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surface element methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2223件
The damage given to the element constituted in an LDD structure by the plasma process performed in the LDD forming step is reduced to the utmost, by forming the element by this method of manufacturing the semiconductor device utilizing a hard mask after a conductive film is formed to cover the whole surface of a substrate.例文帳に追加
基板全面を覆うように導電性膜を形成した状態で、ハードマスクを利用した半導体装置の作製方法でLDD構造の素子を形成することにより、LDD形成工程におけるプラズマプロセスによる素子への損傷を極力低減する。 - 特許庁
To provide a vertical-to-surface current type magnetoresistive effect element, a manufacturing method therefor, a reproducing head, and an information storage device on which it is mounted, where a spiral domain is suppressed form occurring on a free magnetic layer by a sensing current, related to a magnetoresistive effect element operating in a CPP mode.例文帳に追加
CPPモードで動作する磁気抵抗効果素子において、そのセンス電流によって自由磁性層に発生する渦巻き状磁区の発生を抑制した面垂直電流型磁気抵抗効果素子、その製造方法、再生ヘッド、及びこれを搭載した情報記憶装置を得ること。 - 特許庁
The mounting method includes a step of placing a droplet 20 including a dispersion medium 21 and a single element chip 22 in the dispersion medium 21 on one main surface of a board 10, and a step of placing the element chip 22 on the board 10 by eliminating the dispersion medium 21 from the droplet 20.例文帳に追加
分散媒21と分散媒21に入れられた1つだけの素子チップ22とを含む液滴20を、基板10の一主面上に配置する工程と、液滴20から分散媒21を除去することによって、素子チップ22を基板10上に配置する工程とを含む。 - 特許庁
To provide the element isolation formation method of a semiconductor device, that can reduce aspect ratio for forming an element separation film without voids, by minimizing loss in a thermal oxide film on the sidewall of a trench, by completely removing the thermal oxide film on the bottom surface of the trench for normally growing silicon.例文帳に追加
トレンチ側壁の熱酸化膜の損失を最小化し、トレンチ底面の熱酸化膜を完全に除去して正常的にシリコンを成長させて、アスペクト比を減らしてボイドの無い素子分離膜を形成できる半導体素子の素子分離膜形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical element manufacturing method that is capable of manufacturing an optical element having predetermined light distribution characteristics, without creating a density distribution in a transparent layer and without reducing yields, and that is capable of ensuring the flatness of the interface surface between a transparent layer of a microlouver and a light absorbing layer.例文帳に追加
透明層の密度分布を生じさせず、歩留まりの低下を来すことなく、かつ、マイクロルーバの透明層と光吸収層との境界面の平面度を確保することが可能な、所定の配光特性を有する光学素子を製造することができる光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and a device for manufacturing a printable semiconductor element and for assembling the printable semiconductor element on the surface of a substrate, and to provide an extendable semiconductor structure ensuring excellent performance in an extended state, and an extendable electronic device.例文帳に追加
印刷可能半導体素子を製造するとともに、印刷可能半導体素子を基板表面上に組み立てるための方法及びデバイス、及び伸張形態で良好な性能が得られる伸縮可能な半導体構造及び伸縮可能な電子デバイスを提供する。 - 特許庁
To provide a photoelectric conversion module comprising photoelectric conversion array elements each having an element side first electrode and an element side second electrode on the same surface as the incidence/exit part, where reliability of the photoelectric conversion array elements is ensured easily, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
入出射部と同じ面に素子側第1電極及び素子側第2電極を有する光電変換アレイ素子を備え、光電変換アレイ素子の信頼性が容易に確保される光電変換モジュール、及び、光電変換モジュールの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for molding an optical element capable of obtaining a good quality optical element wherein an irregular thickness fault of a molded lens is prevented before molding and an irregular thickness accuracy is improved by detecting the deviation of a preform from the center of the molding surface and performing molding after correcting the deviation.例文帳に追加
予備成形体の成形面の中心からのずれを検知し、ずれを修正した後に成形を行うことにより、成形前に成形レンズの偏肉不良を防止し、偏肉精度の向上を図った良品質な光学素子を得ることができる光学素子の成形方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor light-emitting element that prevents cracks or the like in a semiconductor layer generated by a difference in a thermal coefficient of expansion between a semiconductor layer and a support substrate, and prevents contact deterioration on the junction surface between the semiconductor layer and the support substrate, and to provide a manufacturing method of the semiconductor light-emitting element.例文帳に追加
