「surface element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

In the color changing property inspection method of the rubber product, a pressure element 2 is pressed on the surface of the rubber molding 1 to be inspected to apply contact pressure of 200 kPa or more, to inspect the presence or absence of color changing or degree of color changing on the surface of the rubber molding before and after applying the contact pressure.例文帳に追加

被検査用のゴム成形体１の表面に加圧子２を押し当てて２００ｋＰａ以上の面圧を負荷し、該面圧負荷前後におけるゴム成形体表面の変色の有無又は変色の程度を検査するゴム製品の変色性検査方法である。 - 特許庁

To provide a device and method for evaluating optical element, by which an aberration on the surface of a lens can be predicted from the form errors of the surface of the lens or the form errors of a mould used for molding the lens, and the lens can be evaluated from the predicted aberrations.例文帳に追加

レンズ面の形状誤差またはそれを成形するための金型の形状誤差からレンズ面における収差を予測し、予測した収差からレンズの評価を行い得る光学素子評価装置および光学素子評価方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical element using a thin plate having a rugged part formed on the surface of a substrate by dry etching and the like, wherein the surface of the substrate which lacks Li by its external diffusion is repaired and breakage of the substrate is suppressed.例文帳に追加

ドライエッチングなどにより基板表面に凹凸部を形成した薄板を使用する光学素子の製造方法において、Ｌｉの外拡散で欠乏した基板表面を補修すると共に、基板の破損を抑制した光学素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

At first, a silicon nitride film 7 having a first thickness is formed on an entire surface of an element region, and next after the silicon nitride film is removed only from the region having a second thickness, again the silicon oxide is formed on the entire surface by the method combined oxidation with nitriding.例文帳に追加

最初に素子領域全面に第１の厚みを持つシリコン窒化膜７を形成し,次に第２の厚みを形成する領域のみシリコン窒化膜を除去した後、再び全面に酸化と窒化を組み合わせた方法によりシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

According to the method of manufacturing the surface acoustic wave element 22, the electrode pattern 20 having a high size accuracy is easily manufactured, compared with the conventional manufacturing method needing a deposition processing of an antireflective film, taking a much labor and time.例文帳に追加

すなわち、この弾性表面波素子２２の製造方法によれば、多大な手間と時間を要する反射防止膜の成膜処理が必要な従来の製造方法に比べて、寸法精度の高い電極パターン２０を容易に作製することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of electronic component mounting flip chip with which contact failure between bump electrode and electrode of the mounting substrate can be reduced even when the bump electrode is not pressed extensively to the mounting substrate, a manufacturing method of electronic device, and an elastic surface wave element.例文帳に追加

バンプ電極を実装基板に強く押し付けなくてもバンプ電極と実装基板の電極との接触不良を低減できるフリップチップ実装電子部品の製造方法、電子デバイスの製造方法、及び弾性表面波素子を提供する。 - 特許庁

The thin film stripping test method and the apparatus use a method for testing and beating the test piece (3) having the thin film (3b) formed on one surface and fixed to a support table (15) on the side (3D) opposite to the thin film by using the mass element (14) such as the hammer etc.例文帳に追加

本発明による薄膜剥離試験方法および装置は、一表面に薄膜（３ｂ）が形成され支持台（１５）に固定された試験片（３）の反薄膜側（３Ｄ）を質量体（１４ハンマ等）により打撃して試験する方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the compound semiconductor element comprises steps of forming a groove 9 to form the side face of a chip body by mesa etching or half dicing, and then forming a silicon nitride film (SiN film) as a protective film so as to coat the upper surface and the side face of the chip body by a plasma CVD method.例文帳に追加

メサエッチング又はハーフダイシングを行って、チップ本体の側面をなすべき溝９を形成した後、プラズマＣＶＤ法により、チップ本体の上面および側面を覆うように保護膜としての窒化シリコン膜（ＳｉＮ膜）を形成する。 - 特許庁

