「surface element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a solid-state imaging element that prevents crosstalk occurrence and a decrease in sensitivity by making small the thickness from a reverse surface of a microlens array to photodetection portions, to provide a method of manufacturing the same, and to provide an imaging apparatus.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの下面から受光部までの厚さを小さくして、クロストーク発生や感度低下を防止した固体撮像素子とその製造方法および撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic light-emitting element capable of suppressing corrosion and surface oxidation of a first electrode without making a process complicated, and to provide an organic light-emitting display device.例文帳に追加

工程を複雑化することなく、第１電極の腐蝕や表面酸化を抑えることができる有機発光素子の製造方法および有機発光表示装置を提供する。 - 特許庁

In the drawing method of a wiring pattern on the substrate by dropping a solution including an electric conductive component; an oxygen element is included in the substrate on the front surface, the substrate with a critical surface tension smaller than 25 dyn/cm in 25°C of the front surface is used, and the solution with the larger surface tension force than the above critical surface tension is used for the solution.例文帳に追加

導電成分を含む溶液を滴下することによって基板上に配線パターンを描画形成する方法において、基板に酸素元素を表面に含み、その表面の２５℃における臨界表面張力が２５ｄｙｎ／ｃｍより小さい基板を用い、溶液にその表面張力が上記臨界表面張力より大きい溶液を用いる。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for manufacturing an optical element by which in forming with a large mold assembly for a high-accuracy optical element of a large diameter, the temperature distribution of a surface of a thermal homogenization member constituting a stage unit is improved to achieve thermal homogenization, whereby a high-accuracy optical element can be manufactured.例文帳に追加

大口径サイズかつ高精度な光学素子用の大型の金型組立体を使った成形において、ステージユニットを構成する均熱部材の表面の温度分布を改善して均熱化を図り高精度な光学素子を製造することができる光学素子の製造装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

When the piezoelectric layer 24b is formed by a sputtering method in manufacturing, the piezoelectric thin film is heteroepitaxially grown on one surface side of the substrate 20a for element formation while the substrate 20a for element formation is held at a specified temperature of ≥500°C, and then the substrate 20a for element formation is rapidly cooled from the specified temperature.例文帳に追加

製造時、圧電層２４ｂをスパッタ法により形成する際は、素子形成用基板２０ａの温度を５００℃以上の規定温度として素子形成用基板２０ａの一表面側に圧電薄膜をヘテロエピタキシャル成長させた後、素子形成用基板２０ａを規定温度から急速冷却する。 - 特許庁

The method includes imagewise exposing the photopolymerizable element to actinic radiation in the presence of atmospheric oxygen; heating the element to a temperature sufficient to cause a portion of a layer to liquefy; and contacting an exterior surface of the photopolymerizable element with a development medium to allow at least a portion of the liquefied layer to be removed by the development medium.例文帳に追加

方法は、光重合可能な要素を、大気酸素の存在下、化学線に像様露光し、層の一部を液化させるのに十分な温度まで要素を加熱し、光重合可能な要素の外側表面を現像媒体と接触させて、液化層の少なくとも一部を現像媒体により除去することを含む。 - 特許庁

To provide an optical element which dispenses with alignment between a secondary optical source part and a tapered rod array, and can emit homogenized light upon emission from an emission surface at a prescribed angle with respect to incident light and ensures high efficiency of using light, to provide a preparation method of the optical element, and to provide a projection type display apparatus containing the optical element.例文帳に追加

本発明は、２次光源部とテーパロッドアレイの位置合わせが不要となり、入射光に対して所定のコリメート角で出射面の出射に均一化した光を出射することが可能であり、かつ光利用効率が高い光学素子、光学素子の作製方法及び投影型表示装置を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the electric element constituted of arranging an electric element characteristic determination member 3 between a pair of electrodes 2 has a process for adjusting the characteristic values of the electric element by removing a surface substance from the determination member 3 by using electric discharge in gas as a driving force.例文帳に追加

