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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface stepに関連した英語例文

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surface stepの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 6410



例文

The step of dry-etching dry-etches the entire surface of the interlayer insulating film 11 having the recess 13 after the mask 12 is removed.例文帳に追加

前記ドライエッチングの工程で、前記マスク12が除去された後に、前記リセス13を有する前記層間絶縁膜11の表面全体をドライエッチングによりエッチングする。 - 特許庁

The wash basin mounting part 2 is fitted by allowing both sides on the rear surface to be engaged with recessed step parts 4b which are formed on both sides of the recessedly bending part 4a in the counter body part 4.例文帳に追加

洗面器置き部2を、カウンター本体部4の凹湾曲部4aの両側に形成している凹段差部4bに、裏面の両側を係合させて嵌め合わす。 - 特許庁

To improve the yield of a peeling step in fabricating an SOQ (silicon on quartz) substrate, and to improve the surface state of an SOI (silicon on insulator) substrate to be acquired in peeling.例文帳に追加

SOQ基板の作製時における剥離工程での歩留まりを向上させるとともに、剥離により得られるSOI層の表面状態を良好なものとすること。 - 特許庁

In the fourth step, the photo resist film is removed, and while the silicon oxide film is used as a mask, the main surface of the semiconductor is etched together with the I-type semiconductor layer.例文帳に追加

第4工程は、上記ホトレジスト膜を除去して上記酸化シリコン膜をマスクとして上記I型半導体層を含めた上記半導体主面をエッチングする。 - 特許庁

例文

In the cylindrical part groove forming step, after a photo resist is applied to the outer peripheral surface of the cylindrical portion 12, the cylindrical portion is rotated about an axis in a solvent steam.例文帳に追加

円筒部溝形成ステップでは、フォトレジストを円筒部分12の外周面に塗布した後、溶媒蒸気中で円筒部分の軸心を中心に回転させる。 - 特許庁


例文

FORMING METHOD OF UPPER MAGNETIC POLE LAYER OF THIN FILM MAGNETIC HEAD, FORMING METHOD OF FINE BLOCK PATTERN OF HIGH ASPECT RATIO ON BOTTOM OF STEP ON SURFACE HAVING STEPS, AND THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドの上部磁極層の形成方法、段差を有する表面の段差底部上に高アスペクト比微細ブロックパターンを形成する方法、並びに、薄膜磁気ヘッド - 特許庁

Then, a tip of the bonding wire 400 is contacted and crimped with the bond point (for example, the semiconductor chip 10) by using a tip surface (not shown) of the capillary 300(crimping step).例文帳に追加

次いで、ボンディングワイヤ400の先端を、キャピラリ300の先端面(非図示)でボンド点(例えば半導体チップ10)に接触させて圧着する(圧着ステップ)。 - 特許庁

A focus controller 17 shifts an objective lens 7 to detect a focus position (drive voltage V1) on a recording surface of an optical disc 1 when the optical disc is stopped (first step).例文帳に追加

フォーカス制御部17は、光ディスク1を停止状態にて対物レンズ7をシフトさせ光ディスクの記録面へのフォーカス位置(駆動電圧V1)を検出する(第1ステップ)。 - 特許庁

The small-scale pavement repair technique comprises a step of uniformly placing on a road surface 1 to be repaired a modified asphalt emulsion mixture 6 in a heated condition containing aggregates and fibers.例文帳に追加

補修対象路面1上に、骨材と繊維を含み加熱状態にある改質アスファルト乳剤混合物6を敷き均す工程を含む小規模舗装補修工法。 - 特許庁

例文

Further, the IDT electrode is subjected to anodic oxidation to form an anodic oxide film in prescribed film thickness on the surface of the IDT electrode, adjusting a resonance frequency (step 56).例文帳に追加

さらに、IDT電極を陽極酸化してIDT電極の表面に所定膜厚の陽極酸化膜を形成して共振周波数の調整を行なう(ステップ56)。 - 特許庁

例文

On the substrate 1, a driving electrode 4 which is extended to the groove bottom 2A of the shallow step 3 from the surface 1A of the substrate 1 is fixed.例文帳に追加

また、基板1には、可動電極2と直交して基板1の表面1Aから浅段差部3の溝底3Aまで延びる駆動電極4を固着して設ける。 - 特許庁

In the manufacturing process of a semiconductor device, a method is indicated, where the method includes a step for exposing the surface of the substrate to a rapid thermochemical vapor deposition(RTCVD).例文帳に追加