To provide a method for uniformly adhering thermoplastic resin particles in a simple method to the surface of spherical particles capable of functioning as a spacer giving gaps suitable for liquid crystal display element.例文帳に追加

液晶表示素子の用途に適合したギャップを与えてスペーサーとして機能し得る球状粒子の外表面に、加熱により接着性を発現する熱可塑性樹脂粒子を簡便な手段でかつより均一に付着させる方法を提供すること。 - 特許庁

A ZnO single crystal substrate S which is formed through a hydrothermal synthesis method is used as a substrate, and an element layer 11 of ZnO compound is formed on the main surface of the ZnO single crystal substrate S through an epitaxial growth method.例文帳に追加

基板として水熱合成法にて形成されたＺｎＯ単結晶基板Ｓを用いるとともに、該ＺｎＯ単結晶基板Ｓの主表面上に、エピタキシャル成長法にてＺｎＯ系化合物からなる素子層１１を形成させる。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL element comprises a process 1 of vapor-depositing a material containing alkali metal or alkali earth metal on the surface of a sputter target for a cathode electrode material, and a process 2 of forming a cathode electrode film by a sputtering method.例文帳に追加

カソード電極材用スパッタターゲット表面に、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属元素を含む材料を蒸着する工程１と、カソード電極をスパッタ成膜する工程２を有する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce with superior reproducibility in-plane uniformity of a TaN film to be used as a barrier layer of a semiconductor element by a method wherein the peak intensity in a specified direction measured by an X rays diffraction method is specified on the surface of a sputtering target composed of high pure TaN.例文帳に追加

Ｃｕ配線のバリア層などとして用いられるＴａＮ膜において、膜厚の面内均一性を例えば5%以下とすることが望まれており、そのようなＴａＮ膜を再現性よく得ることを可能にしたスパッタターゲットが求められている。 - 特許庁

To provide a method for wet dispersing fine particles, which is used for preparing slurry in which the fine particles are dispersed while suppressing agglomeration due to the exposure of the active surface of the particle and keeping almost primary particle size and to provide the slurry prepared by the method for wet dispersing fine particles and an optical element.例文帳に追加

微粒子の活性面の露出による凝集を抑え、微粒子がほぼ一次粒子径で分散したスラリーを製造するための微粒子の湿式分散方法、それを用いて製造されたスラリー及び光学素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for manufacturing highly reliable semiconductor device with less contamination with metal at the surface where an element is formed, and also to provide a semiconductor device manufactured with the relevant method.例文帳に追加

本発明の目的は、素子の形成されている面における金属汚染量が少なく、信頼性の高い半導体装置を製造する半導体装置の製造方法、および当該方法により製造される半導体装置を提供することである。 - 特許庁

In this method of manufacturing the actuator element, metal electrodes in the mutually insulated state are formed on the surface of an anion exchange resin formed product, and an electronic conductive high polymer film is formed on the metal electrodes by an electrolytic polymerization method.例文帳に追加

アニオン交換樹脂成形品の表面に、相互に絶縁状態で金属電極を形成し、次いで、該金属電極上に、電解重合法によって電子導電性高分子膜を形成することを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法。 - 特許庁

To provide a cleaning method for a separation membrane element capable of efficiently removing especially contamination adhered on a membrane surface near a raw water side by cleaning the separation membrane in the separation membrane element by flowing a cleaning liquid in a direction opposite to a raw water inflow direction in water production when a spiral type separation membrane element is loaded in a pressure vessel.例文帳に追加

スパイラル型分離膜エレメントを圧力容器内に装填した際に、洗浄液を造水時の原水流入の方向とは逆の方向へ流すことにより分離膜エレメント内の分離膜を洗浄し、特に原水側付近の膜面に付着した汚れを、効率良く除去することができる分離膜エレメント洗浄方法を提供する。 - 特許庁

