「surface element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To well reproduce a deformation calculating result as compared with a finite-element method when a rubber structure like a green tire constituted by laminating a rubber member on a rubber reinforcing layer is put in a mold and the deformation behavior of the rubber structure, which is caused when the rubber structure is expanded toward the inner surface of the mold, is reproduced.例文帳に追加

ゴム補強層にゴム部材を積層して構成されたグリーンタイヤのようなゴム構造体を金型内に入れ、金型の内表面に向かって拡張する際に生じるゴム構造体の変形挙動を再現する際、有限要素法に比べて変形計算結果を良好に再現する。 - 特許庁

To provide a camera system and a control method, for displaying, on a display device, an image of a wide range with a large field angle of imaging and little distortion, which is obtained using a plurality of free-curved surface prisms and one imaging element, as the image easy to view for a user in a wide dynamic range.例文帳に追加

複数の自由曲面プリズムと１の撮像素子とを用いて得た、撮像する画角が大きく歪の少ない広範囲の画像を、広ダイナミックレンジで、使用者にとって見やすい画像として表示装置に表示させるカメラシステムおよび制御方法を提供すること。 - 特許庁

To enhance stability of shape and thickness of a conductive film 3 formed by liquid dropping method, without applying any hydrophobic surface treatment on a base body 1, when manufacturing a desirable electron emission element with a base body 1, which is covered by an antistatic film 6.例文帳に追加

帯電防止膜６で基体１を被覆した好ましい電子放出素子を製造するに際し、基体１表面に疎水性を付与する表面加工を施すことなく、液滴付与法により得られる導電性薄膜３の形状や厚みの安定性を高めることができるようにする。 - 特許庁

To provide a conductive grinding wheel constituted to be capable of easily preventing intrusion of a metal element into the surface of a polishing object material, while exhibiting high conductivity and facilitating extremely high precision grinding and polishing and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

高い導電性を発揮しつつ、被研磨物の表面に対する金属元素の混入を容易に防止することができるうえ、極めて精度の高い研削・研磨加工を容易に行うことができるように構成された導電性砥石及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an effective material as an active material for a dye-sentitized solar cell and its producing method based on a concept to realize a titanium oxide complex which has a large surface area and where electrons can be efficiently migrated and to develop a photoelectric conversion element using a titanium oxide coated carbon material.例文帳に追加

表面積が大きく、電子の効率的な移動を可能にする酸化チタン複合体の実現をコンセプトに、色素増感太陽電池の活性物質として有効な材料及びその製造方法、並びに該酸化チタン被覆炭素材料を用いた光電変換素子を開発する。 - 特許庁

This method/instrument uses a metal ion having the convergency higher than Ar as a primary ion species, and an oxide 2 of an element reactive with a sample 1 is irradiated with a primary ion 3 under the condition where the oxide 2 is deposited on the surface of the sample 1, so as to generate a secondary ion 4.例文帳に追加

Ａｒより高い収束性を持つ金属元素のイオンを一次イオン種として用いるとともに、試料１と反応性に富む元素の酸化物２を試料１の表面に付着させた状態で一次イオン３を照射して二次イオン４を発生させる。 - 特許庁

The method comprises a step of transferring elements 1 to an adhesive-coated transfer board en bloc which are to be diced on a dicing sheet with connection terminals 11 formed on the surface facing a non-dicing sheet, and a step of picking up each element 1 from the transfer board to mount it on a circuit board 2.例文帳に追加

ダイシングシート上でダイシングされると共に非ダイシングシート側の面に接続端子１１が形成された素子１を、接着剤が塗布された転写基板に一括して転写する工程と、上記転写基板から各素子１をピックアップして回路基板２上に実装する工程とを含む。 - 特許庁

The method of producing the ink-jet recording head for ejecting ink droplets perpendicularly to a substrate surface comprises as the following: Firstly, a first photosensitive material layer having a latent image pattern forming an ink channel, is formed on a first substrate having an energy generating element for ejecting the ink droplets.例文帳に追加