対となる電極２間に電気素子特性決定部材３が配されてなる電気素子の製造方法において、電気素子特性決定部材３に対し気体中での放電を駆動力とする表面物質の除去を施すことで、当該電気素子の特性値を調整する過程を経ることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a heat curing resin sheet of a clay shape and an electronic component device capable of fully filling resin into a required portion and sealing an electronic element by a simple process without hindering any electronic function part of the electronic element of a surface acoustic wave element or the like fixed to a wiring substrate, and a method of manufacturing the electronic component device.例文帳に追加

簡便な工程により、配線基板に弾性表面波素子等の電子素子の電子機能部を阻害することなく、必要部分には十分に樹脂を充填させ、電子素子を封止することができる粘土状の熱硬化型樹脂シート、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver paste for a solar battery element, with which bonding strength (electrode strength) to the substrate for the solar battery element can be assured without coating the electrode surface with solder or the like, and electrodes excellent in long-term reliability can be formed with high productivity, and a method of manufacturing the solar battery element using the same.例文帳に追加

電極表面を半田等で被覆することなく、太陽電池素子用の基板との接着強度（電極強度）を確保し、且つ、その長期信頼性に優れた電極を、高い生産性で作製するための太陽電池用銀ペーストおよびそれを用いた太陽電池素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method is composed of a first process for executing blast treatment, alkali cleaning, or ethanol cleaning on a valve element base material surface corresponding to the sliding surface or on the valve seat base material surface, a second process for executing surfacing, a third process for executing Cr ion bombardment treatment, and a fourth process for forming a CrN film by an ion plating method.例文帳に追加

さらに、本発明の製法は、摺動面に相当する弁体基材表面または弁座基材表面をブラスト処理、アルカリ洗浄またはエタノール洗浄する第１工程、面仕上げをする第２工程、Ｃｒイオンボンバード処理する第３工程、およびイオンプレーティング法によりＣｒＮ被膜を形成する第４工程からなる。 - 特許庁

The method for manufacturing a crystalline optical element, has the step of the surface treatment of the crystalline optical materials is carried out at a temperature lower than the temperature that prevents damage which occurs at the time of surface treatment from being propagated to the inside of the crystalline optical materials, in a surface treatment method for the crystalline optical materials using a particle beam and plasma.例文帳に追加

粒子ビーム及びプラズマを用いた結晶性光学材料の表面処理方法において、表面処理時に発生する損傷の結晶性光学材料内部への伝搬を防ぐ温度以下の温度で、結晶性光学材料の表面処理を行う工程を特徴とする結晶性光学素子の製造方法。 - 特許庁

This method includes a step of setting a tire model separated into a plurality of elements capable of treating with finite element method, a step of setting a road surface model 14 having a fluid model 13 for the surface, in which water film is modeled by separating into a plurality of elements, and a step of making the tire model 11 run on the road surface model 14 based on input conditions.例文帳に追加

有限要素法で取り扱い可能な複数の要素に分割されたタイヤモデル１１を設定するステップと、水膜を複数の要素で分割してモデル化した流体モデル１３を表面に有する路面モデル１４を設定するステップと、入力された境界条件に基づきタイヤモデル１１を前記路面モデル１４上で走行させるステップとを含む。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a gas barrier film, leaving extremely little foreign substances remaining on a film surface and giving no damage to the surface of a gas barrier film, and to provide a packaging material which is extremely clean and has high durability, and an organic electronic device such as an organic photo-electric conversion element and an organic EL element using a gas barrier film produced by the above method.例文帳に追加

本発明の目的は、表面に残存する異物が極めて少なく、かつガスバリア性フィルム表面にダメージを与えないガスバリア性フィルムの洗浄方法及びその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めてクリーンで耐久性の高い包装材料及び有機光電変換素子や有機ＥＬ素子のような有機電子デバイスを提供することにある。 - 特許庁