In this method, a procedure for forming a hardened layer mainly composed of an amorphous alloy by evaporating an optional element in inert gas plasma, or a procedure for forming a hardened layer mainly composed of an amorphous alloy by evaporating an optional metal component element in gas plasma including inert gas and a semimetal component element is applied onto the surface of the timepiece exterior component.例文帳に追加

時計外装部品の表面に、不活性ガスプラズマ中で任意の元素を蒸発させてアモルファス合金を主体とする硬化層を形成させる手法、または不活性ガスと半金属成分元素を含むガスプラズマ中で任意の金属成分元素を蒸発させてアモルファス合金を主体とする硬化層を形成させる。 - 特許庁

In an ultrasonic sensor element 20 composed of a piezoelectric sensor which is formed by holding a ferroelectric body between two electrodes has a predetermined resonant frequency and detects an ultrasonic wave, an ink or film forming material is applied on a surface of the ultrasonic sensor element by using an ink jet printing method to adjust the resonance frequency of the ultrasonic sensor element.例文帳に追加

強誘電体を２つの電極で挟設してなり、所定の共振周波数を有して超音波を検出する圧電センサにてなる超音波センサ素子２０において、超音波センサ素子の素子面に対して、インクジェット印刷法を用いてインク又は膜形成材を塗布することにより超音波センサ素子の共振周波数を調整する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric oscillator having an insulating resin in a gap between the other main surface of a substrate portion of an element mounting member and an integrated circuit element that prevents separation from an integrated circuit element mounting pad and inclination of a piezoelectric oscillator; and to provide a method for manufacturing the piezoelectric oscillator to improve productivity.例文帳に追加

素子搭載部材の基板部の他方の主面と集積回路素子との間隙に絶縁性樹脂を設けることができ、集積回路素子が集積回路素子搭載パッドからの剥がれや圧電発振器の傾きを防ぐことができる圧電発振器と、生産性を向上させることができる圧電発振器の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a piezoelectric oscillator having an insulating resin in a gap between the other main surface of a substrate portion of an element mounting member and an integrated circuit element that prevents separation from an integrated circuit element mounting pad and inclination of a piezoelectric oscillator; and to provide a method for manufacturing the piezoelectric oscillator to improve productivity.例文帳に追加

素子搭載部材の基板部の他方の主面と集積回路素子との間隙に絶縁性樹脂を設けることができ、集積回路素子の集積回路素子搭載パッドからの剥がれや圧電発振器の傾きを防ぐことができる圧電発振器と、生産性を向上させることができる圧電発振器の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a template substrate for a semiconductor light-emitting element, a semiconductor light-emitting element, a manufacturing method of the same, a lamp, an electronic apparatus and a machinery, which can easily prepare a clean growth surface before laminating a compound semiconductor layer of the semiconductor light-emitting element without the need for a cleaning process before being housed in a second growth device.例文帳に追加

半導体発光素子の化合物半導体層を積層する前に清浄な成長面を容易に準備することができ、第二成長装置に入れる前の洗浄工程が不要な半導体発光素子用テンプレート基板、半導体発光素子及びその製造方法、並びにランプ、電子機器、機械装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide the element isolation formation method of a semiconductor device, that can reduce aspect ratio for forming an element separation film without voids, by minimizing loss in a thermal oxide film on the sidewall of a trench, by completely removing the thermal oxide film on the bottom surface of the trench for normally growing silicon.例文帳に追加

トレンチ側壁の熱酸化膜の損失を最小化し、トレンチ底面の熱酸化膜を完全に除去して正常的にシリコンを成長させて、アスペクト比を減らしてボイドの無い素子分離膜を形成できる半導体素子の素子分離膜形成方法を提供する。 - 特許庁

In a connecting method of PTC element 2 to have a metal- electrode plate 2b, the soldering of lead wire 5 with a connecting part of this metal-electrode plate 2b is made in the state that heat radiation plates 20, 22 are surface contacted between PTC element main body 2a side and the connecting part.例文帳に追加

