| 例文 |
surface element methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2223件
To provide a method of forming a coating film, in which the film thickness of the coating film formed on the surface of an object to be coated is increased at a part corresponding to the corner part of the object to be coated, and a method of manufacturing a piezoelectric element, in which a highly reliable piezoelectric element is easily manufactured by using the method of forming a coating film.例文帳に追加
被塗布物の表面に形成される塗膜の、被塗布物の角部に対応する部分の膜厚を厚くすることができる塗膜形成方法、およびこの塗膜形成方法を用いることにより、信頼性の高い圧電素子を簡単に製造することのできる圧電素子の製造方法を提供すること - 特許庁
Described herein is: the method for manufacturing the nitride semiconductor layer by stacking, on a silicon nitride layer, a first nitride semiconductor layer having a surface inclined with respect to the surface of the silicon nitride layer and then stacking a second nitride semiconductor layer on the first nitride semiconductor layer; the nitride semiconductor element and nitride semiconductor light-emitting element each including the nitride semiconductor layer; and the method for manufacturing the nitride semiconductor element.例文帳に追加
窒化珪素層上に窒化珪素層の表面に対して傾いた表面を有する第1の窒化物半導体層を積層した後に、第1の窒化物半導体層上に第2の窒化物半導体層を積層する窒化物半導体層の製造方法、その窒化物半導体層を含む窒化物半導体素子および窒化物半導体発光素子ならびにその窒化物半導体素子の製造方法である。 - 特許庁
To provide a method allowing a refractive index of the resin layer to be adjusted and the minute shape to be molded, in the method for manufacturing an optical element having a resin layer on the surface of which a minute shape for performing optical path conversion is formed, and to provide the optical element obtained by this manufacturing method for a composition for forming a low refractive index layer which is useful for this manufacturing method.例文帳に追加
光路変換を行うための微細形状が表面に形成された樹脂層を有する光学素子の製造において、樹脂層の屈折率の調整と微細形状の成形とが可能な製造方法、該製造方法により得られる光学素子、及び該製造方法用として有用な低屈折率層形成用組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a method for molding an optical element preventing defects such as a mesh-like appearance, blowhole, a sink due to a shrink difference between an orientation part and a non-orientation part from occurring on the surface of a molded article obtained, in a manufacturing method for obtaining a high precision reflective optical element, etc., by using a thermoplastic resin, and the optical element formed by the method.例文帳に追加
熱可塑性樹脂にて高精度の反射型光学部品等をを得るための製造方法に係り、特に得られた成形品の表面に網目状表面外観不良、気泡の発生及び配向部と未配向部の収縮差による表面ヒケなどの外観不良の発生を防止した成形方法及びその方法で成形された光学部品を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a diffraction optical element, especially, in a sharp asymmetrical saw-tooth shape, preferably, in a right-angled triangular brazed shape with an about 1 to 1.5 aspect ratio as a method for manufacturing a diffraction optical element and a method for manufacturing a diffraction optical element whose sectional shape cut with a diffraction surface is an arbitrary asymmetrical brazed shape.例文帳に追加
回折光学素子の製造方法であって,回折面で切った断面形状が任意の非対称ブレーズド形状の回折光学素子を製造する方法において,とりわけシャープな非対称鋸歯形状の回折光学素子を製造する方法,望ましくはアスペクト比が1〜1.5程度であって,直角三角形ブレーズド形状の回折光学素子とするため方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a single particle film etching mask suitably used for manufacture of a fine structure (luminance improving structure) on the surface of a semiconductor light emitting element, its manufacturing method, a manufacturing method of the fine structure using the single particle film etching mask, and the semiconductor light emitting element having the fine structure on a light extracting surface.例文帳に追加
本発明は、半導体発光素子表面の微細構造体(輝度向上構造)の製造に好適に使用される単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた微細構造体を光取り出し面に有する半導体発光素子に関する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor light-emitting element which further improves the extracting efficiency of emitted light to the outside with the fewer number of steps by forming finer surface concavity and convexity on a side surface concavity and convexity simultaneously, and to provide a semiconductor light-emitting element formed by the method.例文帳に追加
