳に追加

被検査物１に磁界を印加して、その表面の欠陥部２に生じた漏洩磁界を、被検査物に近接させた磁気光学素子１０に透過させた光の磁気光学効果により検出する磁気光学式欠陥検出方法である。 - 特許庁

To provide a projection optical system in which a liquid in a liquid immersion region can be prevented from leaking to the outside of the liquid immersion region when the liquid immersion region is formed in a space of a light emitting surface side of an optical element, and to provide an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の光射出面側の空間に液浸領域が形成された際に、該液浸領域内の液体が液浸領域外に漏出することを抑制できる投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

Next after the protruded part 15 completely passes through the groove 16, the protruded part 15 is engaged to rotate to a position of a recessed part 17 provided in one surface appearing in a water inflow port a of the housing 1, this connecting method prevents looseness due to the resilient force of a temperature sensing element 8.例文帳に追加

次に突部１５が溝１６を完全に通過した後、突部１５をハウジング１の水流入口ａに臨む一方の面に設けられた凹部１７の位置まで回転させ係合し、感温素子８の反発力により緩み防止とした連結方法。 - 特許庁

In the method to manufacture an epitaxial wafer for a nitride semiconductor light-emitting element, an Al_X2Ga_1-X2N (0≤X2≤1) layer 19 is grown on a substrate 11, having the surface made of In_X1Ga_1-X1N (0<X1≤1), at a first temperature T1.例文帳に追加

窒化物系半導体発光素子のためのエピタキシャルウエハを作製する方法では、Ｉｎ_Ｘ１Ｇａ_１−Ｘ１Ｎ（０＜Ｘ１≦１）からなる表面を有する基板１１上に、第１の温度Ｔ１でＡｌ_Ｘ２Ｇａ_１−Ｘ２Ｎ（０≦Ｘ２≦１）層１９が成長される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electronic component device for sealing an electron device by filling a required portion in a wiring board with resin sufficiently with a simple process without inhibiting an electron function in the electron device, such as a surface acoustic wave element.例文帳に追加

簡便な工程により、配線基板に弾性表面波素子等の電子素子の電子機能部を阻害することなく、必要部分には十分に樹脂を充填させ、電子素子を封止することができる電子部品装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial growth method of semiconductor element in which a uniform shape can be formed epitaxially by preventing etching damage of a silicon peripheral insulation film being grown in the surface treatment process of a semiconductor substrate for SEG process.例文帳に追加

ＳＥＧ工程のための半導体基板の表面処理工程において成長させるシリコン周辺絶縁膜のエッチング損傷を防止することにより、均一な形状のエピチャネルを形成し得る半導体素子のエピチャネル形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a field emission display element using a diamond type material that can form displaying pattern by enhancing the efficiency of electron emission from particular spots by forming no projection on the surface of substrate of silicon or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シリコン等の基板の表面に突起を形成することなしに、特定の個所からの電子放出効率を高めることによって、表示パターンを形成することができるダイヤモンド系材料を用いた電界放出表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a quantum wire, which enhances the flatness of the surface of a silicon film subsequent to the formation of the quantum wire and can form the quantum wire having a complete electron confinement region with good controllability, and a semiconductor element having the quantum wire.例文帳に追加

量子細線の形成後のシリコン表面の平坦性がよく、完全な電子の閉じ込め領域を有する量子細線を制御性よく形成できる量子細線の製造方法およびその量子細線を用いた半導体素子を提供する。 - 特許庁

A wiring structure is formed, a background (temperature, current density) is solved by a finite element method, and a diffusion analysis is carried out by the use of an electron wind power proportional to a current density and diffusion coefficients (lattice, grain boundary, interface, surface) related to crystal structures, to obtain void density.例文帳に追加

配線の構造を作成し、背景場（温度、電流密度）を有限要素法で解き、電流密度に比例した電子風力と各結晶構造に関わる拡散係数（格子、粒界、界面、表面）を用いて拡散解析を行い、空孔濃度を求める。 - 特許庁