金属電極板２ｂを有するＰＴＣ素子２の接続方法において、この金属電極板２ｂのＰＴＣ素子本体２ａ側と接続部と間に放熱板２０，２２を面接触した状態でリード線５をこの金属電極板２ｂの接続部に半田付けするようにしたものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for mounting the light emitting element includes a stage of forming a metal projection part 22b at the position where the light emitting element is mounted by selectively etching a surface metal layer 22 laminated on a metal substrate 10 and a stage of forming an electrode 23a nearby the metal projection 22b.例文帳に追加

金属基板１０に積層された表面金属層２２を選択的にエッチングして発光素子の搭載位置に金属凸部２２ｂを形成する工程と、その金属凸部２２ｂの近傍に電極部２３ａを形成する工程と、を含む発光素子搭載用基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing a printable semiconductor element and for assembling the printable semiconductor element on the surface of a substrate, and to provide an extendable semiconductor structure ensuring excellent performance in an extended state, and an extendable electronic device.例文帳に追加

印刷可能半導体素子を製造するとともに、印刷可能半導体素子を基板表面上に組み立てるための方法及びデバイス、及び伸張形態で良好な性能が得られる伸縮可能な半導体構造及び伸縮可能な電子デバイスを提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the mold for molding the optical element which is used for press-molding the optical element composed of a glass, a silicon carbide film or a mixed film of carbon with silicon is formed by implanting silicon ion and carbon ion at least on a molding surface of the mold base material composed of a metal in a 1st process.例文帳に追加

ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型の製造方法において、第１の工程で、金属よりなる型母材の少なくとも成形面にケイ素イオンおよび炭素イオンを注入し、炭化シリコン膜あるいは炭素とシリコンの混合膜を形成する。 - 特許庁

The electrolytic capacitor manufactured by this method has an electrolytic capacitor element, and the capacitor element comprises an anode body formed of a porous sintered material, and a dielectric layer formed on the outer peripheral surface of the anode body and on the inner wall surfaces of plural holes existing in the anode body.例文帳に追加

ここで、該製造方法によって作製される電解コンデンサは、電解型のコンデンサ素子を具え、該コンデンサ素子は、多孔質焼結体からなる陽極体と、該陽極体の外周面上及び陽極体内に存在する複数の孔の内壁面上に形成された誘電体層とを有している。 - 特許庁

To provide a photoelectric transfer element which can adopt Ge suitable for TPV generation as a material and adopt a back face electrode type as an electrode structure by a method wherein an element structure capable of fairly decreasing a recomobination loss of carriers on the surface is included.例文帳に追加

表面でのキャリアの再結合損失を大幅に減少させ得る素子構造を有することで、ＴＰＶ発電用に適したＧｅを材料として採用し且つ電極構造として裏面電極型を採用するのを可能にした光電変換素子を提供する。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion module comprising photoelectric conversion array elements each having an element side first electrode and an element side second electrode on the same surface as the incidence/exit part, where reliability of the photoelectric conversion array elements is ensured easily, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

入出射部と同じ面に素子側第１電極及び素子側第２電極を有する光電変換アレイ素子を備え、光電変換アレイ素子の信頼性が容易に確保される光電変換モジュール、及び、光電変換モジュールの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a p-type semiconductor element with which the surface of a polysilicon layer can be oxidized selectively and, in addition, can suppress the threshold voltage fluctuation of a semiconductor element caused by post-oxidation as much as possible, when the post- oxidation is performed on a gate electrode having a polymetal structure.例文帳に追加