側面凹凸の表面上に、さらに微細な表面凹凸を同時に形成させることにより、発光した光の外部への取り出し効率をさらに向上させた半導体発光素子を、より少ない工程数にて形成する製造方法、および上述の方法にて形成した半導体発光素子を提供することである。 - 特許庁
To provide a direction measuring method of an anisotropic spherical material, a direction measuring device for the anisotropic spherical material, and a manufacturing method of a spherical acoustic surface wave element, capable of determining accurately a direction showing anisotropy, and manufacturing the highly-accurate spherical acoustic surface wave element by forming a thin-film structure at a specified proper position.例文帳に追加
異方性を示す方向を精度良く決定することができ、特定の好適な位置に薄膜構造を形成して高精度な球状弾性表面波素子を作成することができる異方性球状材料の方向測定方法、異方性球状材料の方向測定装置および球状弾性表面波素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
A wire EM simulation method comprises the steps of a face direction determining means 257 for providing a face direction in each surface element of a void surface of a wires, a means 256 for introducing surface energy in each face direction thereof, and a means 255 for calculating the chemical potential in each face direction from this surface energy.例文帳に追加
配線EMシミュレーション方法において、配線のボイド表面の表面要素ごとに面方位を持たせる面方位決定手段257と、これらの面方位ごとに表面エネルギーを導出する手段256と、これらの表面エネルギーより上記面方位毎に化学ポテンシャルを計算する手段255とを有する。 - 特許庁
The method includes: a step of heating the forming surface of a forming element; a step of applying a portion of a first tampon applicator to the forming surface; a step of forming the portion of the first tampon applicator; a step of cooling the forming surface; and a step of removing the portion of the first tampon applicator from the forming surface.例文帳に追加
この方法は、形成要素の形成表面を加熱するステップ、第1のタンポン用アプリケーターの一部を形成表面に当てるステップ、第1のタンポン用アプリケーターの一部を成形するステップ、形成表面を冷却するステップ、および、第1のタンポン用アプリケーターの一部を形成表面から除去するステップを含む。 - 特許庁
This storage element mounting method comprises an arrangement process to arrange storage elements on a sheet constituted of a plurality of layers including a first layer as a base and a thermoplastic second layer and a surface working process to melt at least the surface section of the sheet on which the storage elements are arranged, and to work the surface of the sheet into a predetermined surface shape.例文帳に追加
土台となる第1層と、熱可塑性を有する第2層とを含む複数層からなる用紙に記憶素子を配置する配置過程と、記憶素子が配置された用紙の少なくとも表面部分を溶融し、その用紙の表面が所定の表面形状となるように加工する表面加工過程とを有する。 - 特許庁
To provide a semiconductor light emitting element capable of reducing light circulating in the light emitting element or leaking toward a sidewall for improving light extraction efficiency from a light extraction surface and its manufacturing method, and to provide a semiconductor light emitting device and its manufacturing method.例文帳に追加
半導体発光素子内部を循環したり側壁側へ漏れ出したりする光を減少させ、光取り出し面からの光取り出し効率を向上させることのできる半導体発光素子及びその製造方法、並びに半導体発光装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a building having no surface of steel frames, etc. exposed outside by a building construction method capable of simply constructing a building by using a relatively light structural element, and also provide the structural element used in the building construction method.例文帳に追加
本発明は、鉄骨等の表面が露出しない建築構造物を比較的軽い構造要素体を使って簡単に構築できる建築構造物の構築工法で提供すること、また更に、その建築構造物の構築工法に使用する構造要素体を提供すること。 - 特許庁
To provide a damage evaluation method of a compound semiconductor element member which precisely evaluates the grade of surface damage, a production method of a compound semiconductor element member with the small grade of the damage, a gallium nitride based compound semiconductor member, and a gallium nitride based compound semiconductor film.例文帳に追加