基板面に対して垂直方向にインク液滴が吐出されるインクジェット記録ヘッドの製造方法として、まず、インク液滴吐出のためのエネルギー発生素子を有する第１の基板上にインク流路となる潜像パターンを有する第１の感光性材料層を形成する。 - 特許庁

Regarding the method of producing a hot dip galvannealed steel sheet, in an annealing stage for the steel sheet to be plated, a reactant of an additional element(s) to the steel sheet and components in an annealing atmosphere is formed on the surface layer of the steel sheet.例文帳に追加

合金化溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法において、被めっき鋼板の焼鈍工程で、当該鋼板表層に鋼板添加元素と焼鈍雰囲気の成分との反応物を形成させることを特徴とする合金化溶融めっき鋼板の製造方法。 - 特許庁

The airtight sealing inspection method performs airtight sealing inspection for a multilayer structure such as double glazing, a vacuum cup, and a multilayer diffraction optical element and a vacuum pack packed airtightly with heat seal by obtaining interference fringes on the surface of the object to be inspected and observing a change in the interference fringes caused by pressurization and depressurization.例文帳に追加

ペアガラス、真空コップ、積層型回折光学素子等の複層体や、ヒートシールによる密封包装された真空パックの密封封止検査を、被検査物表面の干渉縞を捉え、更に加圧又は減圧させることによる干渉縞の変化を観察することにより検査する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an ALC member with a long-sized element capable of substantially solving or relaxing at least one kind of the problem that pull-out strength is insufficient and looseness is generated in mounting and the problem that the beauty of the internal surface of the ALC member is damaged.例文帳に追加

引き抜き強度が十分でなく、取り付けに緩みが生ずるという問題及びＡＬＣ部材の内面の美観が損われるという問題の少なくとも一種を実質的に解消し又は緩和し得る、長尺要素を有するＡＬＣ部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of forming the nitride-based semiconductor layer comprises a step of forming a plane (000-1) nearly vertical to a plane (1-100) as the main surface of an n-type GaN substrate 1, and a step of forming a semiconductor laser element layer 2 on the plane (1-100) of the n-type GaN substrate 1.例文帳に追加

この窒化物系半導体層の形成方法は、ｎ型ＧａＮ基板１の（１−１００）面からなる主表面と略垂直に（０００−１）面を形成する工程と、ｎ型ＧａＮ基板１の（１−１００）面上に半導体レーザ素子層２を形成する工程とを備える。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging device which can be improved in the condensing efficiency by reducing a level difference between an effective pixel region including an inner-layer lens and the other light-blocked region while reducing the distance between the inner-layer lens and the light receiving surface of a photoelectric conversion element, and also to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

層内レンズと光電変換素子の受光面との距離の低減を図りながら、層内レンズを含めた有効画素領域とそれ以外の遮光された領域との段差を低減し、集光効率を高めることができる固体撮像装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of forming a side wall without producing a dent on the surface of a substrate at the side wall of a gate electrode so as to stabilize the formation positions of diffusion layer regions, such as a source region, a drain region, etc., and to obtain a semiconductor device uniform in element characteristics.例文帳に追加

ゲート電極側壁の基板表面に掘れを発生させることなくサイドウォールを形成することが可能で、これによりソース／ドレインなどの拡散層領域の形成位置が安定化して素子特性が均一な半導体装置を得ることが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a luminescent element, and its manufacturing method, which, excellent in luminous efficiency, brightness, and durability, can be made in a larger screen, and so can be effectively utilized for a surface light source such as full-color display, backlight, illumination light source or the like, and a light source array or the like such as a printer.例文帳に追加