ポリメタル構造を有するゲート電極に対する後酸化を行うとき、ポリシリコン層の表面を選択的に酸化することができ、しかも、後酸化に起因した半導体素子の閾値電圧の変動を出来る限り抑制し得るｐ形半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface mounting device wherein a device element like fusible alloy is accommodated in an insulating case, terminal parts are arranged on the back, and the inner device element is not damaged by infrared ray irradiation when mounting is performed via an infrared ray furnace, i.e., a mounting method is not restricted.例文帳に追加

絶縁ケース内に可溶合金等のデバイス素子を収容し、裏面に端子部を有する表面実装デバイスを、赤外線リフロー炉を通して実装しても赤外線照射により内部のデバイス素子が損傷されない，すなわち実装方法を限定されない表面実装デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a molded material suitable as an electromagnetic induction type heating element and a method for manufacturing the same, and a high temperature superheated steam generating system which is equipped with a plurality of the same, suppresses the occurrence of defects at the surface of heating element even if its use is repeated and can stably produce superheated steam.例文帳に追加

電磁誘導型発熱体として好適な成形材料及びその製造方法、並びに、これを複数備え、使用を重ねても発熱体表面における欠陥の発生が抑制され、過熱蒸気を安定製造することができる高温過熱蒸気生成システムを提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the substrate for mounting the light emitting element, the wiring board having the through-hole for receiving the light emitting element and the metal board which seals the through-hole are bonded through a bonding sheet having a through-hole, and the non-through-hole in which the metal board is exposed on the bottom surface is formed.例文帳に追加

また、発光素子を収容可能な貫通孔を有する配線板と、前記貫通孔を封鎖する金属板とを、貫通孔を有する接着シートを介して張り合わせ、前記金属板が底面に露出する非貫通穴を形成する発光素子搭載用基板の製造方法。 - 特許庁

To provide an optical element having improved light resistance by providing an inorganic/organic laminated layer wherein at least a pair of inorganic/organic laminated films is laminated in the order of the inorganic layer and the organic layer on the surface of a molded part made of a resin, and to provide a method for manufacturing the optical element.例文帳に追加

樹脂製の成形部の表面に無機層−有機層の順からなる少なくとも一対の無機／有機積層膜を積層させた無機／有機積層膜を設けることによって、耐光性を向上させた光学素子、及びその光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method is employed to accurately compart the trench section 32 on the thermal ink jet print head 10 to be etched in the region of a substrate surface 34 and performs etching by protecting the element of an adjacent liquid-drop generator from being damaged by exposing the element to a silicon etchant with a rigid mask.例文帳に追加

サーマルインクジェットプリントヘッド(10)のトレンチ部分(32)を、エッチングされる基板表面(34)の領域を正確に画定し、且つシリコンエッチング液に曝されることによる損傷から近接する液滴発生器の構成要素を保護する強靱なマスクを使用してエッチングする方法。 - 特許庁

An element of LDD structure is formed by a method of manufacturing a semiconductor device using a hard mask in a state wherein a conductive film has been formed so as to cover all of a surface of a substrate, whereby the damage to the element due to the plasma process in the LDD forming process is reduced as much as possible.例文帳に追加

基板全面を覆うように導電性膜を形成した状態で、ハードマスクを利用した半導体装置の作製方法でＬＤＤ構造の素子を形成することにより、ＬＤＤ形成工程におけるプラズマプロセスによる素子への損傷を極力低減する。 - 特許庁

To provide a novel method and an apparatus available therefor, by which the precision or reproducibility of frequency characteristics is sufficiently secured and also a processing efficiency is improved when controlling the frequency of a piezoelectric element such as a surface acoustic wave element.例文帳に追加

弾性表面波素子等の圧電素子の周波数を調整する場合において、周波数特性の充分な精度や再現性を確保することができると同時に、処理効率を高めることのできる新規の方法及びこれに用いることのできる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element, manufacturing a diffraction grating having its depth (coupling coefficient) easily changing to suppress the concavity and convexity on the surface of the diffraction grating of a manufactured element, and thereby decreasing an optical loss and showing characteristics of a side mode being suppressed.例文帳に追加