半導体層と支持基板との間の熱膨張率の違いによって発生する半導体層の亀裂等を防止し、半導体層と支持基板との接合面における接触の悪化が発生しないような半導体発光素子及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of a light emitting element mounting substrate includes a process of selectively etching a surface metal layer 22 laminated on a metal substrate 10 to form a metal protruded part 22b at a mounting position of a light emitting element; and a process of forming an electrode 23a in the vicinity of the metal protruded part 22b.例文帳に追加
金属基板10に積層された表面金属層22を選択的にエッチングして発光素子の搭載位置に金属凸部22bを形成する工程と、その金属凸部22bの近傍に電極部23aを形成する工程と、を含む発光素子搭載用基板の製造方法。 - 特許庁
The method of manufacturing the magnetic powder includes at least a first heating process of heating first powder containing at least a carbon element and an iron element to increase perlite structure contained in the first powder, and a second heating process of mixing second powder containing at least a silicon element with the first powder after the first heating process to make the silicon element to permeate a surface layer of the first powder to be diffused.例文帳に追加
本発明の磁性粉末の製造方法は、少なくとも炭素元素と鉄元素を含む第1粉末を加熱し、その第1粉末に含まれるパーライト組織を増加させる第1加熱工程と、第1加熱工程後に、少なくとも珪素元素を含む第2粉末と第1粉末を混合して加熱し、珪素元素を第1粉末の表層に浸透拡散させる第2加熱工程を少なくとも備えている。 - 特許庁
To provide a further improved ultraviolet sensing element whose manufacturing process is simple, capable of front surface irradiation without being provided with a buffer layer and capable of reliable ultraviolet sensing and measurement for obtaining the ultraviolet sensing element by using a gallium nitride (GaN) semiconductor element having various merits, and to provide its manufacturing method and an ultraviolet sensing system including the ultraviolet sensing element.例文帳に追加
多様な長所を有するガリウムナイトライド(GaN)半導体素子を用いて紫外線感知素子を具現するにおいて、緩衝層を含まなくて前面照射が可能であって、さらに信頼性のある紫外線感知及び測定が可能であり、その製作工程が単純で、さらに改善された紫外線感知素子及びこれの製造方法と紫外線感知素子を含む紫外線感知システムを提供する。 - 特許庁
To form a porous film with a large specific surface area and free from such problems as lack of strength and realize higher efficiency and longer life of a photoelectric conversion element with the use of the same, as to a paste composition for a photoelectric conversion element, a manufacturing method of a porous film for a photoelectric conversion element using the same, and the photoelectric conversion element equipped with the porous film.例文帳に追加
光電変換素子用ペースト組成物、この組成物を用いた光電変換素子用多孔質膜の製造方法、及びこの多孔質膜を備える光電変換素子において、比表面積が大きく、かつ、強度不足などの問題が発生しない多孔質膜を形成するとともに、この多孔質膜を用いることで、光電変換素子の高効率化及び長寿命化を実現する。 - 特許庁
In the method of manufacturing the titanium oxide thin film applied glass plate, the surface compression stress of the glass substrate becomes 20-250 MPa by applying a liquid containing titanium element on the surface of a glass substrate having ≤10 MPa surface compression stress, heating the surface coated with the liquid to 550-700°C of the maximum temperature and cooling under a condition satisfying following formula (1).例文帳に追加
表面圧縮応力が10MPa以下であるガラス基板の表面にチタン元素を含有する液体を塗布し、該液体が塗布された表面を550〜700℃の最高温度まで加熱してから、下記式(1)を満足する条件で冷却して、ガラス基板の表面圧縮応力が20〜250MPaとなるようにする、酸化チタン薄膜被覆ガラス板の製造方法である。 - 特許庁
In the method of manufacturing the semiconductor device having the resistance element 41 comprising a resistance pattern 17b and a metal silicide layer 40 formed on a surface thereof, the method has a step S5 of designing the resistance element 41 so that contact resistance R_c between the resistance pattern 17b and metal silicide layer 40 is included in a design resistance value R_d of the resistance element 41.例文帳に追加
抵抗パターン17bとその表面に形成された金属シリサイド層40とで構成される抵抗素子41を備えた半導体装置の製造方法であって、抵抗パターン17bと金属シリサイド層40との接触抵抗R_cを抵抗素子41の設計抵抗値R_dに含めて抵抗素子41を設計するステップS5を有することを特徴とする半導体装置の製造方法による。 - 特許庁
To provide a surface treatment agent suitable for a liquid crystal display element provided with a vertical alignment layer consisting of an oblique deposition film of an inorganic oxide and capable of enhancing aging stability of alignment and light resistance by surface treatment of the alignment layer and to provide its treatment method.例文帳に追加