A method for depositing a thin film on a surface of a base material 5 by the reactive sputtering method uses one or more sputtering targets 3b containing Nb as a principal element and one or more sputtering targets 3a containing Al as a principal element for reactive sputtering to simultaneously deposit films of the components derived from two kinds of sputtering targets on the surface of the base material 5.例文帳に追加

反応性スパッタリング法により、基材５面上に薄膜を形成する方法において、Ｎｂを主成分とするスパッタリングターゲット３ｂとＡｌを主成分とするスパッタリングターゲット３ａをそれぞれ１枚以上用いて、該反応性スパッタリング法を行い、２種の該スパッタリングターゲット由来の成分を該基材５面上に同時に成膜することを特徴とする薄膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a data generating method for generating numerical data for calculation capable of reducing the computational amount and memory amount required for the structural analysis by a finite element method from an analytic model based on the finite element method concerning an analytic model equipped with an attachment such as an electrode for restricting a vibration mode on a part of the surface of a structure.例文帳に追加

構造体の表面の一部に振動モードを拘束する電極等の付着物を設けた解析モデルに対して、有限要素法による解析モデルから有限要素法等の構造解析に必要となる計算量及びメモリ量を減らすことができる計算用数値データを生成するデータ生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide "a distortion-corrected image generation unit and a distortion-corrected image generation method" for accurately correcting distortion of a distortion image even if a lens surface and an image pickup element surface do not perfectly become parallel by crossing on production.例文帳に追加

製造上の交差によってレンズ面と撮像素子面とが完全に平行とならなくても、歪曲画像の歪曲をより正確に補正することができる「歪曲補正画像生成ユニットおよび歪曲補正画像生成方法」を提供する。 - 特許庁

In the transmission optical element having the uneven structure on the surface by which incident light is affected, a layer provided with the uneven structure is formed on at least one side surface of the substrate by a molding method.例文帳に追加

表面に凹凸構造を有し、この凹凸構造によって入射光が作用を受けるように構成された透過型光学素子において、基板の少なくとも一方の表面に凹凸構造を備えた層を成形法によって形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device and a method for its manufacturing, wherein a blocking breakdown voltage at a chip surface part is improved, while a current is prevented from flowing the chip surface part in measuring breakdown voltage characteristics, for preventing element breakages.例文帳に追加

チップ表面部の阻止耐圧を向上させるとともに、耐圧特性測定時にチップ表面部で電流が流れることを防ぐことができ、素子破壊を防止することができる半導体集積回路装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The fixing of the attraction element 10, for example, is done by a method wherein the magnet 4 having a rectangle-shaped attraction surface with a constant thickness and a yoke 3 equipped with a protruding piece 3a are loosely fitted with elastic tongue pieces 1a, 1c formed protrusively from the installation surface 1f through rectangle-shaped lock holes 1b, 1d thereof.例文帳に追加

固定は、例えば吸着面矩形の一定厚みの磁石(4) と突出片(3a)が形成されたヨーク(3) を、取付平面(1f)から突出形成され係止矩形孔(1b),(1d) が形成された弾性舌片(1a),(1c) に遊嵌状態に保持するようにする。 - 特許庁

In the production method, while removing angulation on the surface of the magnet alloy powder by grinding organic solvent slurry containing (A) rare earth element-iron based alloy powder subjected to wet pulverization, in the presence of (B) phosphoric acid, a phosphate film is formed on the surface.例文帳に追加

湿式粉砕した希土類元素−鉄系磁石合金粉（Ａ）を含有する有機溶剤スラリーを、燐酸（Ｂ）の存在下で摩砕することにより、磁石合金粉表面の角張りを取り除きながら、その表面に燐酸塩皮膜を形成させる。 - 特許庁

To provide a polishing device capable of keeping constant polishing speed to maintain stability of polishing in jetting gas to the surface of a polished object from a spray nozzle to polish the surface, and to provide a polishing method, an optical element and an exposure device.例文帳に追加