半導体デバイスの製造プロセスにおいて、基板の表面を、窒化膜を形成する急速熱化学蒸着(RTCVD)プロセスに暴露する段階を含む方法を示す。 - 特許庁

In the pattern forming step, the glass substrate 2 is preferably subjected to split exposure using a plurality of photomasks corresponding to a plurality of surface regions on the glass substrate 2.例文帳に追加

好ましくは、パターンを形成する工程では、ガラス基板2上の複数の面領域に対応する複数のフォトマスクを用いて分割露光することが行われる。 - 特許庁

Contacting a probe stylus with an electrode pad measures various electric characteristics of the surface acoustic wave device formed on a wafer in an inspection step S102.例文帳に追加

検査工程S102においては、電極パッドにプローブ針を接触させてウェハ上に形成された弾性表面波デバイスの各々の電気的特性を測定する。 - 特許庁

When the light transmitting cap 3a is resistance-welded to a metal stem 1a, the end surface of the annular step 35 is made to bear against the base unit 11a of the metal stem 1a.例文帳に追加

光透過キャップ3aを金属ステム1aに抵抗溶接する際には、環状段差部35の端面が金属ステム1aのベース部11aに当接する。 - 特許庁

The actuator 60 is provided with an engaging portion 61a for engaging with a step portion 56 of the moving rod 50, and an abutting portion 62a for being pressed to a bottom surface of the cassette 5 and then pushed downward.例文帳に追加

このアクチュエータ60は、移動ロッド50の段部56を係止する係止部61aと、カセット5の底面側に押圧して押し下げられる当接部62aとを備える。 - 特許庁

In addition, a detecting electrode 6 which is extended to a groove bottom 5A of the deep step 5 from the surface 1A of the substrate 1 is also fixed.例文帳に追加

さらに、基板1には、可動電極2と直交して基板1の表面1Aから深段差部5の溝底5Aまで延びる検出電極6を固着して設ける。 - 特許庁

First, a surface modifier is attached to a black matrix (between pixels) formed on the electro-optic panel substrate with a liquid drop jet device (a step S101).例文帳に追加

まず、電子光学パネルの基板に形成されたブラックマトリックス(画素の間)上に、液滴吐出装置を用いて表面改質剤を付着させる(ステップS101)。 - 特許庁

A pair of side pole parts 11 laid on the wall surface w and a step part 12 constructed at a predetermined interval between the paired side pole parts 11 are integrally formed.例文帳に追加

壁面wに敷設される一対の側柱部11と、一対の側柱部11間に所定の間隔をおいて架設されたステップ部12とを一体的に形成する。 - 特許庁

Next, the silicon single crystal substrate PW is baked at 950°C or higher in a hydrogen gas, and a natural oxide film on the main surface of the silicon single crystal substrate PW is dry-etched (step S7).例文帳に追加

次に水素ガス中でシリコン単結晶基板PWを950℃以下でベーキングし、シリコン単結晶基板PWの主表面上の自然酸化膜をドライエッチングする(ステップS7)。 - 特許庁

Thus, the method of this invention is for manufacturing a device including the piezoelectric film and is characterized in that the method includes a step where the surface roughness and the deposition of the electrode are controlled.例文帳に追加

従って、本発明の方法は、ピエゾ電子フィルムを含むデバイスを製造する方法で、電極の表面粗さと堆積を制御するステップを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a first step, a treating object 10 having conductivity is arranged, facing a dielectric 24 covering the surface of an HOT electrode 22 that impresses voltage.例文帳に追加

第1のステップにおいて、電圧を印加するHOT電極22の表面を覆う誘電体24に対向して、導電性を有する被処理物10を配置する。 - 特許庁

In the particle mixing step, needle-like inorganic fine particles and resin fine particles are mixed to obtain mixed particles in which resin fine particles are adhered on the surface of the needle-like inorganic fine particles.例文帳に追加

粒子混合工程では、針状無機微粒子と、樹脂微粒子とを混合して、針状無機微粒子の表面に樹脂微粒子を付着させた混合粒子を得る。 - 特許庁

An amount of etching on the surface of the working strain layer 12 is controlled in the step of etching removal to adjust dislocation density in the non-diffusion layer 15.例文帳に追加