表面のダメージの程度を詳細に評価することができる化合物半導体部材のダメージ評価方法、並びに、ダメージの程度が小さい化合物半導体部材の製造方法、窒化ガリウム系化合物半導体部材及び窒化ガリウム系化合物半導体膜を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing an alloy film in which the surface roughness of an alloy film can be improved when an alloy film is deposited by a physical vapor deposition process, to provide a method for producing a nonlinear element in which the lower electrode is composed of an alloy film, to provide a nonlinear element, and to provide an electrooptical device.例文帳に追加
物理気相堆積法で合金膜を成膜する際に合金膜表面の表面粗さを改善可能な合金膜の製造方法、下電極が合金膜からなる非線形素子の製造方法、非線形素子、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method ensuring a surface area sufficient for applying a measuring needle and easily carrying out the inspection of the performance of an MR element surely regarding a terminal section for a measurement even when the MR element is microtized, and also to provide a wafer for the manufacturing method.例文帳に追加
MR素子が微小化された場合でも、測定用端子部について、測定針を当てるのに十分な平面積を確保し、MR素子の性能検査を容易、かつ、確実に実行しえる製造方法及びこの製造方法に供されるウエハを提供すること。 - 特許庁
To provided a method with which small thermal shrinking and high dimensional accuracy can be obtained at the time of forming fine ruggedness structure on the surface of an optical element by molding and to provide an optical element with dielectric multilayered film which is manufactured using this method and which has high heat resistance and a desired property and durability.例文帳に追加
光学素子表面に微細凹凸構造を成形によって形成する際、熱収縮が小さく寸法精度の高い方法を提供し、これを用いて耐熱性が高く、所望の特性および耐久性を有する誘電体多層膜付き光学素子を提供する。 - 特許庁
To provided a method for molding a fine ruggedness structure on the surface of an optical element with a small thermal shrinkage and a high dimensional accuracy, and to provide the optical element with dielectric multilayered film which is manufactured by using this method and has high heat resustance and desired characteristics and durability.例文帳に追加
光学素子表面に微細凹凸構造を成形によって形成する際、熱収縮が小さく寸法精度の高い方法を提供し、これを用いて耐熱性が高く、所望の特性および耐久性を有する誘電体多層膜付き光学素子を提供する。 - 特許庁
To provide a method with small thermal shrinkage, high dimensional accuracy in the case of forming minute uneven structure on the surface of an optical element by forming and to provide the optical element with dielectric multilayer film having high heat resistance, desired characteristics and durability by using the method.例文帳に追加
光学素子表面に微細凹凸構造を成形によって形成する際、熱収縮が小さく寸法精度の高い方法を提供し、これを用いて耐熱性が高く、所望の特性および耐久性を有する誘電体多層膜付き光学素子を提供する。 - 特許庁
The surface working method is for performing reactive ion etching to the base material 1 made of the silicon carbide, and films 3 and 4 including at least one etching suppressing element selected from an element group including Ni and at least one etching accelerating element selected from an element group including W are turned to etching masks.例文帳に追加
本発明に係る表面加工方法は、シリコンカーバイドからなる基材1に反応性イオンエッチングを行う表面加工方法であって、Niを含む元素群から少なくとも1つ選択されるエッチング抑制元素と、Wを含む元素群から少なくとも1つ選択されるエッチング促進元素とを含む膜3,4をエッチングマスクとするものである。 - 特許庁
The method of manufacturing a light-emitting device includes a first process of applying the sealing member along a side face of the light-emitting element while including the rectangular light-emitting element subjected to flip-chip packaging to the support and the sealing member covering the light-emitting element and a second process of applying the sealing member from an upper surface of the light-emitting element.例文帳に追加
本発明に係る発光装置の製造方法は、支持体にフリップチップ実装された矩形の発光素子と、前記発光素子を覆う封止部材とを有し、前記封止部材を前記発光素子の側面に沿って塗布する第1の工程と、前記封止部材を前記発光素子の上面から塗布する第2の工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁
In this radioactive element detection method, after a sample is dripped on a radioactive element detecting instrument 10 comprising a metal substrate 11 having a holding part 12 to which a radioactive element detecting compound represented by a general formula (1) is bonded by the reaction of the radioactive element detecting compound with the surface of the holding part 12, the sample is irradiated with infrared rays to measure the reflected infrared rays to thereby detect U or Pu.例文帳に追加