研磨対象物の表面に気体を噴射ノズルから噴射させて表面研磨を行う際に、研磨速度を一定に保ち研磨の安定性を保つことが可能な研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置を提供する。 - 特許庁

A nitride semiconductor element 10a, 10a' has a glass substrate 11, a ZnO layer 12a arranged on the surface of the glass substrate 11, and a GaN semiconductor layer 13 formed in contact with the surface of the ZnO layer 12a by a spattering method.例文帳に追加

窒化物半導体素子１０ａ、１０ａ’は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の表面に配置されたＺｎＯ層１２ａと、スパッタリング法により形成され、ＺｎＯ層１２ａの表面に接触するＧａＮ半導体層１３とを有している。 - 特許庁

To provide a method of forming a silicon oxide film of good quality on the surface of a silicon wafer by oxidizing the silicon wafer at a low temperature in the formation of the silicon oxide film on the surface of the wafer in the manufacturing process of a semiconductor element and to provide a silicon oxide film manufacturing system.例文帳に追加

半導体素子の製造工程におけるシリコンウェーハ表面への酸化珪素膜の形成において、低温でシリコンウェーハを酸化して、シリコンウェーハ表面に良質の酸化珪素膜の形成方法及びその装置の提供。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor light-emitting element includes a process of cleaving a semiconductor layer composed of a group nitride III-V compound grown on the main surface of a substrate by scribing the rear surface of the substrate.例文帳に追加

基板の主面上に成長した窒化物系III-Ｖ族化合物からなる半導体層において、前記基板の裏面をスクライブすることによって、前記半導体層をへき開する工程を特徴とする半導体発光素子の製造方法。 - 特許庁

The method further includes a step of bonding a formation surface of the wire grid polarizer 30 of the support base 34 onto the insulating layer 26 on the surface of the photoelectric conversion element and a step of removing the support base 34 from the wire grid polarizer 30.例文帳に追加

そして、光電変換素子表面の絶縁層２６上に、支持基体３４のワイヤグリッド偏光子３０形成面を接合する工程と、ワイヤグリッド偏光子３０から支持基体３４を除去する工程とにより、固体撮像装置を製造する。 - 特許庁

To provide a glass preform which can maintain its surface state over a long period of time, which is prevented from the occurrence of surface defects, and which can be prevented from cracking in the press forming and a bad appearance of the surface, and a method of manufacturing a precise optical glass element without generating bad appearance of the surface while preventing the cracking in the press forming.例文帳に追加

長期に渡りプリフォームの表面状態を維持し、表面欠陥の発生を抑止し、プレス成形におけるカン・ワレや表面の外観不良を防止することができるガラス素材、及びプレス成形におけるカン・ワレを防止しつつ、表面の外観不良を生じることなしに、精密光学ガラス素子を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

The reflection surface of the pixel electrode 200 formed by the manufacturing method of the liquid crystal display element is a flat surface on which no recess R exists since a pixel electrode via hole Ca is filled up with an embedded member 210 and a surface of a lower alignment layer 208 formed on the pixel electrode 200 is similarly a flat surface.例文帳に追加

本発明に係る液晶表示素子の製造方法により形成された画素電極２００の反射面は、画素電極ビアホールＣａが埋込部材２１０で充填されているためリセスＲの存在しない平坦な面となり、この画素電極２００上に形成される下部配向膜２０８の表面も同様に平坦な面となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a light emitting substrate capable of forming a layer containing a nano particule iron silicide on a surface region in a simple manufacturing process and a light emitting element manufactured by using this method.例文帳に追加

簡易な作製工程で、表面領域にナノ粒子状鉄シリサイドを含有する層を形成することを可能とする発光基板の作製方法、および、その作製方法を用いて作製した発光素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical element which can equalize the surface accuracy of mass-produced moldings by controlling a time interval when a mold divided into two or more is mold-released in turn and an apparatus for the method.例文帳に追加