発光効率、発光輝度及び耐久性に優れ、製造コストが低く、且つ大面積化が可能であるためにフルカラーディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源、プリンター等の光源アレイ等に有効に利用できる発光素子、並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a semiconductor substrate, the SiGe layer is formed on the substrate with a surface composed of a silicon (a), a semiconductor layer is further formed thereon (b) and heat treatment is performed by applying ion injection into the SiGe layer in a wafer region to be an element isolation forming region (c).例文帳に追加

（ａ）表面がシリコンからなる基板上にＳｉＧｅ層を形成し、（ｂ）さらにその上に半導体層を形成し、（ｃ）素子分離形成領域となる基板上の領域におけるＳｉＧｅ層内にイオン注入し、熱処理を行う半導体基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass optical element, such as a glass lens, with high surface accuracy by press forming a glass blank in spite of the lens of which one or both surfaces are a lens of a concave shape or the lens having a large ratio b/a between a central thickness (a) and (b) peripheral thickness (b).例文帳に追加

一方または両方の面が凹形状のレンズであって、中心肉厚ａと周辺肉厚ｂとの比ｂ／ａが大きいレンズであっても、ガラス素材を加圧成形して高い面精度でガラスレンズ等のガラス光学素子を製造できる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a titanium oxide structure that has a large surface area and can achieve an efficient movement of ions and electrons, and to develop a material useful as an active material for a dye-sensitized solar cell, and to provide a method for producing the material, and a photoelectric conversion element using the titanium oxide structure.例文帳に追加

表面積が大きく、イオンと電子の効率的な移動を可能にする酸化チタン構造体の実現をコンセプトに、色素増感太陽電池の活性物質として有効な材料及びその製造方法、並びに該酸化チタン構造体を用いた光電変換素子を開発する。 - 特許庁

To provide the insulating film forming method of a semiconductor device which can improve the reliability of process and the electrical characteristics of element, by minimizing defect generation in the front surface of the insulating film, and by suppressing failures or the like, where a pattern formed on its upper portion becomes thin, or is cut.例文帳に追加

絶縁膜の表面における欠陥発生を最小化し、その上部に形成されるパターンが薄くなり或いは切れる不良などを抑制し、工程の信頼性及び素子の電気的特性を向上させることが可能な、半導体素子の絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

A Ti film 2 is formed on the surface of an alumina substrate 1, a Cu film 3 is formed in film thickness of 3-4 μm by an electroplating method using the Ti film 2 as a foundation layer, and a spiral inductor element I is formed by the pattern shape of the Cu film 3.例文帳に追加

アルミナ基板１の表面にＴｉ膜２を形成した後、このＴｉ膜２を下地層としてＣｕ膜３を電気メッキ法によって３〜４μｍの膜厚に形成し、このＣｕ膜３のパターン形状によって例えば渦巻き形状のインダクタ素子Ｉを形成する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography method in which drawing of a fine pattern can be made in high precision as prescribed on all surface of a substrate, and in a deflection control by a triangular wave deflection signal, drawing operation by electron beams is corrected and a photosensitized drawing of a prescribed element shape can be made rapidly and precisely with a constant dose.例文帳に追加

微細パターンの描画が基板の全面で所定通りに高精度に行え、三角波偏向信号による偏向制御において、電子ビームによる描画動作を修正し、所定のエレメント形状の感光描画が一定のドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。 - 特許庁

To provide a method for solving a display failure, such as stain/unevenness and image persistence due to a chromatographic phenomenon of an impurity coming from materials constructing a liquid crystal display device on an alignment layer surface, or that due to lowering of the voltage holding ratio, in a nematic liquid crystal display element.例文帳に追加