無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。 - 特許庁
A manufacturing method of a semiconductor light-emitting element includes the steps of: growing a laminate of GaN based semiconductor layers including light emitting layer, on a GaAs (111) A substrate 1; fixing an electrode surface provided on a surface of the laminate and the conductive substrate with a conductive adhesive; and removing the GaAs (111) A substrate 1.例文帳に追加
本発明による半導体発光素子の製造方法は、GaAs(111)A基板1に発光層を含むGaN系半導体層の積層を成長した後、導電性の接着剤により前記積層表面に設けた電極面と導電性基板とを接着した後、GaAs(111)A基板1を除去する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a board for surface-mounting electronic components capable of preventing cost increase attended with increase in man-hours, by eliminating the increasing in number of steps for manufacturing the board for the surface mount electronic components wherein element electrodes are formed to side faces of the board so as to attain high density.例文帳に追加
端子電極を基板側面に形成し、高密度化を図った表面実装型電子部品用基板の製造にかかる工程の増加をなくし、工数の増加にともなうコストアップが防止できる表面実装型電子部品用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method by which a light emitting element capable of maintaining a high current diffusing effect can be manufactured without growing in advance a thick current diffusing layer on the side of a peeled surface which becomes a light emitting surface, by peeling off a substrate for growing light emitting layer from a light emitting layer section.例文帳に追加
発光層部から発光層成長用基板を剥離して発光素子を製造する際に、光取出面となる剥離面側に電流拡散層を前もって厚く成長する必要がなく、しかも高い電流拡散効果を維持できる発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a vehicular motor-driven compressor and its installation method for pressing a power switch element to a housing outer peripheral surface of the electric compressor by proper pressing force, and facilitating work for installing an inverter circuit part on the housing outer peripheral surface of the motor-driven compressor.例文帳に追加
電力スイッチング素子を適正な押圧力で電動コンプレッサのハウジング外周面に押しつけることができるとともに、インバータ回路部を電動コンプレッサのハウジング外周面に取り付ける作業を容易化することができる車両用電動コンプレッサ及びその組み付け方法を提供すること。 - 特許庁
The method of manufacturing the element has a process of printing an aqueous solution or aqueous dispersion having, for example, an electronic functional substance, such as the conductive polymer, such as PEDOT-PSS, and a surface tension-lowering agent, on the hydrophobic surface formed by, for example, a ferroelectric high-polymer layer.例文帳に追加
例えば、PEDOT−PSSなどの導電性高分子などの電子機能物質と、表面張力低下剤とを有する水溶液又は水分散液を、例えば強誘電高分子層によって形成される疎水性表面上に印刷する工程を有する、素子の製造方法である。 - 特許庁
To provide a method for improving the yield of a semiconductor device for manufacturing high reliability semiconductor device, by preventing particles generated from unevenness formed on the surface of the rear of the semiconductor device excepting the element-forming surface.例文帳に追加
半導体基板の素子形成面を除く裏面などの表面に形成された凹凸からのパーティクルの発生を防止して、半導体装置の歩留りを向上させ、信頼性の高い半導体装置を製造する半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the manufacturing method of an organic EL element, a conductive layer 11 for preventing degradation of a driving circuit 2 by electrostatic from an electrostatic zipper is provided on a second main surface 1b of a substrate 1 or between a first main surface 1a and the driving circuit 2.例文帳に追加
基板1の第2主面1b上に、または、第1主面1aと駆動回路2との間に、駆動回路2が静電チャックからの静電気により劣化するのを防止するための導電層11を設けることを特徴としている有機EL素子の製造方法。 - 特許庁
In the method of washing the inside of the piping, a spiral element molded into the shape of spirally twisting a plate is inserted into the piping, the flow speed of washing liquid on a wall surface inside the piping is increased and thus deposit on the wall surface inside the piping is washed.例文帳に追加
配管内に、平板を螺旋状に捻った形状に成形した螺旋状エレメントを挿入し、配管内壁面における洗浄液の流速を高めることにより配管内壁面の付着物を洗浄することを特徴とする配管内の洗浄方法である。 - 特許庁
To provide a method for analyzing the structural response of an object having an outer surface comprising a plurality of surface portions, for example, structural and warpage analysis of an injection molded part having thin walls, while holding at least some of advantages of a shell element for a thin wall structure.例文帳に追加