二以上に分割した成形型を順に離型するときの時間間隔を制御することにより、大量生産される成形品の面精度を均一化することができる光学素子の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate inspection method allowing inspection of all a plurality of substrates each provided at its surface with a plurality of layers by determining quality of the plurality of layers as well as methods of manufacturing the substrate and an element using the substrate inspection method.例文帳に追加

表面に複数の層が形成される基板の全てについて、当該複数の層の品質を確認することが可能な基板検査方法、当該基板検査方法を用いた基板および素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pre-treatment method of a substrate in the organic EL element manufacturing method in which an appropriate surface treatment to a transparent electrode of metal oxide formed on the substrate can be carried out as well as removal of moisture.例文帳に追加

水分の除去とともに基板上に形成された金属酸化物製の透明電極に対する適切な表面処理を同時に行うことができる有機ＥＬ素子製造方法における基板の前処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a surface acoustic wave element piece where, even if the distance between a contact electrode and the solution face of an electrolytic solution is made short, a short circuit is not generated between the contact electrode and the electrolytic solution, to provide an anodization method, and to provide a wafer.例文帳に追加

コンタクト電極と電解液の液面との距離を短くしても、コンタクト電極と電解液のショートをすることのない、弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法およびウエハを提供する。 - 特許庁

To provide a machining method for a transfer optical surface, restraining chipping of a tool to lengthen the life of the tool and continuously cutting the transfer optical surfaces of a number of optical element forming dies with high accuracy using one tool, an optical element forming die machined by the above method, and an optical element formed by it.例文帳に追加

光学素子用成形金型に用いられる高硬度材料の加工で、工具のチッピングを抑え、工具の寿命を延ばし、１つの工具で多数の光学素子成形金型の転写光学面を連続して高精度に切削加工できる転写光学面の加工方法、それにより加工される光学素子成形金型及びそれにより成形される光学素子を提供する。 - 特許庁

This method for producing a semiconductor device comprising carrying out a flux treatment of solder electrodes and a circuit substrate, joining the circuit substrate to a semiconductor element, then sealing gaps between the semiconductor element and the circuit substrate with an underfilling material comprising an epoxy resin and an amine compound without conducting flux cleaning in an area packaging method for joining the circuit substrate to the semiconductor element having the solder electrodes installed in the circuit surface.例文帳に追加

回路基板に、回路面に半田電極が具備された半導体素子を接合するエリア実装法において、接合前に該半田電極及び該回路基板にフラックス処理を施し、接合後、フラックス洗浄無しにエポキシ樹脂、アミン化合物からなるアンダーフィル材で半導体素子と回路基板の間隙を封止して製造する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide an analysis element chip for surface plasmon resonance fluorescence analysis which is capable of providing an accurate incident angle of a light beam on a predetermined surface of a prism in which an electric field for exciting a fluorescent material contained in a specimen becomes the maximum, and to provide a surface plasmon resonance fluorescence analysis device for analyzing a specimen by using the analysis element chip, and a surface plasmon resonance fluorescence analysis method.例文帳に追加

検体に含まれる蛍光物質を励起させるための電場が最も大きくなるようなプリズムの所定の面への光線の入射角を精度よく求めることを可能とする表面プラズモン共鳴蛍光分析用の分析素子チップ、この分析素子チップを用いて検体の分析を行う表面プラズモン共鳴蛍光分析装置、及び表面プラズモン共鳴蛍光分析方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a light receiving element array and a method for the manufacturing the same, which maintain the crystalline quality of an light receiving layer formed on a group III-V semiconductor substrate to obtain excellent characteristics, and which improve the crystallinity at the surface of a window layer; an epitaxial wafer used for manufacturing the light receiving element array; and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

III−Ｖ族半導体基板上に形成される受光層の結晶品質を保ち良好な特性を得ることができ、且つ窓層表面の結晶性を良好にできる受光素子アレイ及びその製造方法、並びに該受光素子アレイの製造に用いられるエピタキシャルウェハ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to: the method of manufacturing the electrode for the electrochemical element characterized by forming an electrode layer by supplying an electrode material charged by triboelectrification onto at least one surface of a current collector; and the electrochemical element obtained by the method.例文帳に追加