ネマチック液晶表示素子において、液晶表示装置を構成する材料由来の不純物の配向膜表面でのクロマト現象に起因するシミ・ムラ、焼き付き又は電圧保持率の低下に伴う表示不良などの表示不良を解決する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system in which a liquid in a liquid immersion region can be prevented from leaking to the outside of the liquid immersion region when the liquid immersion region is formed in a space of a light emitting surface side of an optical element, and to provide an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の光射出面側の空間に液浸領域が形成された際に、該液浸領域内の液体が光学素子の光入射面側の空間側に漏出することを抑制できる投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electro-optic device manufacturable by a manufacturing method for integrally forming a luminescent layer common to all luminescent elements on a main substrate, and capable of preventing the luminescent layer in the luminescent element from being peeled off or floating when bonding a sealing substrate while adopting full-surface sealing.例文帳に追加

主基板上の全ての発光素子に共通する発光層を蒸着により一括して形成する製造方法により製造可能であり、ベタ封止を採用しつつ、封止基板の接着時における発光素子内の発光層の膜剥がれや浮きを防止する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element capable of preventing the occurrence of a film-thinning phenomenon for relatively thinning the thickness of an oxide film at a boundary surface between an STI(Shallow Trench Isolation) structure and a thick gate oxide film, when a dual gate oxide film process is applied to the normal STI structure.例文帳に追加

ノーマルSTI(normal Shallow Trench Isolation)構造にデュアルゲート酸化膜工程を適用する際に、STIと厚いゲート酸化膜の境界面で前記酸化膜の厚さが相対的に薄くなる薄膜化現象が惹起されることを防ぐことができる半導体素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

In the method for manufacturing an original printing plate by imparting jet energy using the electrical distortion properties of a piezoelectric element and thereby injecting ink droplets to the surface of a matrix for offset printing, an ink composition whose ink weight reduction rate at a room temperature is 15% or more of a total ink amount in 15 minutes, is used.例文帳に追加

圧電素子の電歪性を利用した噴射エネルギを付与することによりインク液滴をオフセット印刷用基体上に噴射させ、印刷原版を作製する方法において、室温でのインクの重量減少率が１５分でインク総量の１５％以上のインク組成物を使用する。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of opening an LSI package and of exfoliating and removing a protective film which covers the surface of a circuit element, a remaining film or the like of a packaging material without using a powerful drug such as a hydrofluoric acid, a fuming nitric acid, and a strong sulfuric acid.例文帳に追加

弗酸、発煙硝酸、濃硫酸といった劇薬を全く用いることなしに、ＬＳＩパッケージの開封および回路素子表面を被覆している保護膜やパッケージ材料残存膜等の剥離・除去作業を行うことができる方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

A method for manufacturing a composite element comprises the steps of: disposing a member close to a surface of a nonwoven fabric formed by a plurality of filaments comprising a thermoplastic polymer material; and heating and compressing the member and the nonwoven fabric to join the nonwoven fabric with the member.例文帳に追加

熱可塑性ポリマー材料を含む複数のフィラメントから形成された不織布帛の表面に近接して部材を配置する工程と、前記部材および前記不織布を加熱、および圧縮して、前記部材を前記不織布帛に結合する工程とを含む、複合要素を製造する方法。 - 特許庁

To surely conduct electric connection between a bonding wire and its lead terminal by thoroughly reducing sticking of resin to the end surface of the inner lead part which is exposed to the cavity part of a formed plastic package, in a method for manufacturing a hollow plastic package for housing semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子収納用中空プラスチックパッケージの作成法において、形成したプラスチックパッケージのキャビティ部に露出するインナーリード部の端部表面への樹脂被着を万遍なく減少し、ボンディングワイヤーとそのリード端子との電気的接続を確実に行うことができるようにすること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a coating liquid for forming a dielectric film, wherein the coating liquid with high preservative characteristics and high stability is suitable for a dielectric layer used for an inorganic EL element, for obtaining the dielectric layer having superior flatness and a fine surface with fewer air gaps.例文帳に追加