薄壁構造のためのシェル要素の利点の少なくともいくつかを保持しながら、複数の表面部分を含む外部表面を有する物体の構造応答を解析する、例えば、薄い壁を有する注入成形部分の構造的及びそり解析する、方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dicing tape-integrated film for a semiconductor back surface allowing an easy detachment when a semiconductor element is picked up with a flip-chip type film for a semiconductor bask surface, thereby improving a production yield, and a method for producing a semiconductor device.例文帳に追加
半導体素子をフリップチップ型半導体裏面用フィルムと一体にピックアップする際にも容易に剥離させることができ、これにより製造歩留まりを向上させることが可能なダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A method for manufacturing the tubular heating element includes: a first step of forming the metallic pattern 12d capable of generating heat by energization on a surface of a resin sheet 171 to obtain a heat generating sheet 17D; and a second step of sticking the heat generating sheet 17D obtained in the first step to the inner circumferential surface of the tubular member 172.例文帳に追加
この製造方法は、樹脂シート171面に通電発熱可能の金属パターン12dを形成して発熱シート17Dを得る第1工程と、第1工程で得た発熱シート17Dを筒状体172の内周面に貼着する第2工程とを含む。 - 特許庁
The optical function film 20 is formed by laminating sequentially a lower layer 22 comprising silicon nitride of high density, an intermediate layer 23 comprising silicon nitride of low density, and a surface layer 24 comprising silicon nitride of high density, by a plasma CVD method, on the surface of an organic light-emitting element of a display panel 10.例文帳に追加
表示パネル10の有機発光素子の表面に、プラズマCVD法により、高密度の窒化シリコンよりなる下部層22と、低密度の窒化シリコンよりなる中間層23と、高密度の窒化シリコンよりなる表面層24とを順に積層して光学機能膜20を形成する。 - 特許庁
To provide a rear-surface film for a flip-chip semiconductor, a dicing tape integrated rear-surface film for a semiconductor, a manufacturing method of a semiconductor device, and a flip-chip semiconductor device that can suppress or prevent the warp of a semiconductor element which is mounted onto an adherend by flip chip connection.例文帳に追加
被着体上にフリップチップ接続された半導体素子に反りが発生するのを抑制又は防止することが可能なフリップチップ型半導体裏面用フィルム、ダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム、半導体装置の製造方法、及び、フリップチップ型半導体装置を提供する。 - 特許庁
The magnetooptical type flaw detection method is constituted by applying a magnetic field to an inspection target 1 and detecting the leak magnetic field produced in the surface flaw part 2 of the inspection target 1 by the rotation of the polarization surface of the linear polarized light allowed to penetrate through the magnetooptical effect element 10 allowed to approach the inspection target 1.例文帳に追加
被検査物1に磁界を印加し、その表面のキズ2部に生じた漏洩磁界を、被検査物に近接させた磁気光学効果素子10に透過させた直線偏光の偏光面回転により検出する磁気光学式欠陥検出方法である。 - 特許庁
To provide a method of fabricating a semiconductor element capable of processing shapes with different etching depths in a same plane easily while suppressing unevenness of a surface without generating induction of defects (group-V atom vacant lattices) nor deterioration in surface morphology caused by desorption of constituent atoms of a semiconductor.例文帳に追加
半導体の構成原子の脱離による欠陥(V族原子空格子)の誘起または表面モフォロジーの劣化を生じさせずに、表面の凹凸を抑制して同一面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁
A method for manufacturing the semiconductor device includes a step of forming an n-type well 13 on a surface region of an Si substrate 12, forming p-type first semiconductor regions 17a, 18a on the surface region of the well 13, and separating the first semiconductor regions 17a, 18a by an element isolation region 11.例文帳に追加
Si基板12の表面領域にn型のウェル13を形成し、このウェル13の表面領域にp型の第1の半導体領域17a,18aを形成し、この第1の半導体領域17a,18aを素子分離領域11で分離している。 - 特許庁
To provide a surface treating agent which is suited for a liquid crystal display element equipped with a vertical alignment layer composed of an oblique vapor deposition film of an inorganic oxide, and with which secular stability of alignment, and light fastness of the alignment layer are improved through surface treatment of the alignment layer, and a method for treating the alignment layer.例文帳に追加
無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。 - 特許庁