下記の一般式(1)で表される放射性元素検出用化合物を表面に反応させて結合させた保持部12を有する金属の基板11からなる放射性元素検出用器具10に試料を滴下した後、赤外光を照射して反射した赤外光を計測することにより、UやPuを検出する。 - 特許庁
The method of manufacturing a glass coat light emitting element includes a step of preparing a light emitting element, a step of preparing a frit paste which is obtained by mixing glass powder, resin, and solvent together, a step of printing the frit paste on the surface of light emitting element, and a step of applying heat to the printed frit paste for sealing the light emitting element with glass.例文帳に追加
本発明のガラス被覆発光素子の製造方法は、発光素子を準備する工程と、ガラス粉末と樹脂と溶剤とを混合して得られたフリットペーストを準備する工程と、発光素子の表面にフリットペーストを印刷する工程と、印刷されたフリットペーストに熱を加えて発光素子をガラスで封止する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of preventing mutual diffusion of a low melting metal and Si of a Si substrate on a rear surface of the Si substrate while forming a silicide layer on a surface of the Si substrate.例文帳に追加
本発明は、Si基板の表面にシリサイド層を形成しつつ、Si基板の裏面における低融点金属とSi基板のSiとの相互拡散を防止できる半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide apparatus and method for manufacturing a semiconductor device which directly coat adhesive agent on the back surface of an element formation surface of a semiconductor wafer in place of an adhesive sheet to form a coating film of the adhesive agent at a desired thickness.例文帳に追加
半導体ウエーハの素子形成面の裏面に、接着シートに代えて、接着剤を直接塗布して、接着剤の塗布膜を所望する膜厚で形成する半導体装置の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical element molding die which has a molding surface improved in adhesion to a film formed by ion implantation and a film-forming surface formed in a method different from that and having high adhesive strength.例文帳に追加
イオン注入によって、イオン注入後に成膜される膜と成形面との密着強度を向上させるとともに、それとは異なる方法で平滑な成膜面で高密着強度を有する光学素子成形用型を提供すること。 - 特許庁
To provide a surface acoustic wave element, a surface acoustic wave sensor, a sensing system, and a stress measurement method, in which when detecting a state of a measurement target based on a reflection power change, the measurement sensitivity of the detection can be increased.例文帳に追加
反射電力変化に基づいて、測定対象の状態を検知する場合に、その測定感度を大きくすることができる弾性表面波素子、弾性表面波センサ、センシングシステム、及び応力測定方法を提供すること。 - 特許庁
In one embodiment, the method includes preparing the surface of the diffusion barrier layer not substantially containing an element metal and forming a metal film on at least a part of the surface by deposition using an organic metal precursor.例文帳に追加
1つの態様において、この方法は、元素金属を実質的に含まない拡散バリア層の表面を用意し、この表面の少なくとも一部分に有機金属前駆体を使用して被着により金属膜を形成することを含む。 - 特許庁
To provide a method for producing a nitride semiconductor element for laminating each layer of a nitride semiconductor on the surface of a GaN substrate having a stripe-shaped dislocation concentrated region penetrated from the surface to the back with a uniform thickness.例文帳に追加
表面から裏面に貫通したストライプ状の転位集中領域を有するGaN基板の表面に窒化物系半導体各層を均一な膜厚で積層する窒化物系半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a nitride semiconductor element having an electrode to come in excellent ohmic contact with a p-type group-III nitride semiconductor layer including a nonpolar or semipolar surface as a principal surface, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
非極性面または半極性を主面とするp型のIII族窒化物半導体層に対して、良好なオーミックコンタクトをとることができる電極を有する窒化物半導体素子およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
The element ratio O (oxygen)/C (carbon) which is measured by the X-ray photoelectron spectroscopy method measurement of a surface on which the deposited film is not provided of the biaxially oriented PET film, on one surface of which the inorganic oxide deposited film is provided, is 0.50 to 0.55.例文帳に追加
片面に無機酸化物蒸着膜を設けた二軸延伸PETフィルムの蒸着膜を設けてない面のX線光電子分光法測定で得られる元素比率O(酸素)/C(炭素)が0.50〜0.55である。 - 特許庁