保存性の良好な安定性の高い塗布液であって、無機ＥＬ素子に用いる誘電体層等に好適な、平坦性に優れ、空隙の少ない緻密な表面を有する誘電体層を得ることができる誘電体膜形成用塗布液の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the capacitive element comprises the steps of forming a trench on the surface of a base, forming a separate insulation film 2 in the trench, and forming a lower electrode 23 in the bottom of a recess provided at an opposite side to the base, a dielectric layer 24 on the lower electrode and an upper electrode 25 on the dielectric layer.例文帳に追加

基体の表面にトレンチを形成、トレンチ内に分離絶縁膜２を形成し、前記基体と反対側に設けた凹部の底部上に下部電極２３を、前記下部電極上に誘電体層２４を、前記誘電体層上に上部電極２５を、それぞれ形成する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a pad oxide film 9 and a SiN film 10 are stacked on a silicon substrate 1, an element isolation groove (STI) 6 is formed, an embedded oxide film 8 is stacked in STI 6 and on the surface of the silicon substrate 1, and a corrosion-resistant layer (polysilicon layer) 12 covering the whole face is formed.例文帳に追加

シリコン基板１上にパッド酸化膜９、ＳｉＮ膜１０を積層し、素子分離用溝（ＳＴＩ）６を形成した後、ＳＴＩ６内およびシリコン基板１表面に埋め込み酸化膜８を堆積させ、さらに全面を被覆する耐腐食層（ポリシリコン層）１２を形成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device, the side face of the distal end of the electrode 34 is exposed together with the distal end face, by polishing the distal end of the electrode 34 projected from the rear surface 10b of a semiconductor board 10 with a polishing cloth 93 supported through an elastic element 92.例文帳に追加

弾性体９２を介して支持した研磨布９３により、半導体基板１０の裏面１０ｂから突出した電極３４の先端部を研磨することにより、電極３４の先端面とともに電極３４の先端部における側面を露出させる。 - 特許庁

To provide a field emission type electron source element, an electron gun and a cathode-ray tube device each capable of generating an electron beam having small distortion on a display surface and capable of keeping a stable electron emission characteristic regardless of the length of a driving period, and to provide a manufacturing method for a cathode-ray tube.例文帳に追加

表示面における電子ビームの歪みが小さく、駆動時間の長短に関わらず安定した電子出射特性を維持できる電界放出型電子源素子、および電子銃、および陰極線管装置、および陰極線管の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for attaching a long element to a lightweight cellular concrete member to substantially solve or ease at least one kind of the problems that a pull-out strength is insufficient and looseness occurs after attaching, and that the beauty of the inner surface of an ALC member is spoiled.例文帳に追加

引き抜き強度が十分でなく、取り付け後に緩みが生ずるという問題、及びＡＬＣ部材の内面の美観が損われるという問題の少なくとも一種の問題を実質的に解消し又は緩和し得る、軽量気泡コンクリート部材に長尺要素を取り付ける方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method forms the first negative type resist layer having structure serving as the ink flow channel wall on a substrate having an energy generation element, forms the first photodegradable positive type resist layer to cover the first negative type resist layer, and polishes it until exposing a surface of the first negative type resist layer.例文帳に追加

エネルギー発生素子を有する基板の上に、インク流路壁となる構造を有する第一のネガ型レジスト層を形成し、それを被覆するように第一の光崩壊性ポジ型レジスト層を形成した上で、第一のネガ型レジスト層の表面が露出するまで研磨する。 - 特許庁

To provide an optical element machining method capable of preventing the sludge of material for optical elements and abrasion grains from sticking onto the machined surface of the optical elements in grinding and polishing systems without a suction mechanism for sucking optical elements such as lenses or the like.例文帳に追加

レンズ等の光学素子を吸着する吸着機構を有しない研削・研磨等の加工方式において、光学素子の被加工面に光学素子材料のスラッジや砥粒等のスラッジの付着の発生を防止することができる光学素子の加工方法を提供する。 - 特許庁

To realize a method for measuring film thickness and optical constant which requires neither a reflection preventing process for a sample having a thin film formed on a transparent substrate nor a special optical element for removing reverse-surface reflected light and its adjustment for a measurement optical system.例文帳に追加