簡易に深さ（結合係数）が変化する回折格子の作製することができ、作製された素子の回折格子表面の凹凸が抑制されるため、光損失が低減され、サイドモードが抑制された特性を示す半導体素子の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent electrode that is used for an organic electronic element and has superior conductivity, transparency, flexibility, and surface uniformity of a current without damaging the electrode nor a film substrate; and an organic electronic element that uses the transparent electrode and has a superior lifetime.例文帳に追加

有機電子素子に用いることができる、導電性、透明性、フレキシブル性、電流の面均一性に優れた透明電極を、電極やフィルム基板を損傷することなく製造する方法、及び透明電極を用いた、寿命に優れた有機電子素子を提供する。 - 特許庁

The method of producing group 13 metal nitride crystal comprises a process of growing the group 13 metal nitride crystal on a seed in a solution including nitrogen element and the group 13 metal element in a molten salt, wherein a principal plane of the seed is a semipolar surface.例文帳に追加

溶融塩中に窒素元素と第１３族金属元素とを含む溶液において、シード上に第１３族金属窒化物結晶を成長させる第１３族金属窒化物結晶の製造方法であって、該シードの主面が半極性面である第１３族金属窒化物結晶の製造方法。 - 特許庁

To provide a compound semiconductor light emitting element that is provided with a compound semiconductor layer on the surface side of an insulating substrate and a bonding electrode on the rear side of the substrate and can be improved in productivity, and to provide a method of manufacturing the element.例文帳に追加

絶縁性の基板の表側に化合物半導体層が積層されて基板の裏側にボンディング電極を備える化合物半導体発光素子において、生産性を向上させることができる化合物半導体発光素子、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The mounting method includes a step of placing a droplet 20 including a dispersion medium 21 and a single element chip 22 in the dispersion medium 21 on one main surface of a board 10, and a step of placing the element chip 22 on the board 10 by eliminating the dispersion medium 21 from the droplet 20.例文帳に追加

分散媒２１と分散媒２１に入れられた１つだけの素子チップ２２とを含む液滴２０を、基板１０の一主面上に配置する工程と、液滴２０から分散媒２１を除去することによって、素子チップ２２を基板１０上に配置する工程とを含む。 - 特許庁

To provide an optical element manufacturing method that is capable of manufacturing an optical element having predetermined light distribution characteristics, without creating a density distribution in a transparent layer and without reducing yields, and that is capable of ensuring the flatness of the interface surface between a transparent layer of a microlouver and a light absorbing layer.例文帳に追加

透明層の密度分布を生じさせず、歩留まりの低下を来すことなく、かつ、マイクロルーバの透明層と光吸収層との境界面の平面度を確保することが可能な、所定の配光特性を有する光学素子を製造することができる光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the film formation method according to thus invention, unevenness is formed on the surface of a roller for coating a paste as a film on the side free of a columnar element, coating paste in correct thickness is formed on the element by holding a sufficient amount of paste on the roller, and a smooth and uniform film is formed.例文帳に追加

本発明による膜形成方法は、膜となるペーストを円柱状素子の側面に塗布するローラ表面に凹凸を形成して、ローラに十分量のペーストを保持させることで適正な厚みのペーストを素子に塗布し、平滑、均一な膜が形成できるようにした。 - 特許庁

To provide a method and device for measuring a photoelectric transfer characteristic of a solar cell element, wherein a stable contact not affected by a probe and a probe driving mechanism with respect to a light irradiated on a light receiving surface is materialized, so that a measuring accuracy of the photoelectric transfer characteristic of the solar cell element can be enhanced.例文帳に追加

太陽電池素子の光電変換特性の測定方法及び装置において、受光面に照射される光に対してプローブ及びプローブ駆動機構での影響がない安定した接触を実現することで、太陽電池素子の光電変換特性の測定精度を向上させる。 - 特許庁