To provide a display device, in which the electrode on the upper end of a semiconductor light-emitting element that is fixed to a substrate surface by means of an insulation layer, is ledout to the upper surface of the insulation layer by a simple and sure means, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
基体面に絶縁層で固定された半導体発光素子の上端部電極が簡易かつ確実な手段で絶縁層の上面へ引き出された表示装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
Also, a polishing method and a polishing device, by which the grinding part 22 is efficiently formed by pressing the ridge lines 24 and 26 on the radius of a grinding surface by using a grinding element which rotates with an axis being orthogonal to the grinding surface as a pivot, are provided.例文帳に追加
また、研磨面と直交する軸を中心に回転する研磨体を用いて、研磨面の半径上に稜線24、26を押し当て効率良く研磨目22を形成する研磨方法及び研磨装置を提供する。 - 特許庁
The photocatalyst holder is produced appropriately by a method including a process for forming the photocatalyst layer on the surface of the porous substrate and a process for holding the metal element to be concentrated on the surface of the photocatalyst layer.例文帳に追加
この光触媒保持体は、硬質の多孔質基体の表面に光触媒層を形成する工程と、この光触媒層の表面に偏って金属元素を保持させる工程と、を備える方法により好適に製造される。 - 特許庁
To minimize electrode connection failure by improving a bad surface condition of a current breaking layer due to a ridge structure, so that crystallinity and a surface condition of a second conductive type cap layer are improved, in a method for manufacturing a semiconductor laser element.例文帳に追加
本発明は、リッジ構造による電流遮断層の不良な表面状態を改善することにより第2導電型キャップ層の結晶性及び表面状態を向上させ、電極接合不良を最少化する。 - 特許庁
To provide a method for forming a thick film to a substrate without damage thereof having an aperture in one principal surface side, such as a piezoelectric element including a diaphragm, using an economical film forming method such as the screen printing method.例文帳に追加
ダイヤフラム部を有する圧電素子などのような一方主面側に開口部を有する基板に対して、破損させることなく、スクリーン印刷法などの安価な膜形成方法を用いて厚膜を形成させることが可能な方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a heat roller, the method raising adhesion between the inner peripheral surface and the heating element of a base material in the hollow cylindrical shape, and shortening warm-up time; and to provide a fixing device provided with the heat roller manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加
中空円筒形状の基材の内周面と発熱体との密着性を高め得るとともに、ウォームアップタイムを短縮化し得るヒートローラの製造方法、及び該製造方法によって製造されたヒートローラを備えた定着装置を提供する。 - 特許庁
To provide a concave-convex substrate fabrication method for reducing an amount of etching liquid variation between lots and constantly forming a uniform projection-recess structure on the surface and a method for fabricating a photovoltaic element using the concave-convex substrate.例文帳に追加
エッチング液のロット毎のばらつきが少なく、安定して一定の凹凸構造を表面に形成することができる凹凸基板の製造方法及びそれを用いた光起電力素子の製造方法を得る。 - 特許庁
The floor heating construction method is a simple method in which the simple flexible surface- controlled sheet heating element is laid down on the top face with metal foil and heat insulating materials paved on the floorboard, further with a finishing material laid on top.例文帳に追加
本発明の床暖房工法は、可撓性簡易式面制御面発熱体を、床板上に金属箔と断熱材を敷込んだ上面に置敷設させ、更に仕上材を敷設させる簡便な構成となる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a wiring substrate capable of forming a required-shaped resist pattern at a recessed portion including an inclined surface, and a method of manufacturing a semiconductor package mounting a semiconductor element in the recessed portion of the wiring substrate.例文帳に追加
傾斜面を含む凹部に所望の形状のレジストパターンを形成可能な配線基板の製造方法、及び、前記配線基板の凹部に半導体素子を搭載した半導体パッケージの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate treatment method, capable of forming a coating membrane in a highly reliable manner on the surface of an element substrate where micro-structural body is constituted, and also a substrate treatment method able to divide the substrate highly reliably.例文帳に追加