This method of manufacturing the glass optical element includes a process step of pressurizing the softened glass blank by a forming die and transferring its forming surface to the glass blank, a process step of cooling the forming die before the glass transferred with the forming surface attains a prescribed viscosity and a process step of taking the cooled glass out of the forming die.例文帳に追加
軟化したガラス素材を、成形型で加圧して、成形面をガラス素材に転写する工程、成形面を転写されたガラスが所定粘度になるまで成形型を冷却する工程、及び成形型から冷却されたガラスを取り出す工程を含むガラス光学素子の製造方法。 - 特許庁
The method for manufacturing the glass optical element includes a step of transferring a forming surface to the glass material by pressurizing a softened glass material by a forming die, a step of cooling the forming die until the glass transferred with the forming surface attains a prescribed viscosity and a step of taking the cooled glass out of the forming die.例文帳に追加
軟化したガラス素材を、成形型で加圧して、成形面をガラス素材に転写する工程、成形面を転写されたガラスが所定粘度になるまで成形型を冷却する工程、及び成形型から冷却されたガラスを取り出す工程を含むガラス光学素子の製造方法。 - 特許庁
A method of manufacturing the semiconductor device of the present invention includes the steps of: forming the groove portion on the semiconductor substrate; forming a first separation film and a second separation film by growing the oxide film on a bottom surface of a first opening and a bottom surface of the groove portion; and forming the PiP capacitive element on the second separation film.例文帳に追加
本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板に溝部を形成し、第1の開口部の底面と溝部の底面に酸化膜を成長させて第1の分離膜及び第2の分離膜を形成し、第2の分離膜上にPiP容量素子を形成する工程を含む。 - 特許庁
To provide a thin film surface acoustic wave device for preventing the damage of a board circuit by a surface acoustic wave element forming process and reducing variation in a parasitic capacity, and to provide a method for manufacturing the device, and a hybrid integrated circuit device.例文帳に追加
弾性表面波素子の形成プロセスによる基板回路の損傷を防止するとともに、寄生容量のばらつきを低減することのできる薄膜弾性表面波デバイス、薄膜弾性表面波デバイスの製造方法及びハイブリッド集積回路装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for carrying a wafer in which the wafer is held tightly on organic polymer after the surface thereof is polished, especially when the polished wafer is thin, so that an element on the surface is not broken and the wafer is protected against fracture and/or deformation.例文帳に追加
ウェハの表面を研磨などの加工処理をした後、特に研磨後のウェハが薄い場合に、該ウェハを有機ポリマーに密着させ保持し、洗浄時に表面の素子の破壊がなく、かつ該ウェハの破断および/または変形などが生じないウェハの搬送方法を提供する。 - 特許庁
To provide a surface finishing agent suitable for a liquid crystal display element provided with a vertical alignment layer consisting of an obliquely deposited film of an inorganic oxide and capable of enhancing temporal stability and light resistance of alignment by surface finishing of the alignment layer and to provide its finishing method.例文帳に追加
無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。 - 特許庁
A small-sized surface acoustic wave device which is close to the form of the surface acoustic wave element 5, its manufacturing method, and a composite module using it are provided, by using resins 6a and 6b which have thermosetting property and photosetting property.例文帳に追加
熱硬化性及び光硬化性を有する樹脂6a,6bを用いることにより、弾性表面波素子5の形状に近い小型のCSP型の弾性表面波装置およびその製造方法、それを用いた複合モジュールを提供することを目的とするものである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an anti reflective film for a solar cell of a uniform film thickness with good productivity within expensive equipment and low power consumption, especially the anti reflective film of a uniform film thickness even on curved surface or a photodetective surface having recesses and projections such as a spherical solar cell element.例文帳に追加
安価な設備で、多くのエネルギーを消費せず、均一な膜厚の太陽電池用反射防止膜を生産性良く製造する方法、特に、球状太陽電池素子などの曲面や凹凸を有する受光面にも、均一な膜厚の反射防止膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
The present invention relates to an acoustic wave device and manufacturing method thereof, wherein the acoustic wave device comprising a piezoelectric substrate 10, an acoustic wave element 11 formed on an upper surface of the piezoelectric substrate 10, and an insulating film 20 formed on a lower surface of the piezoelectric substrate 10 and having visible light transmissivity which is smaller than that of the piezoelectric substrate 10.例文帳に追加