To provide a target substance detecting element, constituted so as to enable short-time detection of a target substance utilizing surface plasmon resonance with satisfactory detection sensitivity, a target substance detection method that uses it, and a target substance detection therefor.例文帳に追加

表面プラズモン共鳴を利用した標的物質の検出における十分な検出感度と短時間で検出可能である構成を有する標的物質検出用素子、それを用いた標的物質の検出方法、及びそのための装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a grinding-polishing method and a device for improving surface accuracy by restraining the production of a defective workpiece by separating and removing impurities mixed in circulating grinding-polishing liquid when performing grinding-polishing work to an optical element such as a glass lens.例文帳に追加

ガラスレンズ等の光学素子の研削・研磨加工に際して、循環する研削・研磨液中に混入する不純物を分離除去して、被加工物の不良品の発生を抑え、表面精度を向上させることができる研削・研磨方法および装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the organic EL panel 1 is provided with a process to apply a thinning treatment to the support substrate 2 after forming an organic EL element 3, and a process to dispose a color filter 4 on the other surface side of the support substrate 2 after the process to apply the thinning treatment to the support substrate.例文帳に追加

有機ＥＬパネル１の製造方法は、有機ＥＬ素子３形成後に支持基板２を薄厚処理する工程と、支持基板２を薄厚処理する工程後に、支持基板２の他方の面側にカラーフィルタ４を配設する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for profitably producing a continuously cast slab with which the concentration of a solute element on the surface layer part of the cast slab can suitably be adjusted without causing the development of defect in the cast slab and the lowering of productivity caused by the lowering of molten steel temperature in the inner part of a mold.例文帳に追加

鋳型内部の溶鋼温度の低下に起因した鋳片欠陥の発生や生産性の低下を招くことなく、鋳片表層部における溶質元素の濃度を適切に調整することができる連続鋳造鋳片の有利な製造方法を提案する。 - 特許庁

This method comprises: a step (S103) of cleaning the face plate (a) by exposing the face plate to an active species F* of fluorine; and a step (S105) of regenerating a front surface of the face plate (b) by exposing the face plate to a plasma of gas including oxygen as a constituting element.例文帳に追加

この方法は、(ａ)フェースプレートをフッ素の活性種Ｆ^＊に曝して、フェースプレートをクリーニングする工程(Ｓ１０３)と、(ｂ)酸素を構成元素として含むガスのプラズマにフェースプレートを曝して、フェースプレートの表面を再生する工程(Ｓ１０５)とを備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrochemical display element having less display defect during energization by making the surface of an electrochemical display medium smooth, being easily exfoliated from a filter material, and adhering the electrochemical display medium to a substrate and hardly leaving bubbles on an interface.例文帳に追加

電気化学型表示媒体の表面が平滑で、濾過材から剥離しやすく、かつ電気化学型表示媒体が基板と密着していて界面に気泡が残存せず、通電時の表示欠陥の少ない電気化学型表示素子を製造する方法を提供。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a glass optical element such as a glass lens with high surface accuracy by pressure molding a glass material even in a lens whose one or both surfaces are a concave shape and the ratio (b)/(a) between a central thickness (a) and a peripheral thickness (b) is large.例文帳に追加

一方または両方の面が凹形状のレンズであって、中心肉厚ａと周辺肉厚ｂとの比ｂ／ａが大きいレンズであっても、ガラス素材を加圧成形して高い面精度でガラスレンズ等のガラス光学素子を製造できる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light-emitting element of which light extraction efficiency and heat dissipation are improved and prevents cracking on a surface of a growth layer during peeling of a substrate for growth to improve the yield.例文帳に追加

半導体発光素子の光取り出し効率及び放熱性の向上を図るとともに、成長用基板の剥離時における成長層表面でのクラック発生を防止して歩留まり向上を図ることができる半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