表面に微細構造体が形成された素子基板の表面に、高い信頼性で塗布膜を形成可能な基板処理方法、および、高い信頼性で分割可能な基板処理方法を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing a semiconductor element, a low-concentration doped diamond layer 4 which has a cross section including a direction perpendicular to a surface of a substrate 1 and having a trapezoidal shape of an upper bottom side shorter than a lower bottom side, is formed on the substrate 1 by an epitaxial growth method.例文帳に追加
基板1上に、エピタキシャル成長により、基板1の表面に対して垂直な方向を含む断面が下底よりも上底が短い台形形状である低濃度ドープダイヤモンド層4を形成する。 - 特許庁
To provide an elemental analysis method by which a metal impurity element present locally on the surface of or inside a semiconductor substrate and the like can be detected and quantified in a practically feasible period of time, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device which is implemented on an inline basis.例文帳に追加
半導体基板等の表面または内部において局所的に存在する金属不純物元素を現実的な時間内で検出、定量可能な元素分析方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the plate comprises the steps of discharging the low surface tension liquid capable of passing through the pores in the printing element part of the desired print image by an ink jet method, and giving the liquid to the pores.例文帳に追加
また、所望の印刷画像の画線部において上記気孔内を通過できる低表面張力液体をインキジェット方式により吐出させて気孔に付与することにより孔版印刷用版を製造する。 - 特許庁
To provide a grinding method by a rotary grinding wheel capable of eliminating polishing processing after grinding reduced in grinding surface roughness, a molding metal mold formed by the method, and an optical element transferred by the metal mold.例文帳に追加
研削面粗さが小さく、研削後の研磨加工を不要とできる回転砥石による研削加工方法、及びそれにより形成された成形用金型、並びにそれにより転写された光学素子を提供する。 - 特許庁
To provide a bonding method with which the diffusion of flux to an element to be housed in a sealed container using a solder comprising a surface acoustic wave (SAW) device is completely prevented, in the bonding method for the container.例文帳に追加
弾性表面波装置を構成するはんだを用いた密閉容器の接合方法で、容器内部に収納する素子に対し、フラックスの飛散を全廃する接合方法を実現することを目的とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a surface emitting semiconductor laser element capable of fully removing impurities on a re-growth interface, in a hybrid method which uses both an MOCVD device and an MBE device.例文帳に追加
MOCVD装置とMBE装置をともに用いるハイブリッド法において、再成長界面の不純物を十分に取り除くことができる面発光半導体レーザ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The method comprises the steps of forming a surface layer of Si dope without affecting a device characteristic even though VI element such as Se attaches on the surface of an epitaxial by memory effect, or removing the surface in a very high Se concentration caused by the memory effect before proceeding to a device forming process.例文帳に追加
エピタキシャル表面にメモリー効果でSe等のVI族元素が付着しても、デバイス特性に影響を与えないSiドープの表面層を形成するか、メモリー効果によって表面のSe濃度が非常に高くなっていても、その部分をデバイス作成プロセスに入る前に予め除去する。 - 特許庁
In a fabricating method for an antenna system for a vehicle, a magnet 30 having an attraction surface of the same shape as the element of an antenna is installed on an outer surface 14a of the component body (spoiler 14), and metal powder 20A having magnetism is supplied to an inner surface of the component body.例文帳に追加
車両用アンテナ装置の製作方法であって、アンテナのエレメントと同形状の吸着面を有する磁石30を部品本体(スポイラー14)の外側面14aに設置するとともに、該部品本体の内側面に磁性を有する金属粉20Aを供給する。 - 特許庁
In this method for producing a phosphor layer of a prescribed pattern on an inner surface of a transparent panel 12 to be a display screen of the cathode-ray tube, the phosphor layer is exposed as an outer surface of the transparent panel 12 is pressurized at a constant pressure by a pressure element 30 toward the inner surface of the panel.例文帳に追加
陰極線管の表示画面となる透明パネル12の内面に所定パターンの蛍光体層を作製する方法において、透明パネル12の外面をパネルの内面に向けて加圧子30により一定圧力で加圧した状態で、蛍光体層に対して露光を行う。 - 特許庁
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