本発明は、圧電基板10と、圧電基板10の上面に形成された弾性波素子11と、圧電基板10の下面に形成され、可視光の透過率が圧電基板10より小さい絶縁膜20と、を具備する弾性波デバイスおよびその製造方法である。 - 特許庁
In this method, an ultraviolet-curable resin 3 is injected into between a mold 1 with a flat surface and glass 2 as an optical element with a concentric circle-like relief pattern formed on the surface, using a dispenser or the like and pressed and cured by irradiating the resin 3 with ultraviolet light through a filter 4.例文帳に追加
表面が平面の金型1と、表面に同心円状のレリーフパターンを有する光学要素であるガラス2の間に、ディスペンサ等により紫外線硬化型樹脂3を注入して押圧し、フィルタ4を通して紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂3を硬化させる。 - 特許庁
To provide a surface treatment method for textile products that can apply fine particle powder of a natural radioactive rare element mineral not only to textile products made of synthetic fibers but also to those made of any kind of fibers so that the powder particles may not peel off from the surface and the fabric hand of the treated fabrics may not be dteriorated.例文帳に追加
合成繊維のみならずどのような種類の繊維にも天然放射線稀有元素鉱物の微粉末を適用でき、しかも、該微粉末が繊維の表面から脱落しにくく、繊維の風合いが悪くならないという両条件を実用的に満たすことができるようにする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a light emitting element which roughens a surface to reduce reflectivity of a surface of a light extraction layer of light emitted from a light emitting layer as compared with a conventional one, in order to improve light extraction efficiency further as compared with the conventional one.例文帳に追加
発光層で発光した光の光取り出し層表面での反射率を従来より減らすことができる程度に表面を粗面化することができる、すなわち従来よりも更に光取り出し効率を向上させることが可能な発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
A method for manufacturing the light-emitting element includes a process for forming the irregularities on the first main surface of the A1_20_3 substrate by using the self-organization pattern of the block copolymer or the graft copolymer and a process for forming the light-emitting layer on the first main surface of the A1_20_3 substrate.例文帳に追加
発光素子の製造方法はブロックコポリマーまたはグラフトコポリマーの自己組織化パターンを用いて、Al_2O_3基板の第一主面に凹凸を形成する工程と、前記Al_2O_3基板の第一主面上に発光層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁
To obtain a semiconductor memory capacitor element which can be made constant in capacitance by a method, wherein the outer and inner wall of a roughened cylindrical storage node are separately controlled in surface roughness so as to be high in flexibility due to the outer and inner wall of the roughened cylindrical storage node becoming unstable in surface roughness, when the node becomes small in wall thickness.例文帳に追加
粗面化した筒状のストレージノードは、その厚みが薄くなると外壁と内壁の粗面形状が安定しなくなるので、外壁と内壁の各粗面形状の大きさを個別に制御できるように自由度をもたせて、安定した容量値を得ることができるようにする。 - 特許庁
In the processing method of optical element, compression forming is performed by using a free curved plane die having the surface roughness Ra ≤6 nm and the shape precision PV ≤1 μm in the superplasticity flow temperature region of the amorphous metal thin film and the surface roughness and shape precision of the free curved plane die is applied.例文帳に追加
加工方法において、非晶質金属薄膜の超塑性流動温度域で、面粗度Ra≦6nm及び形状精度PV≦1μm以下の自由曲面型を用いて圧縮成形し、自由曲面型の表面粗度及び形状精度を付与させる。 - 特許庁
To provide a solid electrolytic capacitor and a method of manufacturing the same in which the surface of a terminal reinforcing material is prevented from being oxidized by forming an oxidation preventing coating layer surrounding the surface of the terminal reinforcing material on the lower side of a capacitor element, when the capacitor is manufactured in a high temperature chamber.例文帳に追加
コンデンサ素子の下側に端子補強材の表面を取り囲む酸化防止コーティング層を形成することによって、コンデンサが高温のチャンバ内で製造される時、該端子補強材の表面が酸化されることを防止する、固体電解コンデンサ及びその製造方法が提供する。 - 特許庁
For the developer particle moved from the agitating carrying roll side to a developing roll side over the moving boundary surface, physical properties thereof are converted to those as an individual particle, and calculation by individual element method is performed (S232-NO, S236 and S238).例文帳に追加
攪拌搬送ロール側から移動境界面を越えて現像ロール側に移動した現像剤粒子に関して個々の粒子としての物性に変換し、個別要素法により計算する(S232−NO,S236,S238)。 - 特許庁
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