摩擦帯電により帯電させた電極材料を、集電体上の少なくとも一面上に供給することにより電極層を形成させることを特徴とする電気化学素子用電極の製造方法、および前記製造方法により得られる電気化学素子用電極を備える電気化学素子。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor includes a step of treating a surface of a glass substrate with a coupling agent before connecting the semiconductor element with the glass substrate, in the manufacturing method of the semiconductor device including a step of connecting the semiconductor element with the glass substrate via the adhesive mainly containing thermosetting resin.例文帳に追加

本発明の半導体の製造方法は、半導体素子を、熱硬化性樹脂を主成分とする接着剤を介して、ガラス基板に接続することを含む半導体装置の製造方法において、半導体素子をガラス基板に接続するに先立って、予めガラス基板をカップリング剤により表面処理する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting element, the method preventing luminous intensity from decreasing owing to electrode peeling and manufacturing a stable electrode in good yield by preventing GaP etc., at an electrode periphery from being etched when a light-emitting element surface is dipped in an anisotropic etchant to be roughened.例文帳に追加

発光素子表面を異方性エッチング液に浸漬して粗面化する際に、電極周辺のＧａＰ等のエッチングを防止することで、電極剥がれによる発光強度の低下を防止することができ、また安定した電極を歩留りよく製造することのできる発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron emitting element which can perform easily electric field concentration and has excellent electron emitting capacity with good uniformity and stability, and uses a nano carbon material that can be fabricated with a simple process of high controllability, its manufacturing method, and a surface light-emitting element.例文帳に追加

電界集中が容易で、電子放出能及びその均一性、安定性に優れ、かつ簡便で制御性が高いプロセスで作製できるナノ炭素材料を用いた電子放出素子及びその製造方法並びに面発光素子を提供することである。 - 特許庁

The method for manufacturing the active matrix substrate includes: a step of forming an organic protection film for a switching element on a substrate on which the switching element is formed and which at least partially has a surface portion whose contact angle with water is 20° or below (organic protection film formation step).例文帳に追加

スイッチング素子が形成された、水との接触角が２０°以下である表面部分を少なくとも一部に有する基板に、該スイッチング素子の有機保護膜を形成する工程（有機保護膜形成工程）を有する、アクティブマトリックス基板の製造方法。 - 特許庁

This polishing method polishes the optical element molding metal mold 10 by generating a load between a polishing tool 1f forming a shape of a sphere or a part of the sphere and a processing surface 10a of the optical element molding metal mold 10 contacting with the polishing tool 1f.例文帳に追加

球体または球体の一部の形状をした研磨工具１ｆと、研磨工具１ｆが接する光学素子成形用金型１０の加工面１０ａとの間に、荷重を発生させて光学素子成形用金型１０を研磨する研磨方法に関する。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave (SAW) element and manufacturing method thereof in which a frequency is highly accurately adjusted, and frequency stability is improved in a diamond SAW element coping with a frequency increase, in which an IDT is formed on a substrate of a diamond layered structure.例文帳に追加

ダイヤモンド積層構造の基板にＩＤＴを形成した高周波化対応のダイヤモンドＳＡＷ素子において、その周波数を高精度に調整することができかつ周波数安定性に優れたＳＡＷ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for molding a glass optical element by which, even when a part having no heating source is present in a heating device, a molding die member and a glass material for molding can be uniformly heated and the accuracy of the optical functional surface of the glass optical element can be improved.例文帳に追加

加熱源のない部分が加熱装置に存在しても成形型部材及び成形用ガラス素材の均一な加熱を可能にし、ひいてはガラス光学素子の光学機能面精度を向上させることが可能なガラス光学素子の成形方法を提供する。 - 特許庁