透明基板５ａ上に薄膜が形成された試料６に対して反射防止処理を必要とせず、測定光学系に裏面反射光を除去するための特別な光学要素もその調整も必要としない膜厚及び光学定数の測定方法を実現する。 - 特許庁

To provide a shaping method for grinding/polishing tool and a grinding tool for shaping, capable of making the working surface of an optical element grinding/polishing tool into a predetermined radius of curvature, sphericity, or flatness with high precision by means of grinding process.例文帳に追加

光学素子の研削・研磨工具の加工面を摺り合わせ加工により所定の曲率半径や真球度または平面度に精度よく製作することができる研削・研磨工具の形状製作方法およびその形状製作に用いる摺り合わせ工具を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of a substrate for organic electroluminescence used for an organic electroluminescent element provided with a glass substrate 11 having a diffraction grating 12 has a process for forming the diffraction grating 12 by applying a dispersion solution of fine particles to the surface of the glass substrate 11.例文帳に追加

回折格子１２を有するガラス基板１１を備える有機エレクトロルミネセンス素子に用いられる有機エレクトロルミネセンス用基板の製造方法において、ガラス基板１１上に微粒子の分散液を塗布することによって、回折格子１２を形成する工程を有する。 - 特許庁

This method of manufacturing magnet includes the step of forming an alkaline silicate coating film on the surface of the main body of the magnet containing a rare-earth element and a step of treating the alkaline silicate coating film with an acidic aqueous solution containing at least one acid selected from among a boric acid, oxalic acid, and sulfurous acid.例文帳に追加

希土類元素を含む磁石本体の表面にアルカリ珪酸塩被膜を形成する工程と、前記アルカリ珪酸塩被膜を、ホウ酸、シュウ酸および亜硫酸から選ばれる少なくとも一つを含む酸性水溶液で処理する工程とを有する磁石の製造方法。 - 特許庁

To realize a method of estimating an internal structure, such as the internal wiring arrangement of a semiconductor element in a simple way, without cumbersome labor such as preparing different types of images, the internal wiring arrangement being hard to locate by visual inspection for obtaining a surface image.例文帳に追加

本発明は、表面画像を得る外観検査からでは発見することができない半導体素子の内部配線状態などの内部構造の推定を、異種画像の準備等に厄介な手間をかけずに簡便に実施できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method includes a process of forming a silicon nitride film 2 by nitriding to a surface layer part of a single crystal silicon substrate 1, thereby obtaining a base material with the nitride film, and a process of injecting hydrogen ions from the side of the silicon nitride film 2 of the base material thereby introducing hydrogen as an element to be measured.例文帳に追加

単結晶シリコン基板１の表層部の窒化によりに窒化シリコン膜２の形成を行って窒化膜付き基材を得る工程と、窒化膜付き基材の窒化シリコン膜２側から水素イオン注入によって測定対象元素たる水素の導入を行う工程とを有する。 - 特許庁

To provide a watery dispersing element for chemical/mechanical polishing that can polish a layer formed of copper and a copper alloy at a high speed and obtain a high quality polished surface that never generates copper residue in manufacturing the semiconductor device and a method for chemically and mechanically polishing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造の際に、銅または銅合金からなる層を高速で研磨することができ、しかも銅残りが生じない高品位の被研磨面が得られる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた半導体装置の化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing a mold for molding an optical element comprises a process for injecting at least oxygen ion into the surface of a chromium-containing mold substrate or into a thin film which is formed on the mold substrate and consists mainly of chromium, and a subsequent process for thermally treating the mold substrate in an atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

クロムを含む型基材の表面または型基材上に形成したクロムを主成分とする薄膜に少なくとも酸素をイオン注入する工程と、イオン注入の後、型基材を酸素を含む雰囲気中で加熱処理する工程とによって製造する。 - 特許庁