ここで、上記エッチング除去の工程において加工歪み層12の表面のエッチング量を制御することにより非拡散層15内の転位密度を調節する。 - 特許庁

Furthermore, the step mat is formed by covering whole upper surface of the core material 1 onto which the powdery medicine 5 is sprayed with an air permeable cloth 3 of an acrylic fiber.例文帳に追加

さらに、そのパウダー状の薬剤5を散布した芯材1の上面全面に通気性を有するアクリル繊維製の布地3を被せて足踏みマットができあがる。 - 特許庁

The method for manufacturing the extrusion molding comprises the step of manufacturing the extrusion molding having the base made of a first material 5 and the film made of a second material 6 and formed on the wall surface of the base.例文帳に追加

第一の材料5からなる基体と、基体の壁面上に形成された、第二の材料6からなる膜とを備える押出成形体を製造する。 - 特許庁

The memory hard disk is produced through a step forming a predetermined linear pattern on the surface of the substrate for the memory hard disk by using the composition for textured finish.例文帳に追加

そして、このテクスチャー加工用組成物を用いてメモリーハードディスク用の基盤(サブストレート)表面に所定の筋目を形成する工程を経てメモリーハードディスクは製造される。 - 特許庁

The stud type track roller bearing is formed with a ring-shaped step 9 having an inside diameter larger than that of a raceway surface 17 at each end 36 of an outer ring 2.例文帳に追加

このスタッド形トラックローラ軸受は,外輪2の両端部36に軌道面17の内径より大きい内径を有するリング状の段部9が形成されている。 - 特許庁

To provide a more reliable and smaller-sized electrochemical device capable of simplifying a step of cutting a current collector sheet in a manufacturing process, and capable of surface-mounting.例文帳に追加

製造過程において集電体シート切断工程を簡略することができ、かつ信頼性の高い、小型の表面実装可能な電気化学素子を提供することにある。 - 特許庁

A method is provided that comprises a step of forming a porous layer 12 having a plurality of layers with different porosity rates by applying anodization to the surface of a semiconductor substrate for a plurality of times.例文帳に追加

半導体基体表面に複数回の陽極化成処理を行い、多孔率の異なる複数の層からなる多孔質層12を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solid-state imaging element, wherein a step shape for suppressing light interference is formed on an incident surface of light while suppressing the number of processes.例文帳に追加

工程数を抑えつつ、光の干渉を抑える段差形状を光の入射面に形成することができる固体撮像素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A negative-electrode active material layer having an uneven pattern is formed on a surface of a copper foil as a negative-electrode current collector by applying application liquid by a nozzle-scan coating method (a step S102).例文帳に追加

負極集電体たる銅箔表面に対し、ノズルスキャン法により塗布液を塗布して凹凸パターンを有する負極活物質層を形成する(ステップS102)。 - 特許庁

To provide a method of atomizing an organic pigment which can be commercialized cost-wise in a simple step and is endowed with solidness and surface treated organic pigment particles.例文帳に追加

簡易な工程でコスト的にも工業化可能で、かつ、堅牢性が付された有機顔料の微細化方法及びその表面処理有機顔料粒子を提供する。 - 特許庁

To attain mounting of a pin mounting component by the same soldering step as that for a surface mounting component and to attain quality improvement and cost reduction.例文帳に追加

ピン実装部品を表面実装部品と同一のはんだ付け工程により実装することができ、しかも品質の向上とコストの低減を図ることができる。 - 特許庁

Thus, a part of an inner surface 50A of the nail guide 50 for regulating a connecting part between the reduction part 50b and the expansion part 50c, constitutes a step part 51 forming an engaging part.例文帳に追加

このため、縮小部50bと拡大部50cとの接続部分を規定するネイルガイド50の内面50Aの部分は、係合部をなす段部51を構成している。 - 特許庁

The main wheels and the movable members are returned to original positions by temporarily raising the moving device on the floor surface on the step to lock the main wheels to the usual position.例文帳に追加

段差上の床面において、移動装置を一旦異端持ち上げることで、主車輪及び可動部材をもとの位置に戻して主車輪を通常位置にロックする。 - 特許庁

The method includes a step of irradiating the ink 144 disposed on a first surface of a porous substrate 140 with radiation 122 emitted by at least one flash lamp.例文帳に追加

多孔質下地140の第1の面に付着させたインク144を少なくとも1個の閃光灯が照射する照射線122を用いて照射する工程を含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a cleaning step of fully removing deposits, with the surface of a silicide layer unoxidized.例文帳に追加

デポ物を充分除去することを可能とし、かつシリサイド層表面を酸化することが無い洗浄工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To efficiently design a dummy pattern to be formed on a wiring layer for eliminating the surface step of polished surfaces after a chemical mechanical polishing(CMP) process in a production process of semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程でCMP(Chemical Mechanical Polishing)工程後の研磨面の表面段差を解消するために配線層に形成するダミーパターンを効率よく設計する。 - 特許庁

The method further includes a step of redirecting the cooling medium (32) with the louvers (52) to flow the cooling medium (32) across a surface of the center body (34).例文帳に追加

本方法はさらに、冷却媒体(32)をルーバ(52)により配向し直して、該冷却媒体(32)を中心胴体(34)の表面を横切って流すステップを含む。 - 特許庁

Since the antistatic layer 5 resides even when the adhesive layer 3 is cut through a dicing step, moving paths of generated charges are secured in the surface of the adhesive layer 3.例文帳に追加

ダイシング工程により粘着剤層3を切断しても、帯電防止層5が存在するため、粘着材層3の表面には発生した電荷の移動経路が確保される。 - 特許庁

To provide a method of forming a silicon oxide film which can be formed at low temperature, and has superior surface flatness, recessed part burying properties, and step coverage, and also has a superior film forming speed.例文帳に追加

低温での成膜が可能であり、表面平坦性、凹部埋めこみ性、ステップカバレッジに優れ、成膜速度にも優れるシリコン酸化膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

A silicone cylinder (2) is obliquely fixed on the board fitting to the hole at the surface center, and a silicone step (3) of a U letter shape is disposed on the back of the silicone board (1) so as to surround the hole.例文帳に追加

表面中央の穴に合わせて斜めに、シリコンの円筒(2)をつけ、シリコン版(1)の裏に穴を囲むようにシリコンのUの字型の段差(3)をつける。 - 特許庁

If sense-of-force sensors begin to detect the normal line forces, the robot hand is raised while increasing the normal line force to slide the respective fingers along the surface of the matter (step S2).例文帳に追加

力覚センサが法線力を検知し始めたら、法線力を増加させながらロボットハンドを上昇させて、各指を物体の表面に沿って滑らせる(ステップS2)。 - 特許庁

A guiding light 3 lighting when an underground atmosphere darkens, is buried into a vertical wall surface 2 of the lowest step 1 on the stairs S from the underground railway or underground shopping area to the ground.例文帳に追加

地下鉄又は地下街から、地上への階段Sに於ける最下段部1の鉛直壁面2に、地下雰囲気が暗くなると点灯する誘導灯3を、埋設する。 - 特許庁

In the temporary baking step, thermal treatment is performed to thereby form an MOD film that is a precursor film of the superconductor from the solution film on the surface of the tape-like substrate.例文帳に追加

仮焼成工程では熱処理することにより、テープ状基材の表面の溶液膜から超電導体の前駆体膜であるMOD膜を形成する。 - 特許庁

In this method for forming a mask, a polymer layer 12 having a flat surface is formed on a semiconductor substrate 11 subjected to a specified processing so as to cover a step 11a thereof.例文帳に追加

所定の処理を施される半導体基板11の段差11aを埋め、平らな表面を有するポリマー層12を、半導体基板11上に形成する。 - 特許庁

In the first tip, a cutting face is provided with a breaker having a step, or the surface roughness of the cutting face is set larger than that of the cutting face of the second tip.例文帳に追加

第1のチップは、すくい面に段差を有するブレーカを設けるあるいはすくい面の表面粗さを前記第2のチップのすくい面の表面粗さよりも粗くする。 - 特許庁

As the rectangular waveguide 2 where the cut-off frequency increases with the distance from the end surface of the opening, a waveguide of a tapered shape or a step shape can be employed.例文帳に追加

開口端面からの距離にしたがって遮断周波数が高くなる矩形導波管2として、テーパ形状やステップ形状の導波管を採用することができる。 - 特許庁

例文

A method for making the composite membrane includes a step of applying a photopolymerizable composition including a POSS compound, the hydrophilic comonomer and a photoinitiator to the surface of the filtration membrane.例文帳に追加

複合膜を作成する方法は、ろ過膜の表面に、POSS化合物、親水性コモノマー、及び光開始剤を含んだ光重合可能組成物を塗布するステップを含む。 - 特許庁




  
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